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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    YV*b~6{d  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 ?K0U3V$s  
    m'd^?Qc  
    6H0W`S0a  
    {5SfE$r  
    设计任务 + Qt[1Xq  
    a lrt*V|=  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 mRCHrw?WG  
    !]yQ1@)*'  
    DYX-5~;!  
    mj)PLZ]  
    光栅级次分析模块设置 W3^.5I  
                           mn. `qfMh  
    ])C>\@c6Gm  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 Lj4&_b9  
    j5zFDh1(  
    PJCnud F  
    \ [cH/{nt  
    dPHw3^J0j  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 NW)M?f+6  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 ?gLAWz  
    *MI)]S  
    [6_"^jgH  
    衍射分束器表面 `Z:3` 7c  
    )i @1X H"D  
    i!L;? `F{  
    eO'xkm  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 J2'K?|,m  
    aRX  
    c -w0  
    H"O$&  
    i-,'.w  
    3EmcYC  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) PT+c&5AS  
    P])L8zK  
    ZY)%U*jWU  
    6%%PP8.F  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 2hy NVG&$  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 Yc d3QRB  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。  qtzFg#  
    FRgLlp8x  
    Mm.Ql  
    W<Z$YWr  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 E3f9<hm   
    .liyC~YW  
    WO@H*  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 :c=v}  
    Z:|9N/>T  
    {V0>iN:~S  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 0V3gKd7  
    AFm,CINa  
    \6:>{0\  
                设计与评估结果            相位功能设计 gfm;xT/y  
                结构设计TEA评价 V!xwb:J  
    FMM评估            高度标度(公差) *> KHRR<N  
    \B&6TeR  
    通用设置 <BPRV> 0X  
    wyzOcx>M  
    GmbIFOT~  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 ]`d2_mu  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 \vVSh  
    (Xo SG  
    纯相位传输设计 d=y0yq{L  
    sPy2/7Wqd  
    GRIa8>  
    ^df x~C  
    结构设计 1ef'7a7e8  
     U(~U!O}  
    /EU ; ?O  
    J$QBI&D  
    Vho0e V=  
            更深的分析 LwOJ |jA(,  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 k" YHsn  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 j#VIHCzlr  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 U^rm: *f  
    q}wj}t#  
    ] H&c'  
    [(|v`qMv/g  
    使用TEA进行性能评估 /.P9MSz0G  
    -CD\+d  "  
    RqLNp?V%  
    aD ESr?  
    使用FMM进行性能评估 @]=f?+y[ 2  
    +9[SVw8  
    :6lwO%=F  
    s<&[\U  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 $"8d:N?I[  
    qVBL>9O*.  
    =IHje;s  
    AIh*1>2Xn  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 "- eZZEl(  
    *vnXlV4L  
    hS:jBp,  
    U -EhPAB@  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 ?2ItB`<(  
    9&K/GaG  
     
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