在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个
图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在
VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。
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nv|&|6?`oK 3 Tt8#B 建模任务 &4DWLI d6uL;eR
-50|r;a 结构和
材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
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*h`zV<j 某一位置的Talbot图样 E]bjI$j
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^+-i7`|= oC[$PPqX# 某一位置的Talbot图样 zzM 'uo
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TwY]c<t VirtualLab Fusion的工作流程
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光栅结构 ~qs97' p;g$D=2 WJ8i,7 U5odSR$ 通过参数运行计算不同位置的强度
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