线上培训（第21期） | Ansys Zemax 成像设计 招生中！！

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培训大纲 c~{9a_G  
YX=2jI  
01 OpticStudio 软件功能介绍; {88gW\GL  
02 材料库、镜头库介绍； YoN*:jB<M  
03 如何定义新材料； v^)bhIPe;  
04 如何使用镜头库； ( {1e%  
05 像差理论介绍； !O.[PH(,*  
06 Zemax 里像差分析图谱； ]?Fi$3Lm  
07 优化; j<2m,~k`V  
08 局部优化 /" ${$b{  
09 全局优化； # altx=6'  
10 锤形优化； |}{B1A  
11 优化函数架构技巧； .
!1S[  
12 单透镜优化实例 Oy<5>2^P  
13 双胶合优化实例； : p{+G  
14 热分析及衍射光学元件的使用; j.*VJazb;  
15 实例设计及分析； c9kzOQ2n  
16 MTF QCH}-q)  
17 双高斯镜头设计及优化； <&&SX;  
18 像质评价与图像模拟； U~} U\_  
19 坐标变换； ~XyW&@  
20 坐标断点面的使用技巧 neXeAU  
21 序列模式棱镜建模； UA4J>1 i  
22 扫描反射镜设计实例； JJltPGT~Oa  
23 柯勒照明综合设计实例； ]W Zq^'q.  
24 投影系统设计 !/^-;o7  
25 集光系统设计； s[K^9wz  
26 暗盒系统介绍； Aub]IO~  
27 分析工具应用； [/ !;_b\X  
28 寻找最佳非球面 <+^6}8-  
29 曲率套样板； p. R2gl1m  
30 镜头匹配工具； Rw6;Z  
31 Zemax公差分析功能介绍; Mn$]I) $  
32 加工误差、装配误差； jn%
!AH  
33 灵敏度分析; UK$ms~H  
34 反灵敏度分析; Yly@ww9t|  
35 蒙特卡罗分析; K,6b3kk  
36 公差评价标准； @*0cMO;SpG  
37 公差操作数；
pG34Qw  
38 补偿变量的使用； e
w;ur?  
39 单透镜公差分析； cooUE<a  
40 库克镜头公差分析； s0*0 'f  
41 分析报告查看说明； EyI}{6~F  
42 公差脚本的使用； P7 ]
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43 镜头出图、CAD 出图； oT{@_U{*J  
44 小结及答疑。 2+cNo9f  
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培训信息 Tx1vL  
-*~CV:2iq-  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司 3)ma\+< 6  
会议主题：Zemax 成像设计 op"$E1+  
培训讲师：武汉宇熠科技有限公司光学高级工程师 DbZ0e5  
培训时间：2022年10月26日- 27日（9：00-17：00） SFb{o<0 =  
培训费用：￥ 1980元 / 人 ;>%~9j1C  
三人及以上组团报名可享受八折优惠！ 0x11 vr!  
报名方式：扫码报名 C@Nv;;AlU  
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