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:Iw)xd1d}\ 内容简介 HlLF<k~} Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 K+PzTGWq^ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 F@&q4whaVD 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 7@MVInV9 YP+0uZ[g 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 w#]%I+ 目录 N!aV~\E Preface 1 &QLCij5: 内容简介 2 NSj}?hz 目录 i zN*/G6>A 1 引言 1 ME{i-E4 2 光学薄膜基础 2 Yw4c`MyL 2.1 一般规则 2 8K7zh.E 2.2 正交入射规则 3 }[$ C=|> 2.3 斜入射规则 6 DBbmM*r 2.4 精确计算 7 `)!)}PXl 2.5 相干性 8 hekAics6S 2.6 参考文献 10 /w`{]Ntgu 3 Essential Macleod的快速预览 10 *~4w%U4T0 4 Essential Macleod的特点 32 _ i.CvYe 4.1 容量和局限性 33 p~DlZk" 4.2 程序在哪里? 33 ;F"W6G 4.3 数据文件 35 tbl!{Qwx 4.4 设计规则 35 c-n'F+fZ 4.5 材料数据库和资料库 37 )d_)CuUBe 4.5.1材料损失 38 qXCl6Yo8 4.5.1材料数据库和导入材料 39 ?7YX@x 4.5.2 材料库 41 ?20y6c < 4.5.3导出材料数据 43 $BwWhR 4.6 常用单位 43 ko>SnE|w# 4.7 插值和外推法 46 KSMe#Qnw 4.8 材料数据的平滑 50 m{I_E
G 4.9 更多光学常数模型 54 &B/cy<;y, 4.10 文档的一般编辑规则 55 AW!|xA6'`: 4.11 撤销和重做 56 ?so3Kj6H 4.12 设计文档 57 3-FS} {, 4.10.1 公式 58 o>\j c 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 sO~N2 4.10.3 沉积密度 59 uZW
? 0W 4.10.4 平行和楔形介质 60 P (_:8|E 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 b^;19]/RW 4.10.4 性能 61 VQ$=F8ivG 4.10.5 保存设计和性能 64 A!ba_14 4.10.6 默认设计 64 _C)u#]t 4.11 图表 64 +[zrU`!@ 4.11.1 合并曲线图 67 m Wsegq4 4.11.2 自适应绘制 68 B@63=a*kG 4.11.3 动态绘图 68 ;#G>q o 4.11.4 3D绘图 69 Go^W\y
4.12 导入和导出 73 ? Ls]k 4.12.1 剪贴板 73 =9LC"eI&| 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 CDO_A \ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 KJ.ra\F 4.13 背景 77 ^8
AV #a 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 i6h:%n]Io 4.15 生成Rugate 84 'N,x=1R5 4.16 参考文献 91
i/y+kL 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 |*Z'WUv 5.1 Jobs 92 ?P4` 5.2 创建一个新Job(工作) 93 6(ju!pE` 5.3 输入材料 94 Ipb4{A&"\ 5.4 设计数据文件夹 95 @>ONp|}@qI 5.5 默认设计 95 IgLP=mqcWK 6 细化和合成 97 BaR9X ?~O$ 6.1 优化介绍 97 4<ER
dP7"- 6.2 细化 (Refinement) 98 ceH7Rq:4W 6.3 合成 (Synthesis) 100 4:nmo@K&~ 6.4 目标和评价函数 101 rw
^^12) 6.4.1 目标输入 102 !MTm4Ls 6.4.2 目标 103 Gvtd )9^< 6.4.3 特殊的评价函数 104 {SqY77 6.5 层锁定和连接 104 XFG]%y=/6
6.6 细化技术 104 B5=L</Aj 6.6.1 单纯形 105 DS=kSkW^&5 6.6.1.1 单纯形参数 106 ky#<\K1}' 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ag:#82C 6.6.2.1 Optimac参数 108 OAOG&6xu8 6.6.3 模拟退火算法 109 (J\D"4q 6.6.3.1 模拟退火参数 109 FT[wa-b 6.6.4 共轭梯度 111 `if* 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 uvc0"g1h 6.6.5 拟牛顿法 112 qAivsYN* 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 rYJt;/RtR} 6.6.6 针合成 113 rnmWw# 6.6.6.1 针合成参数 114 O JvEq@ 6.6.7 差分进化 114 9oKRu6]D- 6.6.8非局部细化 115 Q]{DhDz?+ 6.6.8.1非局部细化参数 115 PM[6U# 6.7 我应该使用哪种技术? 116 riFE.; 6.7.1 细化 116 +\"@2mOH{+ 6.7.2 合成 117 oJ{)0;<~L 6.8 参考文献 117 ?# ,\, 7 导纳图及其他工具 118 3j]La 7.1 简介 118 \n`UkxZn+ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 CU lANd" 7.2.1 四分之一波长规则 119 YjvqU /[3 7.2.2 导纳图 120 'G@Npp)&^ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 m4>v S 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 b[e+(X 7.5 斜入射导纳图 141 d!Y,i!l! 7.6 对称周期 141 IB(IiF5 7.7 参考文献 142 r[EN`AxDb 8 典型的镀膜实例 143 <9\_b6 8.1 单层抗反射薄膜 145 YHvmo@ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 `.L8< |