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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    B91S h`  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 F.~n  
    pPiYPfs  
    #L@} .Giz  
    .q5J^/kr  
    设计任务 B^8ZoF  
    3:]{(@J  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 *} *!+C3  
    Aj8l%'h[  
    klK-,J  
    nV!2Dfd  
    光栅级次分析模块设置 TRs[~K)n  
                           0%;N9\  
    ,h%D4EVx  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 1&X}1  
    )CC?vV  
    jgo e^f  
    ^3Z7dIUww  
    7af?E)}v  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 eW\?eq+ `A  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 %+AS0 JhB  
    8BYIxHHz  
    egZyng pB  
    衍射分束器表面 Nk lz_ ]  
    MuDFdbtR  
    ?o2;SY(-  
    c[(yU#@  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 :3111}>c  
    ;jRL3gAe)  
    3+CSQb8  
    ?8Hn {3X  
    fkdf~Vb  
    Y5n z?a  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) .@y{)/  
    ^-gfib|VGe  
    Si#"Wn?|  
    ljN zYg~-  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 IV)^;i  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 T6sr/<#<(  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 T{_1c oL  
    J|n(dVen/  
    kmZ.U>#  
    l%^h2 o  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 8!Wfd)4=,F  
    Iv'RLM  
    0L!er%GM  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 Qy4X#wgD  
    ?wGiog<Q{  
    J)-T:.i|0  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 pwa.q  
    C}n'>],p  
    LiiK3!^i  
                设计与评估结果            相位功能设计 $-m@KB  
                结构设计TEA评价 K5P Gi#  
    FMM评估            高度标度(公差) Ya~ "R#Uy  
    ]b}B~jD  
    通用设置 Gh2#-~|cB  
    ;l$9gD>R  
    *6NO-T; -  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 EYA/CI   
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 }16&1@8  
    5iP8D<;o5  
    纯相位传输设计 IeO-O'^&`  
    :9(3h"  
    +c-6#7hh  
    smQ4CLJ  
    结构设计 aL88E  
    %,33gZzf  
    ]PeLcB  
    F;pTXt}?5  
    3 t/ R2M  
            更深的分析 L_E^}^1!  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 +H41]W6  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 <#zwKTmK1  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 [.{^"<Z<  
    #]@9qPyn  
    Sbp  
    Kl2}o|b   
    使用TEA进行性能评估 Tj Mb>w9  
    /j11,O?72  
    PXa5g5 !  
    A_@I_V$  
    使用FMM进行性能评估 * nLIXnm  
    K*[9j 0  
    -<|Y1PQ  
    q1H~ |1  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 :MK=h;5Z  
    R_7 6W&  
    i[PvDv"n  
    Jms=YLIAA  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 ;{Xy`{Cg!  
    Bw6L;Vu  
    ~xw5\Y^  
    ]\7lbLv  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 Sobtz}A*  
    d`85P+Qen|  
     
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