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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    ERQ a,h/  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 (WiA  
    FW&P`Iu  
    nMc3.fM  
    {OP-9P=p  
    设计任务 <K:?<F  
    [bkMl+:/HG  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 :xZ/c\  
    (u85$_C  
    ! e6;@*  
    _=B(jJZ   
    光栅级次分析模块设置 ,$5;  
                           Q_/{TE/sO5  
    C-]H+p  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 uoFH{.)  
    V`~$| K[  
    [,Ts;Hy6Q  
    R0+v5E  
    @I}:HiF  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 m JewUc!<5  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 94I8~Jj4  
    >#dNXH]9  
    H? N!F7s  
    衍射分束器表面 _6THyj$f  
    n|NI]Qi*  
    X obiF  
    /MTS>[E  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 : QSlctW  
    G,>tC`!  
    l0Jpf9Aue  
    <Sm -Z,|  
    AM##:4   
    ^mFuZ~g;?  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) dW;{,Q  
    JI )+  
    2j-|.l c  
    eB/3MUz1  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 fMwJwMT8  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 nXK"BYe  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 eOy{]< l3  
    td q;D  
    JO5~Vj_"  
    +Es3iE @  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 NWwfNb>  
    MR%M[SK1  
    `kyr\+hp  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 e{Om W  
    8~:qn@ Z|E  
    Ts:dnGR5  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 rj$u_y3S*  
    :::"C"Ge  
    1>b kVA  
                设计与评估结果            相位功能设计 L|S#(0  
                结构设计TEA评价 "vH@b_>9|  
    FMM评估            高度标度(公差) go6Hb>  
    ho#] ?Z#  
    通用设置 R[wy{4<y  
    =Z2U  
    "My \&0-  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 L GK0V!W  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 nfy"M),et  
    $k@reN9  
    纯相位传输设计 U?>P6p  
    {4CkF \  
    l+kI4B7--  
    qOZe\<.V<  
    结构设计 "6 dC  
    +;`Cm.Iu  
    ub}t3#  
    V5K`TC^  
    ?.|qRzWL  
            更深的分析 p4<&NMG  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 [@#P3g\:>W  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 M=26@ n  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 M^mS#<!y  
    Cf<i"   
    S`K8e^]  
    ~8`r.1aUO  
    使用TEA进行性能评估 RNcHU  
    >8t3a-/  
    hX$k8 o0  
    Sq-mH=rs]  
    使用FMM进行性能评估 "J, ErnM  
    wjo xfPnf  
    VZb0x)w  
    xlqRW"  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 d '4c?vC  
    *<x EM-  
    P et0yH  
    /0!6;PC<  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 _tb)F"4V  
    x V~`sqf  
    0>4:(t7h\  
    xO'1|b^&  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 wR@fB  
    ^&h|HO-5  
     
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