在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个
图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在
VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。
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KO8{eT9d hzM;{g>t 建模任务 h.#:7d(g ]vf0 f,F
!J;Bm,Xn6 结构和
材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
Pd&KAu|<` 2#5Q~ 某一位置的Talbot图样 J i@q7qkC
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Xn=yC Pi Q?1.GuF 某一位置的Talbot图样 kJuG haO
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f4.jWBF Xykoq"dbb 不同位置的Talbot图样 MMKN^a"GA
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8*/;W&7y <B|b'XVH2 不同位置的Talbot图样 Ln&~t(7
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T:kliM"z qB_s<cpn> 沿Z轴的强度 dF51_Kk
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AP>n-Z| $s}w23nB 走进VirtualLab Fusion jq]5Y^e
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光栅结构 N,XjZ26 VOr:G85*s ,\
1X\ S+.>{0!S" 通过参数运行计算不同位置的强度
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