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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-26
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    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 R^dAwt`.D  
    GS$OrUA  
    34]f[jJ|  
    场景 [F+lVb  
    V|xR`Q  
    IcPIOCmOc  
    ^#exs Xy  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 K*;=^PY  
    3,tKqR7g  
    系统构建块 ^5u}   
    _V6;`{$WK  
    GC$Hp!H  
    62%. ddM4  
    组件求解器 &hd+x5  
    2#6yO`?uo  
     ;{BELv-4  
         4<Bj;1*4  
         QS_" fsyN:  
         ^N`ar9Db  
    系统构建块 8*4X%a=Of  
    h{J2CWJ  
    wC<!,tB(8  
     uGc}^a2  
    总结 SMqJMirR  
    kP6g0,\|a|  
    J h M.P9  
         398}a!XM  
    几何光学仿真 @(Ou;Uy  
        通过光线追迹  5ah]E  
    *"O7ml]  
    结果:光线追迹 cl1h;w9s  
    v~ZdMQvwt  
    ?8b?{`@V  
    vy1:>N?#5  
    快速物理光学仿真 9dJARSUuF  
        通过场追迹 z930Wi{@  
    Mh[;E'C6  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 W84JB3p  
    [=7|LH jU  
    =4m?RPb~b  
    VCNg`6!x  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 g G~UsA  
    ~F+{P4%`<  
    HeNg<5v%Y  
    EFqWnz  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 [[Qu|?KEa  
    wC`])z}bT  
    C:0Ra^i ?L  
         >q[(UV  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 mcpM<vY/H  
    oh:g  
    t]2~aK<]  
    j1Q G-Rs&  
    总结 oOmPbAY  
    )(_}60  
    ;l7wme8Qk  
      
     
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