[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 S
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场景 =/9^, 6Q(  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 p]&j;H.  
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系统构建块 hYg'2OG  
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组件求解器 WlVl[/qt  
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系统构建块 gS9>N/b|  
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总结 9;=dxWf   
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几何光学仿真 SaDA`JmO  
    通过光线追迹 -,#+`>w  
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结果：光线追迹 "&o,yd%  
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快速物理光学仿真 *I*i>==Z  
    通过场追迹 MQTdk*L_]  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 i'HQQWd  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 >,5i60Q  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Ol@_(U  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ERMa# L  
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