高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦
光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
B2WX#/lgd JP*mQzZL
c7!`d.{90 -" K:ve(K 2. 建模任务 O t<%gj;^
Qnx92
tvxcd*{ 6YGr"Kj & 3. 概述 ;*H~Yb0 =u"|qD EZRZ)h 示例
系统包含了高数值
孔径物镜 Ayt!a+J 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
:.df( 1(RL >*xzSd?\
,#OG/r-H 31Mc<4zI8 4. 光线追迹仿真 ()
;7+ !$#4D&T FY*0gp 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
$_5v^QL 点击“Go!”。
A|Gqjy^;@ 随即获得3D光线追迹结果
o}Np}PE6 9GaER+d|
1M+!cX g``4U3T%X 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。 点击“Go!”。
u5M{s;{11r 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
J"|$V#
UF&Wgj [ 5. 场追迹仿真 )E2Lf] .e#j#tQp ^-Ji]5~ 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
L$Z_j()2 点击“Go!”。
zZiVBUmE< h9n CSj
Av]N.HB$ x^BBK' 6. 场追迹结果(相机探测器) t}l<#X5 SX;IUvVE5 -bfd><bs 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
}C#d;JC 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
ohk =7d.' n//a;m
O v6=|]cW 7. 场追迹结果(电磁场探测器) ^KR(p!% 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
{qyo# 6d8