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18 pi3i[ 内容简介 :yo tpa Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 mYf7?I~ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 "k(Ee 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 _6"!y
]Q j_VTa/ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 z^to"j 目录 ixZ w;+h Preface 1 Gk0f#; 内容简介 2 <GI{`@5C 目录 i sG`:mc~0 1 引言 1 GtRc7, 2 光学薄膜基础 2 UGK4uK+I` 2.1 一般规则 2 V8w!yc 2.2 正交入射规则 3 5"=qVmT) 2.3 斜入射规则 6 1-4iy_d 2.4 精确计算 7 gf()NfUvRH 2.5 相干性 8 ^T83E} 2.6 参考文献 10 e#MEDjm/)g 3 Essential Macleod的快速预览 10 7{
zkqug 4 Essential Macleod的特点 32 &o>ctf.x 4.1 容量和局限性 33 fJ_d,4 4.2 程序在哪里? 33 M[N$N`9 4.3 数据文件 35 sf\p>gb 4.4 设计规则 35 a%a_sR\) 4.5 材料数据库和资料库 37 |[/[*hDZ9 4.5.1材料损失 38 5T)qn`% 4.5.1材料数据库和导入材料 39 s*.CJ 4.5.2 材料库 41 c`94a SnV 4.5.3导出材料数据 43 E Z95)pk 4.6 常用单位 43 j^
VAA\ 4.7 插值和外推法 46 x}t,v.: 4.8 材料数据的平滑 50 &L[7jA'[J 4.9 更多光学常数模型 54 s*<\mwB 4.10 文档的一般编辑规则 55 [;3` Aw 4.11 撤销和重做 56 zWYm*c"n\ 4.12 设计文档 57 >6ul\xMU 4.10.1 公式 58 .'QE o 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 zi7,?bD 4.10.3 沉积密度 59 n4Od4&r 4.10.4 平行和楔形介质 60 Fdsaf[3[v 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 BFP (2j 4.10.4 性能 61 t .*z)N 4.10.5 保存设计和性能 64 Ffxf!zS 4.10.6 默认设计 64 =~M%zdIXv 4.11 图表 64 5}d"nx 4.11.1 合并曲线图 67 }!=}g|z#| 4.11.2 自适应绘制 68 :td#zM 4.11.3 动态绘图 68 `NqX{26GV+ 4.11.4 3D绘图 69 \ 8v{9Yb 4.12 导入和导出 73 0J-] 4.12.1 剪贴板 73 l<fZt#T 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 PMER~}^ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 #-b0U[,. 4.13 背景 77 GORu*[U8 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 5g9lO]WDI 4.15 生成Rugate 84 >*#clf;@p 4.16 参考文献 91 7?Vo([8 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ]B'Ac%Rx 5.1 Jobs 92 EugQr<sM# 5.2 创建一个新Job(工作) 93 sHC4iMIw 5.3 输入材料 94 \*{tAF 5.4 设计数据文件夹 95 6E~T$^Q} 5.5 默认设计 95 F/c7^ 6 细化和合成 97 KLqn`m`O; 6.1 优化介绍 97 1<Fh
aK 6.2 细化 (Refinement) 98 m/W0vPM1 6.3 合成 (Synthesis) 100 WVaIC $Y 6.4 目标和评价函数 101 ?'F>DN 6.4.1 目标输入 102 bo^d!/; 6.4.2 目标 103 6")co9 6.4.3 特殊的评价函数 104 gG;d+s1 6.5 层锁定和连接 104 N<bNJD} 6.6 细化技术 104 E[N5vG< 6.6.1 单纯形 105 V_Owi5h 6.6.1.1 单纯形参数 106 \wW'Hk= 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 3,qq\gxB 6.6.2.1 Optimac参数 108 a&yIH;- 6.6.3 模拟退火算法 109 Ta;'f7Oz 6.6.3.1 模拟退火参数 109 M
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fX 6.6.4 共轭梯度 111 TE+d? 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 rG7S^,5o 6.6.5 拟牛顿法 112 C~\/FrO? 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 -P!_<\q\l 6.6.6 针合成 113 vwZ d@%BO 6.6.6.1 针合成参数 114 Of|e]GR 6.6.7 差分进化 114
DtBIDU] 6.6.8非局部细化 115 !_{2\& 6.6.8.1非局部细化参数 115 +QS7F`O 6.7 我应该使用哪种技术? 116 4
I}xygV 6.7.1 细化 116 V,>_L 6.7.2 合成 117 Op] L#<&T 6.8 参考文献 117 W)rE_tw,| 7 导纳图及其他工具 118 2?; =TJo$ 7.1 简介 118 CV<@Rgoa 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ,/V'(\>
7.2.1 四分之一波长规则 119 q3.L6M 7.2.2 导纳图 120 oS'M 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 w3j51v` 0' 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 |E+tQQr%' 7.5 斜入射导纳图 141 W?W vT`
T{ 7.6 对称周期 141 ]V9z)uz 7.7 参考文献 142 >AcpJ|V 8 典型的镀膜实例 143 ~r~~0|= 8.1 单层抗反射薄膜 145 \<ohe w 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 $)OUOv 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 && |