线上培训 | 第11期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中

武汉墨光即将在09月26日-30日推出第十一期《ASAP 光学系统软件杂散光分析与控制》线上培训。为了方便大家更加了解本次培训的课程内容，以下是本次研讨会的课程大纲及详情介绍： <P1nfH  
@;9KP6d  
培训大纲： H$?MPA-c  
x3'ANw6E  
杂散光术语 o!h::j0,~  
辐射度学基础 Ow?~+) 4  
杂散光成因 SLP$|E;  
杂散光影响、杂散光控制 |b@`ykD  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 " AvEo  
ASAP 杂散光分析流程、步骤：关键表面和照明表明 nZj&Ma7R  
散光特性、散射模型 H)TKk%`7  
消光漆/表面处理 &56\@t^  
光学表面污染 )%Xp?H_  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 A\mSS  
衍射杂散光、 }c8et'HYf  
PST 分析：衍射元件的杂散光分析 y46sL~HRv  
小孔衍射的杂散光分析 H '5zl^8I  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 U{EcV%C2  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 w,6gnO  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 /FXb,)1t  
散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱
<AVWT+,  
dn~k_J=p  
培训书籍 D {E,XOi  

图片:ASAP640.png

M| }?5NS  
D'g@B.fXd  
报名培训即可免费赠送此书 *W |  
4%v-)HGh  
培训详情： 4UL"f<7 T  
/FTP8XHwL)  
本培训为线上直播培训培训内容作业练习跟踪，  [K
etg  
老师答疑培训结束后支持录播回放观看（限期30天） }nM+"(}  
培训方安装最新正版软件（仅限培训期间使用） p/ZgzHyF  
为保证课程质量，课程均采用小班授课模式 'U@Ep  
:ldI1*@i<  
举办单位：武汉墨光科技有限公司 )q!dMZ(  
!x-9A  
培训日期：9月26-30日  14:00-17:00 P5XUzLV L  
vEt=enQ  
培训费用：2980元/人（9月16日前报名享八五折优惠） `aMnTF5:  
&_QD1 TT  
报名咨询请扫描下方“二维码”或点击文末“阅读原文”即可。
qCk`398W  

图片:IMG_8530.JPG

G^P9_Sw]d3  
Ki:98a$  
注：如报名人数未达到最低开课人数，武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。