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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    /o#!9H   
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 i/R8Gb  
    g PogV(V  
    >l{<p(  
    ufm`h)N  
    设计任务 x F7C1g(  
    4]RGLN  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 72@raA#y  
    ~aa`Y0Ws],  
    LJDX6]4n  
    rVq=,>M9  
    光栅级次分析模块设置 Ha9A5Ao}0  
                           1iEZ9J?  
    Urur/_]-%  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 " & 'Jw  
    48Y5ppcS  
    IZY q  
    E6|!G  
    'm9f:iTr  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 /Za'L#=R  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 |3W\^4>,  
    \9dSI  
    ~` v 7  
    衍射分束器表面 .g_B KeU  
    #+p30?r0y  
    fRC(Yyx  
    EU.vw0}u8  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 IO~d.Ra  
    zd AqGQfc  
    #=UEx  
    |2(z<b&y=  
    2j8^Z  
    )nU%}Z  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) Oi+(`  
    Xm&L@2V  
    o B;EP  
    aG;6^$H~  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 K[Bq,nPo  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 3 G/#OJ  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。  Hi#'h  
    1xg^;3m2  
    /WXy!W30<  
    Vc|r(lM  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 de]r9$ D  
    "H\'4'hg  
    }yCJ#}  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 9.ZhkvR4A  
    "f\2/4EIl  
    'gd3 w~  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 [?$ZB),L8  
    x;" !  
    6r"uDV #0  
                设计与评估结果            相位功能设计 c(Zar&z,E  
                结构设计TEA评价 A,D67G<v`  
    FMM评估            高度标度(公差) k.? aq  
    xxOo8+kA  
    通用设置 O~F/{: U  
    ^G%Bj`%  
    bUbM}  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 o8\@R  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 6+"P$Ed#i  
    ZK<kn8JJ  
    纯相位传输设计 !PUbaF-.6  
    i>6SY83B}  
    6dQa|ACX_  
    .E:[ \H"  
    结构设计 .QOQqU*2I  
    .b>1u3  
    +F q`I2l|  
    _KiaeVE  
     ,!_  
            更深的分析 "8 |y  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 'SF+P)Kmz  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 ,\Gn  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 B;t U+36nM  
    Vr/UbgucJ  
    3nv7Uz  
    f 'aQ T  
    使用TEA进行性能评估 b2c% 0C  
    :/fG %e  
    5 zG6V2  
    i$[wgvJIV  
    使用FMM进行性能评估 R_ J=x  
    5(bG  
    rZ<0ks  
    AH`D&V  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 ;hR!j!3}  
    l=*^FK]L`  
    -'+|r]  
    ])h={gI  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 8[5%l7's  
    }CZ,WJz=  
    jfF,:(P%W  
    Nw $io8:d  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 c.jq?Q k  
     =Run  
     
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