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0@*rp7 内容简介 .[= 0(NO Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 lsJ'dS 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 qZKU=HM 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 +s1+;VUs3 -$dnUXFsj[ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 (cNT ud$ 目录 9g^@dfBV Preface 1 #`y7L4V*o 内容简介 2 ^Bm9yR 目录 i B`"-~4YAf 1 引言 1 j,EE`g& 2 光学薄膜基础 2 [g&Q_+,j 2.1 一般规则 2 `hM]5;0 2.2 正交入射规则 3 uZm<:d2%) 2.3 斜入射规则 6 7"
Dw4}T 2.4 精确计算 7 y ?4|jN 2.5 相干性 8 ;oob
TW{ 2.6 参考文献 10 78dmXOZ'_h 3 Essential Macleod的快速预览 10 cg1 < 4 Essential Macleod的特点 32 i1FFf[[ L 4.1 容量和局限性 33 1i bQ'bZ 4.2 程序在哪里? 33 ;`X -.45 4.3 数据文件 35 aJI>qk h?] 4.4 设计规则 35 &Vnet7LfU 4.5 材料数据库和资料库 37 Qs#v/r 4.5.1材料损失 38 ;&Eu<%y 4.5.1材料数据库和导入材料 39 @hl5^d"l 4.5.2 材料库 41 RL.%o?<&? 4.5.3导出材料数据 43 $'?CY)h{ 4.6 常用单位 43 P)>WIQSr 4.7 插值和外推法 46 EJdq"6S 4.8 材料数据的平滑 50 ;X|;/@@ 4.9 更多光学常数模型 54 j(/"}d3osm 4.10 文档的一般编辑规则 55
?o9l{4~g 4.11 撤销和重做 56 3~s0ux[ 4.12 设计文档 57 d/P$q MD 4.10.1 公式 58 9DKmXL 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 6tzZ j:yq 4.10.3 沉积密度 59 () b0Sh= 4.10.4 平行和楔形介质 60 !Q cgTW)T 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 5A~w_p*} 4.10.4 性能 61 vQu) uml 4.10.5 保存设计和性能 64 a^4(7 4.10.6 默认设计 64 @_N -> l 4.11 图表 64 5XFhjVmEL 4.11.1 合并曲线图 67 C:EF(/>+- 4.11.2 自适应绘制 68 zrnc~I+
4.11.3 动态绘图 68
w>/KQ> \" 4.11.4 3D绘图 69 rLh490@ 4.12 导入和导出 73 jDH)S{k 4.12.1 剪贴板 73 E<-}Jc1 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 u+8_et5T 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 iO<O2A.F 4.13 背景 77 /xrt,M@ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 sE>'~+1_O 4.15 生成Rugate 84
,2 &'8:B 4.16 参考文献 91 ^C<dr}8 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ^]E| >~\ 5.1 Jobs 92 _I5p
7X 5.2 创建一个新Job(工作) 93 {'>X6: 5.3 输入材料 94 7@+0E2' 5.4 设计数据文件夹 95 ?em )om 5.5 默认设计 95 Z U
f<s? 6 细化和合成 97 NmOQ7T 6.1 优化介绍 97 +/x|P- 6.2 细化 (Refinement) 98 [m}x 6.3 合成 (Synthesis) 100 1REq.%/= 6.4 目标和评价函数 101 6D0uLh 6.4.1 目标输入 102 r)U9u 0 6.4.2 目标 103 w:z_EV!& 6.4.3 特殊的评价函数 104 ~5p
`Kg* 6.5 层锁定和连接 104 G>#L 6.6 细化技术 104 z81I2?v[Jr 6.6.1 单纯形 105 1DZGb)OU 6.6.1.1 单纯形参数 106 UT[KwM{y 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 M7jDV|Go 6.6.2.1 Optimac参数 108 9&rn3hmP 6.6.3 模拟退火算法 109 |mMW"(~ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ~a/yLI"'g 6.6.4 共轭梯度 111 , aawtdt/ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 1<bSH n9 6.6.5 拟牛顿法 112 bs_I{bCu? 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 } c&Zv#iO6 6.6.6 针合成 113 J
)@x:,o 6.6.6.1 针合成参数 114 #i)h0ML/e 6.6.7 差分进化 114 >OiC].1
6.6.8非局部细化 115 Eq'{uV: 6.6.8.1非局部细化参数 115 '|WMt g 6.7 我应该使用哪种技术? 116 {/R4Q1 6.7.1 细化 116 )I!l:!Ij*D 6.7.2 合成 117 (Ca\$p7/ 6.8 参考文献 117 3@6f%Dyj 7 导纳图及其他工具 118 g*Cs/w 7.1 简介 118 Jc{zi^)(EN 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 __3Cjo^6& 7.2.1 四分之一波长规则 119 =_
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1a 7.2.2 导纳图 120 xA& |