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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    O$e"3^Pa  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 [xrsa!$   
    uKXD(lzX  
    GiM-8y~  
    M&29J  
    设计任务 7=u Gf$/  
    V>Z4gZp5sc  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 NyRa.hgZ;  
    ~CV.Ci.dG  
    PWx%~U.8~j  
    (BxmV1  
    光栅级次分析模块设置 }v|_]   
                           Nb !i_@m%s  
    : 7"Q  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 Ly^bP>2i  
    oOvQA W8`  
    0x5Ax=ut  
    l=l$9H,  
    =. \hCgq  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 b-#{O=B  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 ,<#Rk 'y$  
    b/R7 Mk1  
    Il*!iX|23<  
    衍射分束器表面 0k16f3uI   
    -2[4 @  
    6.KEe^[-  
    ]ilLed  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 1Hr1Ir<KR  
    :n{{\SSIgX  
    `Ji WS  
    Udtz zka  
    T"za|Fo  
    (2> q  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) OOXSJE1  
    EZI#CLT[  
    5m0lk|`  
    '5$@ I{z  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 3fQ`}OcNr  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 .|go$}Fk  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 YQHpW>z  
    9XDSL[[  
    PcT]  
    s6!&4=ZA  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 !\1)?&y9j  
    ([rn.b]  
    :*]#n  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 (T pnJq  
    "xTVu57Z[  
    JmR2skoV,  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 <2 [vR|Q*  
    [@VzpVhXz  
    M_%KhK  
                设计与评估结果            相位功能设计 d@{12 hq  
                结构设计TEA评价 KyVzf(^  
    FMM评估            高度标度(公差)  {p/Yz#  
    9%NsW3|  
    通用设置 0vSPeZ  
    )b]wpEFl  
    S{&%tj~U  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 LFi* O&  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 #>:S&R?2t  
    U@yhFj_y  
    纯相位传输设计 *`w>\},su  
    B%Qo6*b  
    }ixCbuD  
    }UGSE2^1  
    结构设计 t~K[`=G\ex  
    OZf@cOTWK  
    $#5 'c+0  
    S{e3aqT#N  
    V~/@KU8cH  
            更深的分析 xL.m<XDL  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 $X Uck[  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 &W<9#RPK'  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 Fyw X  
    "y7\F9  
    %2I>-0]B  
    w$iPFZC'  
    使用TEA进行性能评估 f!YlYk5  
    ~PyS;L}  
    'Y ,2CN  
    ,Il) tH  
    使用FMM进行性能评估 `0U\|I#  
    1@'I eywg  
    AHuIA{AdUR  
    /]J\/Z>  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 dB#c$1  
    4Lk<5Ho  
    L|#0CRiN  
    *u|1Z%XO  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 ~V?z!3r-)  
    (r?hD*2r  
    9\Ff z&  
    T<Y*();Zo  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 W-r^ME  
    5-fASN.Lx  
     
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