-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-11-19
- 在线时间1888小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
rjaG{ i K^6fg,& 内容简介 I_.Jo `lK~ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 $!LL 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ]=ubl!0=: 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 pw,
<0UhV 讯技科技股份有限公司 [}*xxy
.\rJ|HpZ1J BN]{o(EB 目录 >Hd Pcsl L Preface 1 1b``y 内容简介 2 *K#Ci1Q 目录 i paYvYK-K? 1 引言 1 b<E0|VW 2 光学薄膜基础 2 }f;cA 2.1 一般规则 2 (@(rz/H 2.2 正交入射规则 3 _N1UL? 2.3 斜入射规则 6 h0c&}kM 2.4 精确计算 7 x2M{=MExE. 2.5 相干性 8 yN/Uyhq 2.6 参考文献 10 dN)@/R^E; 3 Essential Macleod的快速预览 10 ]"X} FU 4 Essential Macleod的特点 32 =5kTzH. 4.1 容量和局限性 33 +Rq7m] 4.2 程序在哪里? 33 6
_n~E e 4.3 数据文件 35 u^X,ASkQ 4.4 设计规则 35 -.
J@ 4.5 材料数据库和资料库 37 %CaF-m=Pq 4.5.1材料损失 38 0s2@z5bfX 4.5.1材料数据库和导入材料 39 #U?=D/ 4.5.2 材料库 41 wK*b2r}0/ 4.5.3导出材料数据 43 ;n2b$MB?nM 4.6 常用单位 43 ,!I'0x1OR 4.7 插值和外推法 46 R![)B97^ 4.8 材料数据的平滑 50 @FLa i 4.9 更多光学常数模型 54 ,/1[(^e 4.10 文档的一般编辑规则 55 >sZ207* 4.11 撤销和重做 56 XJ*W7HD 4.12 设计文档 57
2E/yZ ~2s 4.10.1 公式 58 $g @-WNe 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 K[Ao_v2g 4.10.3 沉积密度 59 DcmRb/AP* 4.10.4 平行和楔形介质 60 Z#_ +yw 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 V+dFL9 4.10.4 性能 61 ^hIKDc!.m 4.10.5 保存设计和性能 64 @;P\`[(* 4.10.6 默认设计 64 kFZjMchm A 4.11 图表 64 f<K7m 4.11.1 合并曲线图 67 eGW~4zU 4.11.2 自适应绘制 68 KX $Q`lM
4.11.3 动态绘图 68 =2tl149m/z 4.11.4 3D绘图 69 jb
{5
4.12 导入和导出 73 $ 8WJ$73 4.12.1 剪贴板 73 .:?cU#. 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 S/)J<?<b 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 +f]\>{o4 4.13 背景 77 h8-'I=~ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 0ofl,mXW 4.15 生成Rugate 84 JzZ9ua 4.16 参考文献 91 t1%<l 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 > qDHb' 5.1 Jobs 92 N \Wd0b 5.2 创建一个新Job(工作) 93 j[q$;uSD 5.3 输入材料 94 VQ]MJjvb 5.4 设计数据文件夹 95 /&Vgo~.J 5.5 默认设计 95 /ar/4\b 6 细化和合成 97 =S|^pN 6.1 优化介绍 97 ab-MEN`5 6.2 细化 (Refinement) 98 0Q= o"@ 6.3 合成 (Synthesis) 100 ].,TSnb 6.4 目标和评价函数 101 BH$+{rZ8t 6.4.1 目标输入 102 R$xk cg2( 6.4.2 目标 103 \y*,N^w u 6.4.3 特殊的评价函数 104 ~hxo_& 6.5 层锁定和连接 104 i<]Y0_?s 6.6 细化技术 104 OcLFVD= 6.6.1 单纯形 105 #Ies
yNKZ 6.6.1.1 单纯形参数 106 2xJT!lN 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 !YJ^BI 6.6.2.1 Optimac参数 108 G*$a81dAX 6.6.3 模拟退火算法 109 TR([u 6.6.3.1 模拟退火参数 109 i<% 6.6.4 共轭梯度 111 !s:v UY58 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 avI 6.6.5 拟牛顿法 112 dS[="Set 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 %M_5C4&6 6.6.6 针合成 113 g
:Z,
ab4 6.6.6.1 针合成参数 114 Z" !+p{u 6.6.7 差分进化 114 Y><")% Q 6.6.8非局部细化 115 /|.
|y
S9 6.6.8.1非局部细化参数 115 \p&a c&] 6.7 我应该使用哪种技术? 116 _U@;Z*(%vh 6.7.1 细化 116 1 n86Mp1.e 6.7.2 合成 117 ^-'t`mRl]d 6.8 参考文献 117 .O+qtk! 7 导纳图及其他工具 118 3M&IMf,/@ 7.1 简介 118 koizk&) 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 8(Y=MW;g 7.2.1 四分之一波长规则 119 <Gr775" 7.2.2 导纳图 120 }M I9?\"q 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 T'TxC) 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 J& |