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z ]w>o=<?b 内容简介 NjZ~b/ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 I ?Dp*u* 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 6 /YJA* 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 d2Q*1Q@u 讯技科技股份有限公司 q 0F6MAXj
FfM^2`xP }NyQ<,+mq& 目录 QPB,B>Z Preface 1 _rB,N#{2R= 内容简介 2 uU3A,-{- 目录 i G`n
$A/9Q 1 引言 1 CR'%=N04^ 2 光学薄膜基础 2 "g5{NjimY 2.1 一般规则 2 8O]`3oa> 2.2 正交入射规则 3 2rT^OGw6 2.3 斜入射规则 6 Y&yfm/R u 2.4 精确计算 7 9x@|%4Zm" 2.5 相干性 8 l[:Aq&[o3 2.6 参考文献 10 Gu~*ZKyJ 3 Essential Macleod的快速预览 10 \t=0rFV)t 4 Essential Macleod的特点 32 ="YGR: 4.1 容量和局限性 33 e1-tpD:J 4.2 程序在哪里? 33 y8s!sO 4.3 数据文件 35 ?v
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! 4.4 设计规则 35 NCkI[d]B@ 4.5 材料数据库和资料库 37 ? nW>'z 4.5.1材料损失 38 JXJ+lZmsz 4.5.1材料数据库和导入材料 39 :CE4<
{V 4.5.2 材料库 41 SdYf^@%}F 4.5.3导出材料数据 43 Cty#|6k 4.6 常用单位 43 Oq.ss!/z 4.7 插值和外推法 46 BJUj#s0$ 4.8 材料数据的平滑 50 ?'P}ZC8P 4.9 更多光学常数模型 54 !-7n69:G 4.10 文档的一般编辑规则 55 4Wiy2 4.11 撤销和重做 56 wUCxa>h' 4.12 设计文档 57 K#Ck,Y" 4.10.1 公式 58 @5nFa~*K% 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Q"qI'*Kgt 4.10.3 沉积密度 59 ~I5hV}ZT 4.10.4 平行和楔形介质 60 '?9zL* 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 HGGq;Nbm 4.10.4 性能 61 pc*)^S 4.10.5 保存设计和性能 64 A!bG 2{r 4.10.6 默认设计 64 p@G7}'|eyA 4.11 图表 64 )6)bI.BY 4.11.1 合并曲线图 67 kh0cJE\_^ 4.11.2 自适应绘制 68 EpAgKzVpJ 4.11.3 动态绘图 68 g&FTX>wX 4.11.4 3D绘图 69 2DCQ5XewYe 4.12 导入和导出 73 4MS<t FH) 4.12.1 剪贴板 73 :82h GU 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 3{3@>8{w 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 tNTSy= 4.13 背景 77 en< $.aY 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 06pvI} 4.15 生成Rugate 84 @zg}x0] 4.16 参考文献 91 *XTd9E^tXq 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 0y9 b0G 5.1 Jobs 92 p +i1sY 5.2 创建一个新Job(工作) 93 xN-,gT'! 5.3 输入材料 94 ZkbE&7Z 5.4 设计数据文件夹 95 yU
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YV-7 5.5 默认设计 95 sE"s!s/ 6 细化和合成 97 NGc~%0n 6.1 优化介绍 97 ,Z"<-%3 6.2 细化 (Refinement) 98 -x//@8" 6.3 合成 (Synthesis) 100 p)IL(_X) 6.4 目标和评价函数 101 I$7eiW @ 6.4.1 目标输入 102 G>V6{g2Q 6.4.2 目标 103 {.:$F3T 6.4.3 特殊的评价函数 104 Z4VFfGCTL 6.5 层锁定和连接 104 sW[-qPK< 6.6 细化技术 104 &$
h~Q 6.6.1 单纯形 105 B3#G 6.6.1.1 单纯形参数 106 3xChik{ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 >aVgI<
6.6.2.1 Optimac参数 108 qNEp3WY: 6.6.3 模拟退火算法 109 5BhR4+1J 6.6.3.1 模拟退火参数 109 GI% &.V d 6.6.4 共轭梯度 111 cszvt2BIg 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 P3_.U8g$r 6.6.5 拟牛顿法 112 !$Nj! 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 9"P|Csj 6.6.6 针合成 113 ,'X"(tpu@ 6.6.6.1 针合成参数 114 fW-C`x 6.6.7 差分进化 114 11=$]K> 6.6.8非局部细化 115 (GSP3KKo*G 6.6.8.1非局部细化参数 115 I^?tF'E 6.7 我应该使用哪种技术? 116 PXb$]HV 6.7.1 细化 116 ukWn@q* 6.7.2 合成 117 tq3_az ~1 6.8 参考文献 117 ||Zup\QB 7 导纳图及其他工具 118 ix3LB!k< 7.1 简介 118 MYAt4cHc2 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Kw
-SOFE 7.2.1 四分之一波长规则 119 -R`{]7V 7.2.2 导纳图 120 `S
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