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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-26
    BzpP7ZWV  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 A%Z)wz{  
    +c206.  
    lS{r=y_0.  
    场景 Jx-wO/  
    m:`@?n~..  
    0)uYizJce  
    (L6Cy% KgV  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 BOf1J1  
    ]_*S~'x  
    系统构建块 !- ~ X?s~L  
    Q"J-tP!  
    a0Oe:]mo\  
    |bZM/U=  
    组件求解器 Aq#/2t  
    Sn3:x5H,l  
    J/D|4fC  
         g?/XZ5$a5  
         UWG+#,1J.\  
         00vBpsZj2;  
    系统构建块 j kn^Z":  
    FT\?:wpKa  
    y@vj;3:  
    ~waNPjPRG  
    总结 P-z`c\Rt  
    <"&'>?8j  
    #I\Y= XCY  
         A{,n;;  
    几何光学仿真 )3?rXsSR  
        通过光线追迹 "/%89 HMD  
     ;\b@)E}  
    结果:光线追迹 Yx?aC!5M  
    6p<`h^  
    W=-|`  
    2M6dMvS  
    快速物理光学仿真 9zKBO* p`  
        通过场追迹 =fG:A(v%}  
    k&s; {|!  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 -6EK#!+  
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    $Tl<V/  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 CJ w$j`k  
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    a1x7~)z>zi  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 T)\NkM&  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 d /j@_3'  
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    总结 T_ ^C#>  
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