在传统的Talbot光刻中，在光敏层中仅使用一个
图像，但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中，遵循I.-H. Lee等人的工作，通过傅立叶模态法（FMM，也称为RCWA）在
VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像，柱状图位于主像面上，孔状图位于次像面上。
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#hN p1y2 D+y_&+&,t 建模任务 !GNLq.rQ X53TFRxnT 
E JbFo682 结构和
材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
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)/:r $n7 1e0O-aT#Q 某一位置的Talbot图样 cITF=Ez
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W/U_: ^[- bhI yq4 N 不同位置的Talbot图样 5:=ECtKi
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XO=UKk+EK _QhB0/C 不同位置的Talbot图样 @k ~_ w#
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构建
光栅结构 w(P\+ m <% CQq'x +{F G isI/ Ir[ {GaQV -t 通过参数运行计算不同位置的强度
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