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08<k'Oi] Qv9*p('~A 内容简介 i /O1vU# Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 o|R*POM 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 8@Egy%_ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 4 e=/f,o1 讯技科技股份有限公司 Nrab*K(][
I-RdAVB/Ep zWCW: dI 目录 r1[E{Tpz Preface 1 "#mXsp-ut 内容简介 2 F/Rng'l 目录 i 3a'Rs{qxn
1 引言 1 Sqp;/&Ji 2 光学薄膜基础 2 Ze[g0" 2.1 一般规则 2 eT7!a']x 2.2 正交入射规则 3 m#5|J@] 2.3 斜入射规则 6 ;n( #b8r9 2.4 精确计算 7 \_*?R,$3Y, 2.5 相干性 8 5}.,"Fbr 2.6 参考文献 10 bE7(L
$UF 3 Essential Macleod的快速预览 10 Bo\a 4 Essential Macleod的特点 32 wx]+*Lzz 4.1 容量和局限性 33 sDaT[).Hm 4.2 程序在哪里? 33 KKx&UKjV 4.3 数据文件 35 t*Z .e.q+ 4.4 设计规则 35 )@8'k]Glw. 4.5 材料数据库和资料库 37 9IS1.3 4.5.1材料损失 38 d1srV` 4.5.1材料数据库和导入材料 39 Bi9
N 4.5.2 材料库 41 9TYw@o5V 4.5.3导出材料数据 43 wQo6!H"K 4.6 常用单位 43 &^CL]&/ 4.7 插值和外推法 46 [?|l X$< 4.8 材料数据的平滑 50 tJ?qcT? 4.9 更多光学常数模型 54 EmtDrx4!(f 4.10 文档的一般编辑规则 55 fWtb mUq 4.11 撤销和重做 56 ?/`C~e<J 4.12 设计文档 57 p`E|SNt/W 4.10.1 公式 58 J)7,&Gc6 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 u%+6Mp[E 4.10.3 沉积密度 59 bm|Jb"T0b 4.10.4 平行和楔形介质 60 "K}W^J9v 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 nhVK? 4.10.4 性能 61 LW83Y/7 4.10.5 保存设计和性能 64 _Ep{|]:gw 4.10.6 默认设计 64 F"B<R~ 4.11 图表 64 yiv RpSL 4.11.1 合并曲线图 67 "v\ bMuS 4.11.2 自适应绘制 68 %:'1_@Ot2 4.11.3 动态绘图 68 .XV]<)<K$ 4.11.4 3D绘图 69 C&gOA8nf 4.12 导入和导出 73 bik] JIM 4.12.1 剪贴板 73 )o
" SB1 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 KRnB[$3F1 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 5@R15q@c6n 4.13 背景 77 7.lK$J: 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 s]nGpA[! 4.15 生成Rugate 84 SHXa{- 4.16 参考文献 91 7(A
G] 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ]HNT(w@ 5.1 Jobs 92 TRr4`y% 5.2 创建一个新Job(工作) 93 FT3,k&i 5.3 输入材料 94 UZ4tq 5.4 设计数据文件夹 95 N8DiEB3~ 5.5 默认设计 95 /H\^l.|vk 6 细化和合成 97 . T6_N 6.1 优化介绍 97 ]Vf8mkDGO 6.2 细化 (Refinement) 98 k2_6<v
Z 6.3 合成 (Synthesis) 100 Gg}LC+Y 6.4 目标和评价函数 101 +h gaBJy 6.4.1 目标输入 102 OVQxZ~uQ 6.4.2 目标 103 |(J
?#? 6.4.3 特殊的评价函数 104 yO$r'9?,* 6.5 层锁定和连接 104 5H'b4Cyi` 6.6 细化技术 104 $ sA~p_] 6.6.1 单纯形 105 eSvc/ CU 6.6.1.1 单纯形参数 106 , IMT '* 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 G(7\<x: 6.6.2.1 Optimac参数 108 ' F 6au[ 6.6.3 模拟退火算法 109 tvj'{W 6.6.3.1 模拟退火参数 109 QRg"/62WCD 6.6.4 共轭梯度 111 d 40'3]/{ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 i)`zKbK 6.6.5 拟牛顿法 112 5JU(@}Db 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Y00i{/a 8 6.6.6 针合成 113 eBYaq!t
k 6.6.6.1 针合成参数 114 U"%8"G0) 6.6.7 差分进化 114 #/XK&(X 6.6.8非局部细化 115 {*ko=77$* 6.6.8.1非局部细化参数 115 O'&X aaZV 6.7 我应该使用哪种技术? 116 8ZNd|\ 6.7.1 细化 116 8&2gM 6.7.2 合成 117 {Gb)Et]< 6.8 参考文献 117 !cFE^VM_; 7 导纳图及其他工具 118 6M<mOhp@}n 7.1 简介 118 V"2AN3~& 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 qG2\`+v 7.2.1 四分之一波长规则 119 -%/,j)VKD 7.2.2 导纳图 120 *Y^Y 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 fbx;-He! 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 +poIgjq0 7.5 斜入射导纳图 141 @=<TA0;LL 7.6 对称周期 141 $CQwBsYb= 7.7 参考文献 142 Tm~#wL
+r 8 典型的镀膜实例 143 p-(ADQS 8.1 单层抗反射薄膜 145 c J"]yG)= 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 On96N| 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 i_ODgc`H 8.4 W-膜层 148 \'^Z_6{w 8.5 V-膜层 149 C)3$";$5) 8.6 V-膜层高折射基底 150 2h? r![ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 82@;.% 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 }Bod#|`
8.9 四层抗反射薄膜 153 7N~qg 7& 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 kmwrv -W 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 kAQ\t?`x 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 _I70qz8 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 OTFu4"]M 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 &< |