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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    gHshG;z*  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 RBwV+X[B  
    Y))sk-  
    .R5z>:A  
    a!]%@A6p  
    设计任务 p\\q[6  
    X ii#Qtd.  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 f}eVfAf  
    ApB0)N  
    p<34}iZ  
    .`XA6e(8KR  
    光栅级次分析模块设置 cTp+M L  
                           ]S ,GHPEN  
    _Tz!~z  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 .Oh$sma1  
    ;7>--_?=  
    +i =78  
    &ii =$4"R  
    "(qO}&b>  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 l/LUwDI{  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 >w2u  
    +\chHOsw  
    p4 PFoFo2  
    衍射分束器表面 pp jrm  
    p?@D'  
    n3\vq3^?  
    Fu$sfq  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 z16++LKmM  
    [-ecKPx  
    Q23y.^W%c  
    FC#Q tu~J  
    C2v7(  
    j;.&+.  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) oP6G2@3P/  
    f9$q.a*  
    J:a^''  
    }s[/b"%y  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 [>86i  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 , +^db)  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 CiSG=obw  
    @ 2_&ti  
    L  z  
    tG-MC&;=  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 JiR|+6"7  
    1Rh&04O>VL  
    plq\D.C  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 '4rgIs3=x"  
    o%a$m9I  
    `U R.Rn/x  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 0% /M& N  
    QZfnoKz  
    ~cjvo?)&e;  
                设计与评估结果            相位功能设计 vY6|V$  
                结构设计TEA评价 ~nQb;Bdh%  
    FMM评估            高度标度(公差) ;Mz]uk  
    NO1PGen  
    通用设置 .uP$M(?j  
    q,GL#L  
    4/4IZfznX  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 ~ocr^V{"<~  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 ]+8,@%="  
    _u0dt) $  
    纯相位传输设计 ]rS+v^@QH  
    !FO)||'[  
    _!C H  
    Evc 9k  
    结构设计 {~SR>I3sv  
    |*b8-a8<  
    cQny)2k*x  
    uD"Voh|]=  
    &V"&SV>}  
            更深的分析 yWuq/J:  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 iq#Z\Y(  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。  x^"OH  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 e/6oC~#]  
    LM} si|  
    0czy:d,M%  
    h4/rw fp^  
    使用TEA进行性能评估 d={}a,3?  
    Z+?j8(:n  
    G4i&:0  
    M@8(h=  
    使用FMM进行性能评估 i=ba=-"Mt  
    MI/1uw  
    i< ih :  
    8P .! q  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 &zZSWNW  
    [;(| ^0  
    &^EkM  
    Gi-tf<  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 0V^?~ex  
    1#'wR3[+  
    g%Z;rDfi  
    &"BKue~q@p  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 G*QQpSp  
    Na=q(OKN  
     
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