线上培训（第21期） | Ansys Zemax 成像设计 招生中！！

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培训大纲 iLI.e rm  
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01 OpticStudio 软件功能介绍; I*`=[nR  
02 材料库、镜头库介绍； .j]OO/,  
03 如何定义新材料； RLeSA\di  
04 如何使用镜头库； n8
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05 像差理论介绍； UH.}B3H  
06 Zemax 里像差分析图谱； ~ L i%  
07 优化; 6O[wVaC1u  
08 局部优化 Y~\`0?ST  
09 全局优化； vb80J<4  
10 锤形优化； 2rE~V.)%  
11 优化函数架构技巧； dcc%G7w  
12 单透镜优化实例 v;NZ"1=_  
13 双胶合优化实例； F"HI>t)>  
14 热分析及衍射光学元件的使用; 0wa!pE"  
15 实例设计及分析； (tz_D7c$F  
16 MTF WP#_qqO  
17 双高斯镜头设计及优化； 0ga1Yr]  
18 像质评价与图像模拟； 6=`m   
19 坐标变换； p7ns(g@9  
20 坐标断点面的使用技巧 3R$CxRc:  
21 序列模式棱镜建模； odn97,
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22 扫描反射镜设计实例； ~_^o?NE,  
23 柯勒照明综合设计实例；  h(N9RJ}  
24 投影系统设计 <^X'f  
25 集光系统设计； qyG636i  
26 暗盒系统介绍； H--*[3".  
27 分析工具应用； ;Kd{h  
28 寻找最佳非球面 8BoT%kVeJv  
29 曲率套样板； eL$U M  
30 镜头匹配工具； ,oi`BOh  
31 Zemax公差分析功能介绍; Xxsnpb>  
32 加工误差、装配误差； )su
<Ji*  
33 灵敏度分析; ?}lpo; $  
34 反灵敏度分析; 35]G_\  
35 蒙特卡罗分析; )DZ-vnZ#t0  
36 公差评价标准； Vlxb<$5Nh  
37 公差操作数；  lN`_0  
38 补偿变量的使用； 2ZzD^:V[}  
39 单透镜公差分析； ?M{6U[?  
40 库克镜头公差分析； -GkK[KCH  
41 分析报告查看说明； d ;7pri)B  
42 公差脚本的使用； G*wW&R)  
43 镜头出图、CAD 出图； aSj1P/A  
44 小结及答疑。  W$VCST  
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培训信息 ))+98iU1s  
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主办单位：武汉宇熠科技有限公司 SAxa7B/U2  
会议主题：Zemax 成像设计 sz2
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培训讲师：武汉宇熠科技有限公司光学高级工程师 >^\>-U|  
培训时间：2022年10月26日- 27日（9：00-17：00） i,b7Ft:F&  
培训费用：￥ 1980元 / 人 ';CuJXAj  
三人及以上组团报名可享受八折优惠！ )D-.7m.v]  
报名方式：扫码报名 6Cv2>'{S  
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