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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    md;jj^8zj  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 mbXW$E-&R2  
    @umn#*  
    WZ N0`Od  
    <Y)Aez  
    设计任务 ~F[JupU  
    .o)  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 D-Q54"^3  
    @me ( pnD  
    .#LvvAeh  
    4VP$, |a  
    光栅级次分析模块设置 r#B{j$Rw   
                           u-R;rf5%k  
    ]SUW"5L-  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 I[KAW"  
    G8lTIs4u;  
    y*T@_on5  
    ,U.|+i{  
    5`)[FCQ  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 T/ P   
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 nU/x,W[}  
    7T?T0x3>  
    /X;! F>  
    衍射分束器表面 Ygc.0VKMR  
    ne# %Gr  
    Q|7;Zsd:  
    ; ! B>b)%  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 ntn ~=oL  
    Id{Ix(O  
    uOJso2Mx  
    3u oIYY  
    z'}z4^35,  
    3w8v.J8q  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) V3$zlzSm,  
    ~vKDB$2  
    |`O210B@  
    X4/3vY  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 gH/(4h  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 0}- MWbG  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 $.O(K4S  
    OQ+kOE&  
    oT- Y  
    f<v Z4 IU  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 +oiuulA  
    PDb7h  
    vs{xr*Ft  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 T1uOp5_]B  
    Yq%r\[%*  
    6JD~G\$  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 }8Nr .gY  
    QxiAC>%K  
    `FByME  
                设计与评估结果            相位功能设计 9n;6;K#  
                结构设计TEA评价 ?zK\!r{  
    FMM评估            高度标度(公差) P]H4!}M  
    p5#UH  
    通用设置 @VnK/5opS  
    ?-=<7 ~$  
    j=Z;M1  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 w%~Mg3|  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 m">2XGCn  
    j5m]zh5\J=  
    纯相位传输设计 bl[2VM7P  
    {  P@mAw  
    \'+P5,  
    Ex5 LhRe>=  
    结构设计 5$c*r$t_RK  
    -~]]%VJP|  
    <h*$bx]9 +  
    lz(}N7SLa  
    A5,(P$@ k  
            更深的分析 gCaxZ~o  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 aA-s{af  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 R!2E`^{Wl  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 S{UEV7d:n0  
    ?'^yw C`  
    &J,&>CFc  
    uwu`ms7z 2  
    使用TEA进行性能评估 p;)@R$*  
    uOb}R   
    &W N R{  
    ~;I'.TW  
    使用FMM进行性能评估 ~Z5Wwp]a  
    }M &hcw<  
    RIq\IQ_|  
    z*`nfTw l  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 uk)D2.eS,  
    hv)d  
    IaGF{O3.  
    Ee'wsL  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 qwYq9A$+  
    S=3H.D!f  
    +uMK_ds~  
    K&;/hdS=F  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 %=5m!"F  
    DhT8Kh{  
     
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