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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    3'p 1m`8  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 0.m-}  
    XFTqt]  
    7r:&%?2:g  
    RKzO$T  
    设计任务 z}}P+P/  
    {KDN|o+%  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 =LY`K#  
    T!?tyW  
    ; Ows8  
    {oOUIP  
    光栅级次分析模块设置 1tO96t^d%  
                           *Mg@j;+5s  
    {nM1$  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 6 o   
    f5M;q;  
    *]/iL#  
    l(x0d  
    ]'n4e*  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 `3? HQ2n  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 x?A<X2  
    AEM;ZQU  
    aZo}Ix:/  
    衍射分束器表面 dHAT($QG  
    H9'psv  
    LV1drc  
    zrSYLG  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 s[eSPSFZ  
    vC1fKo\p  
    yX*$PNL5w  
    3st?6?7|  
    GwXhn2  
    jLn#%Ia}  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) RIUJX{?  
    u,:hT] ~+  
    y5c\\e  
    P9:5kiP H  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 G3y8M |:  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 R<I#. KD  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 O..{wdZy  
    J9t?;3  
    +VQD'  
    %H{;wVjK  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 du'`&{_/  
    .* `]x  
    'Qg!ww7O  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 -B/'ArOo]  
    IDf\! QGx  
    )RTWt`  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 7jxx,#I:  
    bbjEQby  
    8G$BQ  
                设计与评估结果            相位功能设计 8JQ\eF$ma  
                结构设计TEA评价 7l/ZRz }1  
    FMM评估            高度标度(公差) ZXo;E  
    >}+R+''nR  
    通用设置 *pD|N  
    hP'4PLK  
    ?zC{T*a  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 1_!?wMo:f  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 fD(r/~Vu  
    6`6 / 2C$%  
    纯相位传输设计 ZDL1H3;R  
    vm;%713#1  
    }=\?]9`  
    | @ ut/  
    结构设计 rZ n@i  
    LauGT* z!  
    nql9SQ'\\  
    .Mb0++% W  
    ?%~^PHgZ|  
            更深的分析 CLmo%"\ s  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 rp"5176  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 jTg~]PQ^  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 PW5)") z  
    o o'7  
    X=1o$:7  
    7T6Zlp  
    使用TEA进行性能评估 ~4=*kJ#7  
    xk/-TXB 0  
    uxDM #  
    EFx>Hu/ [G  
    使用FMM进行性能评估 Ye$j43b  
    / yBrlf  
    >W >Ei(f  
    QD3tM5(Yr  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 +C~d;p  
    f@hM^%  
    \X\f ~CB  
    |kvH`&s  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 iSoQ1#MP)2  
    h/|p`MP\1  
    AIn/v`JeX  
    573,b7Yf  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 #| ,cy,v4  
    flC%<V%'-  
     
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