在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个
图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在
VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。
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iO 9.SF0:
hjf!FY*F 建模任务 c%+/TO xvw @'|
N-Fs-uB 结构和
材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
d9e_slx Heh.CD)Q 某一位置的Talbot图样 =z^2KH
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VzD LG LH Oy
EOb> 某一位置的Talbot图样 \kWL:uU
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W4Z8U0co 4.Kl/b; VirtualLab Fusion的工作流程 'h}(> % i4T=4q 构建
光栅结构 j<NZ4Rf C)UL{n [=<vapZt Gh%R4)} 通过参数运行计算不同位置的强度
[}$jO,H5r [nc-~T+Mo ,3XlX(P
AQ%B&Q(V1 { 9:vq| VirtualLab Fusion技术 =[JstiT?E
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