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1`Z:/]hl 内容简介 :lU#Dm] Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 W\EvMV" 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ;UpdkY
1 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 `c)[aP{vN 6w`.'5 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 7TtDI=f 目录 %`bn=~T^ Preface 1 ##6u 内容简介 2 oL
U !x 目录 i }v xRjO, 1 引言 1 z!G?T(SpA 2 光学薄膜基础 2 Z~AgZM
R 2.1 一般规则 2 Z'~/=a)7 2.2 正交入射规则 3 Cy\ o{6 2.3 斜入射规则 6 ntxaFVD 2.4 精确计算 7 L[voouaqm 2.5 相干性 8 =d BK,/ 2.6 参考文献 10 :sX4hZK=G 3 Essential Macleod的快速预览 10 kO/YO)g 4 Essential Macleod的特点 32 zI= 9 4.1 容量和局限性 33 Q_6v3no1 4.2 程序在哪里? 33 %RX!Pi}5+g 4.3 数据文件 35 z2iWr 4.4 设计规则 35 T@xaa\bzg 4.5 材料数据库和资料库 37 $sFqMy 4.5.1材料损失 38 nxJx 8d" 4.5.1材料数据库和导入材料 39 (qw;-A
W8 4.5.2 材料库 41 Gvl,M\c9- 4.5.3导出材料数据 43 ]tNB^ 4.6 常用单位 43 ;w;+<Rd 4.7 插值和外推法 46 /b]+RXvxj 4.8 材料数据的平滑 50 p
~pl| 4.9 更多光学常数模型 54 I6i qC"BK 4.10 文档的一般编辑规则 55 bE!z[j] 4.11 撤销和重做 56 JLGC'mbJ 4.12 设计文档 57 -amNz.`[PR 4.10.1 公式 58 zmg
:Z p= 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 *XI-
nH 4.10.3 沉积密度 59 z
s\N)LyM 4.10.4 平行和楔形介质 60 pmiC|F83!8 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
c`}YL4 4.10.4 性能 61 HggINMG 4.10.5 保存设计和性能 64 J;k8 a2$_ 4.10.6 默认设计 64 [5PQrf~Mo 4.11 图表 64 a+B3`6 4.11.1 合并曲线图 67 QsPZ dC 4.11.2 自适应绘制 68 * $|9e 4.11.3 动态绘图 68 swg*fhJFB 4.11.4 3D绘图 69 w&Z.rB? 4.12 导入和导出 73 sWq@E6,I 4.12.1 剪贴板 73 2]5ux!Lqln 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 3
jghV?I{T 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 LYuMR,7E 4.13 背景 77
uyoV) 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 u)~::2BXAn 4.15 生成Rugate 84 $'w>doUlA 4.16 参考文献 91 }-@h H( 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 2UMX%+ "J 5.1 Jobs 92 WS+uK b^< 5.2 创建一个新Job(工作) 93 g6H` uO 5.3 输入材料 94 r@CbhD 5.4 设计数据文件夹 95 K7ZRj\(CJv 5.5 默认设计 95 b~;M&Y 6 细化和合成 97 E8.1jCL>{" 6.1 优化介绍 97 ,Qt2 ? 6.2 细化 (Refinement) 98 KkSv23In 6.3 合成 (Synthesis) 100 %O*)'ni
6.4 目标和评价函数 101 ?^U1~5ff) 6.4.1 目标输入 102 rW2l+:@c 6.4.2 目标 103 ~"cqFdnO 6.4.3 特殊的评价函数 104 eK/rsr 6.5 层锁定和连接 104 AQs_(LR 6.6 细化技术 104 #&Zj6en}M] 6.6.1 单纯形 105 h@{CMe 6.6.1.1 单纯形参数 106 W3xObt3w\ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 {qFAX<{D 6.6.2.1 Optimac参数 108 bKQ-PM&I/t 6.6.3 模拟退火算法 109 H,)2Ou-Wn 6.6.3.1 模拟退火参数 109 (kJ"M4*<F' 6.6.4 共轭梯度 111 4Z/]7Ie 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 =BBqK=W.d 6.6.5 拟牛顿法 112 m$bNQ7 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ?e hUGvV2 6.6.6 针合成 113 0T:ZWRjH 6.6.6.1 针合成参数 114 (Zu8WyT2 6.6.7 差分进化 114 cC$E"m 6.6.8非局部细化 115 << aAYkx< 6.6.8.1非局部细化参数 115 k&o1z'<C 6.7 我应该使用哪种技术? 116 XtIY8wsP 6.7.1 细化 116 +|Mi lwr 6.7.2 合成 117 $u{ 8wF/) 6.8 参考文献 117 #.<(/D+ 7 导纳图及其他工具 118 ig?Tj4kD 7.1 简介 118 1y.!x~Pi, 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 88+J(^y> 7.2.1 四分之一波长规则 119 =mh)b]].4\ 7.2.2 导纳图 120 !{4bC 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 EYU3Pl% 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 X-5&c$hv 7.5 斜入射导纳图 141 +WSM< |