在传统的Talbot光刻中，在光敏层中仅使用一个
图像，但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中，遵循I.-H. Lee等人的工作，通过傅立叶模态法（FMM，也称为RCWA）在
VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像，柱状图位于主像面上，孔状图位于次像面上。
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;@!;1KDy ^f0(aYWx 建模任务 U9F6d!:L7A sy.:T]ZH 
fM9xy \. 结构和
材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
]+lF=kkc % kd`YSkZ 某一位置的Talbot图样 tj#b_ u z
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#W^_]Q=5R' . =R=cA7 某一位置的Talbot图样 "s;ci ~$
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}+JLn%H) .) 0gz!Z 不同位置的Talbot图样 h.D^1
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@|'Z@>!/pV pLJeajv)z 不同位置的Talbot图样 Hi7G/2t@`
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6,zDBax ZZwBOGVU 沿Z轴的强度 mVHFT~x7}
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4NI ' (#l '1lx{U zD VirtualLab Fusion的工作流程 0*{@E%9 X)y*#U 构建
光栅结构 ]ci RiMkT( xNx`J@xt$ E~qK&7+ [@zkv)D6 通过参数运行计算不同位置的强度
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rA2qV }0krSzcn#, VirtualLab Fusion技术 sbpu
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