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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    9bM\ (s/  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。  &9y Zfp  
    I!sT=w8V  
    VfoWPyWD#  
    y{ ur'**l  
    设计任务 ~aob@(  
    4{P+p!4  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 zPby+BP  
    6mM9p)"$  
    \Vyys[MMY8  
    aFnel8  
    光栅级次分析模块设置 (>al-vZ6A  
                           =Hi@q "  
    4>KF`?%4  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 `/8@Fj  
    ,d#*i  
    5J5?cs-!  
    7L!JP:v   
    idI w7hi4  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 UL+Txc  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 gEh/m.L7  
    4 PK}lc  
    QaWS%0go  
    衍射分束器表面 +?_!8N8  
    G@8)3 @  
    #HUn~r  
    5ya9VZ5#  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 /"{d2  
    2\xw2VQ@P  
    }9fa]D-a?  
    lTx_E#^s  
    &,nv+>D  
    1!#N-^qk  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) S=UuEmU5N  
    &.)=>2  
    RTOA'|[0M  
    VBhUh~:Om  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 9[0iIT$q$  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 ZEqW*piI  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 R N$vKJk  
     TGCB=e  
    <kn 2  
    pjeNBSu6  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 E7Cobpm  
    U&^q#['  
    kCBtK?g  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 q W(@p`  
    QS#@xhH  
    T ,lM(2S[  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 =2R4Z8G  
    ;:;E|{e  
    e5L+NPeM6v  
                设计与评估结果            相位功能设计 &YhAB\Rw  
                结构设计TEA评价 o@meogkL  
    FMM评估            高度标度(公差) =ZgueUz,  
    =KE7NXu]-  
    通用设置 vrs  
    "hIYf7r##  
    q<YM,%mgj  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 }lZEdF9GhG  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 G~9m,l+  
    Al$z.i?R  
    纯相位传输设计 X4;U4pU#  
    3smkY  
    2#wnJdr6E  
    5y#,z`S  
    结构设计 M 8},RR@{  
    k8gH#ENNK  
    O NabL.CV  
    %cF`x_h[j  
    &Vlno*  
            更深的分析 EC+t-:a]  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 OSu&vFKz  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 z/7q#~J,  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 bt}8ymcG  
    so-5%S  
    PRh C1#  
    {oQs*`=l>  
    使用TEA进行性能评估 pbMANZU[  
    _>gz&  
     3.&BhLT  
    "x,lL  
    使用FMM进行性能评估 pc`P;Eui  
    )nm+_U  
    JPI%{@Qc^  
    j=sfE qN).  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 C5~#lNC  
    :V/".K-:J  
    SmXoNiM"y  
    Y\ [|k-6  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 HE}0_x.  
    *C*J1JYp+  
    .f~9IAXP`  
    h+km?j  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 De$~ *2  
    /T _M't@j  
     
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