高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦
光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
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c;0Vs,DUmG 8to8!( 2. 建模任务 zZcnijWb
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E%oY7.~- O$/o'"@ / 3. 概述 AfeCK1mC @ bXUy9-L ~/^5) g_ 示例
系统包含了高数值
孔径物镜 ~qe%Yq 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
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las"z {7 TlN.(
vAY,E=&XvM bVP"(H] 4. 光线追迹仿真 N7E$G{TT su*Pk|6% `qJw|u>YpJ 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
niB`2J 点击“Go!”。
gs!(;N\j| 随即获得3D光线追迹结果
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9zYVC[o 4_Dp+^JF 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。 点击“Go!”。
T~QJO0 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
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{uzf"%VtP 5. 场追迹仿真 __mF?m jZ NOt W9NX=gE4 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
D %Xo&V[ 点击“Go!”。
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F:x [ dOa%9[ 6. 场追迹结果(相机探测器) RKPO#qju\F >EY3/Go> ;b-XWK= 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
J:V?EE,\- 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
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@)J+,tg/7 7. 场追迹结果(电磁场探测器) U&O:
_>~ 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
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