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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    %u43Pj  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 Vcl"qz@Fj  
    PZR pH  
    fdzD6K ZI  
    VzMoWD;  
    设计任务 'UT 4x9&z  
    `yHV10  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 o_EXbS]C  
    QKbX^C  
    \p.Byso,  
    cu|#AW  
    光栅级次分析模块设置 U^~K-!0  
                           n4ce)N@  
    ?ae:9ZcH  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 M:nXn7)+  
    ^Y ~ ,s  
    ,$sq]_t  
    PT|^RF%fT  
    qw0tw2|  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 Yk:fV&]  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 i,FG?\x@  
    J~DP*}~XK  
    HPCgv?E3  
    衍射分束器表面 <k5FlvE2  
    ]<4Yor}t{;  
    E[t\LTt*n  
    N*lq)@smq  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 av gGz8  
    RV^2[Gdi  
    vP3Fb;  
    \h :Rw|  
    %g0"Kj5  
    /,/T{V[  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) + yS"pOT  
    Nt&}T  
    . %tc7`k8  
    A86#7  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。  rc*3k  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 @*q\$Eg}2  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 y*\ M7}](  
    ~0|~Fg  
    A,lcR:@w  
    gO4J[_  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 E` XUK,b  
    2j4VW0:  
    Rr4r[g#  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 _7]5 Q  
    8 8pz<$  
    20 zIO.&o  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 /I$g.f/#  
    /.$n>:XR  
    05DK-Wh?  
                设计与评估结果            相位功能设计 MrLDe {^C2  
                结构设计TEA评价 nrwb6wj  
    FMM评估            高度标度(公差) f&8&UL>e`  
    uMPJ  
    通用设置 6N~~:Gt  
    R7x4v  
    u+[ZWhKUp  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 <R*.T)Z1  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 3r+vpyu  
    m {_\@'q  
    纯相位传输设计 x~j%  
    "] kaaF$U%  
    uzho>p[ae  
    3,oFT   
    结构设计 aMZ6C <N  
    K}`.?6O  
    &Zd{ElM  
    Q++lgVh)E  
     7I^(v Q  
            更深的分析 !ygh`]6V  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 RQ9fA1YP  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 2!7wGXm~U  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 @]Iku6d-  
    {\;CGoN|  
    V_Wv(G0-\  
    Sw%=/g  
    使用TEA进行性能评估 f/*Xw{s#  
    >Ah [uM  
    <3O>  
    !j%vUe;t  
    使用FMM进行性能评估 -?2ThvT  
    {]Nvq9?  
    |"5NI'X?  
    h[ba$S,T  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 &=<x&4H+  
    ;5PXPpJ  
    nI|jUD +y  
    !RFlv  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 \uQ(-ji  
    o" &7$pAh  
    -+Kx^V#'R  
    \[B5j0vV,  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 =>)l6**UE  
    }/SbmW8(1  
     
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