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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    L1q]  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 1L3 $h0i  
    2W63/kRbU  
    ;9uDV -"  
    VB4ir\nF  
    设计任务 rFto1m  
    H.[(`wi!I  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 ,Fu[o6x<^  
    .5#+)] l  
    R ~#&xfMd.  
    m2F+ 6G  
    光栅级次分析模块设置 3C#Sr6  
                           [Lf8*U"  
    *o=( w5   
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 Wtflw>-  
    mxCqN1:#  
    3X1 U  
    $rQi$w/  
    nA+gqY6 6|  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 _P=L| U#C  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 (i]0IYMXy*  
    : )k|Onz  
    LlbE]_Z!U%  
    衍射分束器表面 I"WmDC`1  
    k| >zauK  
    2K{)8 ;^  
    ,{#Li  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 V:1_k"zQ  
    %D+NrL(  
    S$nEflcz  
    I -V=Z:  
    5^36nEoA(  
    R=L-Ulhk  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) t\-;n:p-  
    #:[CF:  
    @P<Mc )o^  
    oX6()FR  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 D (Q=EdlO  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 b*cVC^{Dy  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 p@+D$  
    Gq.fQ_oOb  
    }<H0CcG  
    PE2O$:b\  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 K1-y[pS]E  
    <{k8 K6  
    >jm^MS=  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 $_ k:{?  
    ajD/)9S  
    #!]~E@;E  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 1K{hj%  
    6b h.5|  
    NMhI0Ix$w  
                设计与评估结果            相位功能设计 "'U]4Z%q!  
                结构设计TEA评价 HJOoCf  
    FMM评估            高度标度(公差) S~.%G)R  
    ~@'DYZb- H  
    通用设置 E <h9o>h  
    #80r?,q  
    ]{pH,vk-  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 uS{WeL6%  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 ZG_iF#  
    42,K8  
    纯相位传输设计 V%n7 h&\%  
    W^1)70<y  
    ^ V8?6E  
    5`1p ?  
    结构设计 XM?C7/^k  
    Xe<kdB3  
    #|acRZ9 }  
    *!yY7 ~#  
    O*hQP*Rs  
            更深的分析 &^])iG,Ew  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 w:@W/e*9N  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 Ve\P,.  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 X6EnC57  
    #:} mi;{  
    3 bl l9Ey  
    )W3kBDD  
    使用TEA进行性能评估 &,iPI2`O A  
    ' 8UhYwyr  
    <|4L+?_(&  
    [knwp$  
    使用FMM进行性能评估 +cx(Q(HD\  
    8DZ OPA  
    D>"!7+t|@a  
    ?F@X>zR2  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 ? -`8w _3  
    -5Ln3\ O@  
    MF.$E?_R  
    .oxeo 0@~  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 j'nrdr6n  
    LkUi^1((e  
    4F?O5&329i  
    _:?b -44  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 A<[X@o}92  
    8Z(\iZ5Rgj  
     
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