[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 s3s4OAY  
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场景 eZhPu'id\s  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 igf)Hb;5  
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系统构建块 b}ODWdJ1  
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组件求解器 \b8sG"G  
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系统构建块 ,"
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几何光学仿真 IHfzZHy  
    通过光线追迹 gxPx&Z6jF  
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结果：光线追迹 PQW(EeQ  
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快速物理光学仿真 Rx36?/  
    通过场追迹 $$Vt7"F  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Wm'QP4`  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ek aFN\  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 tHD  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 h 6G/O`:  
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总结 PMsz`  
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