在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个
图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在
VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。
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\?bwm&6+r R2Twm!1 建模任务 g,00'z_D >&$ $(Bp
>v^2^$^u 结构和
材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
XD;15a lAdOC5+JX 某一位置的Talbot图样 zkjPLeX
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>{O[t2& "2)+)Db 某一位置的Talbot图样 JK@izI
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*4(/t$)pEl D}zOuB,S 不同位置的Talbot图样 GOv92$e
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D__lqboz S/@dkHI' 不同位置的Talbot图样 =q_&*'
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n(5!L( LP5eFl`|T 沿Z轴的强度 =$"zqa.B6
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naec"Kut JLy)}8I VirtualLab Fusion的工作流程 2+T 8Y,g s,UN'~e1 构建
光栅结构 ,W)IVc
,cGwtt( H j5WJ{p. ]wkSAi5z* 通过参数运行计算不同位置的强度
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