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g?'pb*PR mF7T=pl 内容简介 O4H %x Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 g).k+ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 qw={gZ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ~Y]*TP 讯技科技股份有限公司 tu{y
UlF=,0P i]oSVXx4WC 目录 wju2xM Preface 1 t F^|,9_< 内容简介 2 7v\K,P8 目录 i X-[_g!pV 1 引言 1 #Q320}]{ 2 光学薄膜基础 2 s2s}5b3 2.1 一般规则 2 ANgfG8> 2.2 正交入射规则 3 7[aSP5e>T 2.3 斜入射规则 6 OY$P8y3MY 2.4 精确计算 7 f~nAJ+m= 2.5 相干性 8 BCN<l +u 2.6 参考文献 10 ?L.c~w;l 3 Essential Macleod的快速预览 10 Byq4PX%B 4 Essential Macleod的特点 32 g!%C_AI 4.1 容量和局限性 33 57W4E{A 4.2 程序在哪里? 33 H3<
` 4.3 数据文件 35 ~&) 4.4 设计规则 35 #SWL$Vm> 4.5 材料数据库和资料库 37 U)mg]o-VE 4.5.1材料损失 38 GjF'03Z4 4.5.1材料数据库和导入材料 39 >:7W.QLRU 4.5.2 材料库 41 96M?tTa 4.5.3导出材料数据 43 ;;4xpg 4.6 常用单位 43 tu(k"'aJ 4.7 插值和外推法 46 7I.7%m,g 4.8 材料数据的平滑 50 pi`sx[T@{Z 4.9 更多光学常数模型 54 ~]t/|xep 4.10 文档的一般编辑规则 55 TK"!z(p 4.11 撤销和重做 56 .CXe*Vbd
4.12 设计文档 57 Zr!he$8(2 4.10.1 公式 58 GMLDmTV 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 'J*)o<% 4.10.3 沉积密度 59 CH
h]v.V 4.10.4 平行和楔形介质 60 +Fu=9j/,j 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 X[pk9mha 4.10.4 性能 61 \g|u|Y.2[ 4.10.5 保存设计和性能 64 &j2fh!\4 4.10.6 默认设计 64 ^'"sFEV7RN 4.11 图表 64 !L5[s 4.11.1 合并曲线图 67 ?9<byEO%M 4.11.2 自适应绘制 68 )dFTH?Mpo 4.11.3 动态绘图 68 \ dpsyc 4.11.4 3D绘图 69 `a.1Af;L 4.12 导入和导出 73 ,]ALyWGuX 4.12.1 剪贴板 73 F,B, D^WD 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 7=jeq|&kN 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 )2c[]d/a4 4.13 背景 77 3W*O%9t7 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 pfCNFF*" 4.15 生成Rugate 84 dL9QYIfP 4.16 参考文献 91 ;1`NsYI2 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 nx<q]Juv\ 5.1 Jobs 92 T?=[6 5.2 创建一个新Job(工作) 93 K<`"Sr 5.3 输入材料 94 Oh9jr"Gm= 5.4 设计数据文件夹 95 v&:R{ 5.5 默认设计 95 lqC
a%V 6 细化和合成 97 ]stAC3 6.1 优化介绍 97 VU>s{_|{ 6.2 细化 (Refinement) 98 wg? :jK 6.3 合成 (Synthesis) 100 Q^qG= 6.4 目标和评价函数 101 @21G[!%J 6.4.1 目标输入 102 GnbXS> 6.4.2 目标 103 TI-#\v9 6.4.3 特殊的评价函数 104 Jt4T)c9 6.5 层锁定和连接 104 N"~P` H![x 6.6 细化技术 104 D_E^%Ea&` 6.6.1 单纯形 105 J[<3Je=>$ 6.6.1.1 单纯形参数 106 SZ}t_w ` 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 U4*5o~!=S 6.6.2.1 Optimac参数 108 5gq3 >qo 6.6.3 模拟退火算法 109 ["N>Po 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Vxif0Bx&/d 6.6.4 共轭梯度 111 r ]1|I6:&) 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 !ViHC}: 6.6.5 拟牛顿法 112 RB'12^[ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 fU~>A-P 6.6.6 针合成 113 wxPg*R+t 6.6.6.1 针合成参数 114 2vKnxK+ 5 6.6.7 差分进化 114 9;;1 "^4/ 6.6.8非局部细化 115 NXDV3MH= 6.6.8.1非局部细化参数 115 DC`6g#*< 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Cm}ZeQ 6.7.1 细化 116 \@4QG.3& 6.7.2 合成 117 ?|^1-5l3 6.8 参考文献 117 &eY$(o-Hw 7 导纳图及其他工具 118 Pw
/wAUt 7.1 简介 118 >'^l>FPc 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 B!<{s' 7.2.1 四分之一波长规则 119 =}7wpTc, 7.2.2 导纳图 120 B7t#H? 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Uk ?V7?& 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 `Pl=%DR 7.5 斜入射导纳图 141 (m3p28Q? 7.6 对称周期 141 :[(X!eP 7.7 参考文献 142 (B]Vw+/ 8 典型的镀膜实例 143 a|?CC/Ra 8.1 单层抗反射薄膜 145 $K<jmEC@< 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 +cy(}Vp 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 1Sz5&jz 8.4 W-膜层 148 wrsETB
c 8.5 V-膜层 149 >1s:F5u" 8.6 V-膜层高折射基底 150 oF
V9t{~j 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 =]W{u` 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 [4xN:i 8.9 四层抗反射薄膜 153 =NJb9S&8A 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 J+DuQ;k; 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 m/Yi;>I( 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 E pM
4+ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 >47,Hq:2 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 C
UBcU 8.15十五层宽带抗反射膜 159 2b|vb}|t{ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 (nda!^f_s 8.17 1/4波长堆栈 162 B0Z*YsbXL 8.18 陷波滤波器 163 Y,E:? 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 62vz 'b 8.20 褶皱 165 zO)9(%LS 8.21 消偏振分光器1 169 >b*Pd
*f 8.22 消偏振分光器2 171 U7x}p^B9\N 8.23 消偏振立体分光器 172 /.WD'*H 8.24 消偏振截止滤光片 173 ;ejC:3yO 8.25 立体偏振分束器1 174 uvA}7L{UO 8.26 立方偏振分束器2 177 & |