高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦
光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
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ep5`&g]3 %'. x vC 2. 建模任务 ^"iL|3d
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_I,GH{lh I 7N OF^/nU 3. 概述 TntTR"6aD hc]p^/H keQRS+9 示例
系统包含了高数值
孔径物镜 >ZgV8X: 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
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c!1} 4. 光线追迹仿真 /VEK<.,aMv `{IL.9M!f >^,?0HP 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
;U a48pSv 点击“Go!”。
|eye) E: 随即获得3D光线追迹结果
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:T@} CJ fpO2bD%$8 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。 点击“Go!”。
Xyz/CZPi 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
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HHgv,bC! 5. 场追迹仿真 \v{HjqVkC I;?PDhDb =l]
lwA- 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
kQ2WdpZ/ 点击“Go!”。
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e:N;Jx# m9c`"! 6. 场追迹结果(相机探测器) P,G
:9x"e Y>8JHoV ]w4?OK(j 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
ESFJN}Q%0. 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
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G 7. 场追迹结果(电磁场探测器) 33~8@]b 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
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