[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 y]cx}9~  
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场景 Uf_w o  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 ;x+4jpH]B  
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系统构建块 P`U5kNN  
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组件求解器 ,0#OA*0B  
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系统构建块 j7"E0Wc^o_  
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总结 lzuPE,h  
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几何光学仿真 G?jY>;P)  
    通过光线追迹 N}Q,  
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结果：光线追迹 (S9"(\A  
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快速物理光学仿真 [nG/>Z]W  
    通过场追迹 2.; OHQTE  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 a&Z|3+ZA  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 U/jJ@8
 
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 >1joCG~  

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ~ZvZk  
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总结 CWC*bkd5a  
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