线上培训（第21期） | Ansys Zemax 成像设计 招生中！！

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培训大纲 0zT-]0  
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01 OpticStudio 软件功能介绍; GD d'{qE6  
02 材料库、镜头库介绍； LklE,W  
03 如何定义新材料； z;2& d<h  
04 如何使用镜头库； vO&X<5?Qc  
05 像差理论介绍； l;A'^  
06 Zemax 里像差分析图谱； V9}\0joM  
07 优化; `Npo|.?=  
08 局部优化 dmv0hof  
09 全局优化； DNgh#!\X  
10 锤形优化； KnA BFH  
11 优化函数架构技巧； 5lP8#O?=  
12 单透镜优化实例 }~PG]A  
13 双胶合优化实例； Ja4M@z  
14 热分析及衍射光学元件的使用; D_$N2>I-  
15 实例设计及分析； ?u:mscb  
16 MTF ~MC5rOA  
17 双高斯镜头设计及优化； d}Guj/cx,  
18 像质评价与图像模拟； @&&}J  
19 坐标变换； *y7Yf7  
20 坐标断点面的使用技巧 bV2a2#kj  
21 序列模式棱镜建模； K0C"s'q  
22 扫描反射镜设计实例； 3fpaTue|x  
23 柯勒照明综合设计实例； I3r")}P  
24 投影系统设计 O43"-  
25 集光系统设计； 66 R=  
26 暗盒系统介绍； H Q[  
27 分析工具应用； i<>%y*+@  
28 寻找最佳非球面 .bP8Z=  
29 曲率套样板； Fq <JxamR  
30 镜头匹配工具； `uk=2k}&m  
31 Zemax公差分析功能介绍; }1[s,  
32 加工误差、装配误差； \>wQyz  
33 灵敏度分析; ;Gn>W+Ae M  
34 反灵敏度分析; W.cc!8  
35 蒙特卡罗分析; 8jL^q;R_(  
36 公差评价标准； YIZu{  
37 公差操作数； LWhy5H;Es  
38 补偿变量的使用；  E^5  
39 单透镜公差分析； 5[B)U">]  
40 库克镜头公差分析； D4y!l~_,%M  
41 分析报告查看说明； B=%%3V)2  
42 公差脚本的使用； Wf5;~RJC?  
43 镜头出图、CAD 出图； {g`!2"  
44 小结及答疑。 4|5;nxkGm8  
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培训信息 !t~tIJ>6  
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主办单位：武汉宇熠科技有限公司 us1$  
会议主题：Zemax 成像设计 W-|CK&1  
培训讲师：武汉宇熠科技有限公司光学高级工程师 M[O22wFs  
培训时间：2022年10月26日- 27日（9：00-17：00） toPFkc6`  
培训费用：￥ 1980元 / 人 
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三人及以上组团报名可享受八折优惠！ sUmpf4/  
报名方式：扫码报名 `W_&^>yl  
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