高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦
光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
OFUN hbg f \4Qp )8 iDjNM< <{cPa\ 2. 建模任务 J qU%$[w
2TAy'BB;)
/M'b137 0@xuxm/i 3. 概述 Jl^oDW 8#oF7eE 4P`\fz 示例
系统包含了高数值
孔径物镜 dxASU|Yo9 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
[;X YT @MN>ye'T j*6!7u.,K qi/%&)GZ 4. 光线追迹仿真 yp :yS 4CN8>J'- v}cm-_*v 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
iP_rEi*-J 点击“Go!”。
B:^U~s R 随即获得3D光线追迹结果
33u7 c 9ghR0WM C-2n2OM. N Z.aI{ 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。 点击“Go!”。
2_Pe/ 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
uM4,_)L pXQ&2s$ 5. 场追迹仿真 (+Uo;)~!YC *:d_~B?Tn Pb~S{): 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
+osY
iP5 点击“Go!”。
0,/[r/=jT ' u0{h n*;mFV0s -eNi;u 6. 场追迹结果(相机探测器) $[]=6.s S)[2\Z{**T 7tr.&A^c 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
Xi|v!^IT 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
W``e6RX- i:zA( :Mt/6} 7. 场追迹结果(电磁场探测器) |]B]0J#_ 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
({i| d&U;rMEv