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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    dS m; e_s  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 J)leRR&  
    >gFEA0-  
    m6oaO9"K  
    p!xCNZ(m  
    设计任务 +>wBGVvS  
    I?!7]Sn$  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 ]~1Xx:X-  
    _r&,n\ T  
    N9A#@c0O  
    `c~J&@|  
    光栅级次分析模块设置 8Mf{6&F=  
                           "`4V ^1  
    (+ibT;!]  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 }{.0mu9  
    QBI;aG<+b>  
    5g(`U+ ,*(  
    _wKaFf  
    z<c%Xl\$%  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 =xq+r]g6  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 ^*=.Vuqy  
    n6Qsug$z  
    _rU%DL?  
    衍射分束器表面 @ =M:RA  
    da/Tms`T  
    - .EH?{i  
    K-CF5i:  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 )IH|S5mG?  
    d1rIU6  
    vRQ7=N{3  
    ecRY,MN  
    @ysc?4% q  
    <)dHe:  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) %2jRJ  
    %P2l@}?a  
    X5gI'u  
    :_f5(N*{5o  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 dRD t.U!T  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 c?0.>^,B Q  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 aF41?.s  
    ;0c -+,  
    -FGQn |h4  
    :K)7_]y  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 (Iz$_(  
    1\aJ[t  
    /Qnq,`z  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 >{HQ"{Q  
    ^I CSs]}1  
    -E(0}\  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 #NZ#G~oeO  
    }@XokRk  
    15X.gx  
                设计与评估结果            相位功能设计 'fIoN%  
                结构设计TEA评价 CVy\']  
    FMM评估            高度标度(公差) ?;0w1  
    O8Dav^\y?  
    通用设置 <Cbi5DtR  
    u9zEhfg8  
    s1GR!*z>  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 45aUz@  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 iX|K4.Pz{  
    .;$Ub[  
    纯相位传输设计 TF1,7Qd  
    aVvma=  
    F!_8?=|  
    rijavZS6  
    结构设计 LN0pC }F  
    9>6DA^  
    $~+(si2  
    )p^" J|  
    x=M%QFe  
            更深的分析 ?bH&F  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 !Soz??~o/  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 U5RLM_a@M  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 yCvP-?2  
    }B e;YIhG  
    ! *eDT4a  
    yt@7l]I  
    使用TEA进行性能评估 8 v}B-cS  
    -Lhq.Q*a  
    mfqnRPZ  
    T@%\?=P  
    使用FMM进行性能评估 9,wD  
    hl]q6ZK!6  
    0H/)wy2ym  
    *671MJ 9  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 9?XQB%44  
    SNJSRqWL/  
    { MV,>T_  
     mPL0s  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 yiw4<]{IX  
    abD@0zr  
    f OasX!=  
    S"4eS,5L|  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 dfP4SJqq  
    z?^oy.  
     
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