在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个
图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在
VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。
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V* H7m'za _FP'SVa}D 建模任务 5m9;'SF ~vB dq Yj
KZ$^Q<d^ 结构和
材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
FC#t}4as UqNUP+K 某一位置的Talbot图样 u$ff %`E
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3.w &e0Es !n|4w$t"V 某一位置的Talbot图样 Tno 0Q
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sDP8! XU6SYC"t%~ 不同位置的Talbot图样 8]&\FA 8
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光栅结构 J=Hyoz+9 li9>zjz 5#Et.P' {!xDJnF; 通过参数运行计算不同位置的强度
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Ue(\-b\) \CrWKBL VirtualLab Fusion技术 :I8HRkp
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