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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-26
    <m\TZQBD  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 4K,&Q/Vdd7  
    ON^u|*kO  
    7] H4E.(l  
    场景 L>*|T[~  
    <7h'MNf&  
    lTNkmQ  
    Cr"hu;  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 #wcoLCjs)  
    z(` kWF1<  
    系统构建块 E_#&L({|@  
    ]z$<6+G  
    6 >2! kM7  
    JaTW/~ TU  
    组件求解器 DtX{0p<T3  
    `8*$$JC  
    Q0A1N[  
         e;v2`2z2  
         uDUSR+E>  
         "^7Uk#! 7  
    系统构建块 8;@eY`0(  
    C8-q<t#SF  
     +z_0?x  
    5^i ^?  
    总结 g [K8G  
    UJ+JVj   
    _t7A'`Dh]  
         /vU31_eZt  
    几何光学仿真 gfHlY Q]  
        通过光线追迹 :>u{BG;=79  
    eAEVpC2  
    结果：光线追迹 a7R7Ks|q  
    # jyAq$I0  
    g>{=R|uO5  
    <7+.5iB3  
    快速物理光学仿真 ~5zhK:7c  
        通过场追迹 QS_xOQ '  
    bT |FJ\aC  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 '>8N'*  
    N[%IrN3  
    #';r 0?|  
    \ U_DTI  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 +Y+kx"8  
    {WChD&v  
    6\L,L &  
    %$U+?lk}  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 w67Pw  
    8^~]Ym:  
    x :s-\>RcA  
         )deuB5kz  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 OmW|\d PU  
    Tu"](|I>   
     uQ}kq7gd  
    .#SWfAb2h  
    总结 rx<fjA%  
    pE#0949  
    !|]%^G  
      
     
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