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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    v3\ |  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 I "Qf};n  
    ufl[sj%^|  
    5>CmWMQ  
    [l# 8}dy  
    设计任务 .kwz$b+h  
    }OZut!_  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 Yx#?lA2gx  
    &k53*Wo  
    J n>3c  
    j}s<Pn%4  
    光栅级次分析模块设置 skaPC#u  
                           80m<OW1  
    py|ORVN(Z  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 SfTTB'9  
    IkWV|E  
    '0b!lVe  
    t.\<Q#bN#  
    mH`K~8pRg  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 |NMf'$  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 }^Ymg7wA  
    mM#[XKOC<  
    7l%]O}!d)  
    衍射分束器表面 ~?6M4!u   
    ;r8< Ed  
    t_xO-fT)  
    78~;j1^6u  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 RKi11z  
    u B~C8}  
    _s{;9&qX]  
    ]#NJ[IZb  
    o|en"?4  
    dgEH]9j&  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) &0`[R*S  
    Qxb%P<`u  
    tRZA`&  
    2#jBh   
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 1ze\ U>  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 rbt/b0ET  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 L$zB^lSM  
    V|\dnVQ'-%  
    y1 qJ  
    qrr[QEFW  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 0PP5qeqN2n  
    F[@M?  
    $-w&<U$E  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 GbB :K2  
    S"<"e\\}"_  
    alp}p  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 "/k TEp  
    t,]E5,1  
    EP'I  
                设计与评估结果            相位功能设计 {t%Jc~p{  
                结构设计TEA评价 |Y tZOQu  
    FMM评估            高度标度(公差) CT0 ~  
    7Zw.mM!i  
    通用设置 |& Pa`=sp  
    z)_h"y?H{%  
    X,mqQ7+  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 <=Z`]8  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 SJ8CBxA  
    ExxD w_VGT  
    纯相位传输设计 nj4G8/U-q  
    zL@FN sYVM  
    M5Q7izM  
    ;RzbPlkl  
    结构设计 vuoD~=z  
    AuIg=-xR  
    1yd}F`{8UF  
    j3Ps<<eA  
    +:ih`q][b  
            更深的分析 V`& O`  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 %] #XIr  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 2tqj]i  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 8`B]UcL)  
    YIn H8Ex  
    ?,z/+/:  
    o>jM4sk$  
    使用TEA进行性能评估 Wz+7CRpeP  
    SCL8.%z D  
    #`o]{UfW  
    GX#SCZ&}C  
    使用FMM进行性能评估 Iw[7;B5v  
    | k?r1dj%O  
    hM "6-60  
    Q:^.Qs"IK  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 M" vd /F V  
    J e"~/+  
    dxi5p!^^9  
    kNk$[Yfs  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 Ka/*Z4"  
    nvbKW.[<f{  
    |w+N(wcJ  
    m&a 8/5  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 Kd!.sB/%  
    QzilivJf  
     
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