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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    }U$p[Gi<  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 OyTp^W`&  
    uJ%XF*>_D  
    x5!lnN,#  
    M!] g36h[  
    设计任务 :JG2xtn  
    FQikFy(YY  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 1&JB@F9!  
    qISzn04  
    `xu/|})KI  
    Ec|5'Kz]  
    光栅级次分析模块设置 ~@EBW3>~5  
                           1EA}[x  
    R>`TV(W`9  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 A*+KlhT  
    SR&'38UCe  
    4(}V$#^+  
    u[1'Ap  
    0D_{LBO6LU  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 .k:Uj-&  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 h%(0|  
    jxA*Gg3cT5  
    N^By#Z  
    衍射分束器表面 >tVD[wVF0  
    vhu5w#]u*  
    Ke,$3Yx  
    Lw #vHNf6  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 Km,:7#aV  
    *6 1G<I  
    }TAHVcX*p  
    X4:SH> U!  
    73'.TReK  
    wU bLw  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) "r.eN_d  
    =[V  
    @;H1s4OZ  
    P*sb@y>}O  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 PEHaH"|([=  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 tD !$!\`O  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 <)$b=z  
    Xw[|$#QKM  
    .#$D\cwV  
    ' CO3b,  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 Mny mV;y"  
    V61.UEN  
    L BP|  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 {pW(@4U  
    .jjv S  
    k->cqtG  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 %["V "{ z  
    dk4|*l-  
    ;NeN2|I]  
                设计与评估结果            相位功能设计 X7gtR|[  
                结构设计TEA评价 gw);b)&mx  
    FMM评估            高度标度(公差) b(.,Ex]  
    ~g[<A?0=y  
    通用设置 b".e6zev  
    X[ up$<  
    `jyBF  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 &fYV FRVkq  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 *wetPt)~v_  
    Jv9yy~  
    纯相位传输设计 WGrG#Kw[  
    "G3zl{?GP  
    l&1R`gcW  
    ^`XTs!.  
    结构设计 O'} %Bjl  
    z4 yV1  
    -^%YrWgd?  
    oDEvhN T  
    d;9F2,k$w  
            更深的分析 gr y]!4Hy  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 ]aF!0Fln~  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 RRH[$jk  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 zU$S#4/C  
    Z#P:C":e  
    ~)\E&c  
    b4HUgW3Ac  
    使用TEA进行性能评估 D-IXO @x  
    E)=X8y  
    ?pJUbZ#J  
    ~qxuD_  
    使用FMM进行性能评估 L&2 Zn{#`  
    2PSt*(  
    a9CK4Kg  
    !{, `h<  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 wpLC,  
    ~HH6=qjU)  
    TQ\\/e:  
    uNn]hl|x  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 BRg(h3 ED  
    Z7t-{s64  
    $ }D9)&f;  
    M(_1'2  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 lB Y"@N  
    iHB1/  
     
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