第22期线上培训招生 | Ansys Zemax 成像设计课程 最新升级!
为更好地培养行业人才,武汉宇熠在原有 Zemax 成像设计培训的基础上进行了课程提炼和升级。培训由宇熠高级光学工程师主讲,针对序列成像设计,帮助学员们掌握 优化技巧、公差分析技巧、热分析、像质评价、坐标变换 等知识点。
本次培训会根据最新的 Ansys Zemax 功能特色,结合当今实际的镜头设计过程中可能碰到的问题,来给大家总结出一些最新的解决方案。不仅有理论上的知识分享,还有更多的实操环节,以理论结合实践的方式,提高大家的学习效率。 培训大纲 · Ansys Zemax OpticStudio 简介 · 数据库;镜头库,材料库 · 玻璃材料以及如何定义新材料 · 像差简介以及Ansys Zemax中的像差图表 · 优化原理和优化向导 · 局部/全局/锤形优化/优化操作数 · 实例:单透镜/双透镜的建模和优化 · 热分析和消热差优化 · 二元面及衍射光学表面 · 鬼像及杂散光分析 · 调制传递函数MTF和成像质量评估 · 双高斯镜头的设计与优化,图像模拟功能 · Ansys Zemax中的坐标系统 · 坐标间端面及其使用技巧 · 序列模式中的棱镜模型 · 实例:扫描振镜 · 实例:投影系统设计,科勒照明系统设计 · 混合模式和非序列模式 · 黑盒系统 · Ansys Zemax中的快速优化工具 · 寻找最佳非球面/转换非球面类型 · 公差分析简介 · 制造误差和装配误差 · 公差评价标准 · 灵敏度/反灵敏度/蒙特卡罗分析 · 公差补偿器 · 公差操作数 · 实例:对单透镜/库克三片镜进行公差分析 · 公差报告详解 · 公差脚本简介 · 镜片/CAD制图 培训信息 主办单位:武汉宇熠科技有限公司 培训主题:Ansys Zemax 成像设计 培训形式:线上培训 培训时间:2022年11月29~30日 (9:00-17:00) 培训费用:¥ 1980元 / 人 (三人及以上组团报名可享八折优惠)、 报名方式:扫码报名 注意: 如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。 分享到:
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