高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦
光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
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o[cOL^Xd1 f]8MdYX( 2. 建模任务 y62f{ks_/
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e?.j8Q~ ^T!Zz"/: 3. 概述 V*b/N oh< -&3Jn YK)m6zW5 示例
系统包含了高数值
孔径物镜 qg& /!\ 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
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`s)4F~aVo -n.m "O3 4. 光线追迹仿真 ,fp+nu8, PP$sdmo n7fhc*}:` 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
HpEd$+Mz 点击“Go!”。
4W"A*A 随即获得3D光线追迹结果
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MvpJ0Y ( @v%Kw e1Q 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。 点击“Go!”。
`.MZ,Xhqi" 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
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D{N8q^Cs9 5. 场追迹仿真 gS~H1Ro QEs$9a5TE =\< 7+nv 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
Ab ,^y 点击“Go!”。
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m`-);y N1ipK9a 6. 场追迹结果(相机探测器) "@&TC"YG0 ekhv.;N~ *)Qv;'U=rn 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
Vx $;wU Y 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
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b]]8Vs)' 7. 场追迹结果(电磁场探测器) W<)P@_+- 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
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