高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦
光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
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b[$%Wg Vj_(55WQ 2. 建模任务 s<5q%5ix3
k$y(H;XA
eft-]c+*0 38b%km# 3. 概述 DKm` cv eTrY}g [Tby+pC 示例
系统包含了高数值
孔径物镜 .%+'Ts#ie 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
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`Ualai l<<0:~+q 4. 光线追迹仿真 "B*a|
'n! n9]^v-]K Nt,)5_K < 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
TDBWYppM 点击“Go!”。
k:4 Zc3 随即获得3D光线追迹结果
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xyj)W Yd~K\tX:n 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。 点击“Go!”。
m~1{~' 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
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LG'JQGl5 5. 场追迹仿真 R[LVx-e7' ~:b bV6YO sqi~j(&\1 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
yA?>v'K 点击“Go!”。
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[&|Le;h BF<7.<, 6. 场追迹结果(相机探测器) /*`BGNkYY >aW|W!. 0aQtJ0e16 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
k(C?6Gfj 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
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NLyvi,svS 7. 场追迹结果(电磁场探测器) fKOm\R47 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
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