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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    0e07pF/!  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 AiL80W^=d)  
    >xA( *7  
    }]M'f:%b  
    )w5!'W4Z8  
    设计任务 Nobu= Z  
    *8+HQ[[#  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 q{%~(A5*H  
    ;W|GUmADf  
    `EfFyhG$  
    3}8L!2_p  
    光栅级次分析模块设置 N ]14~r=  
                           `e`DSl D>  
    R )4,f~@"  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 S_ nAO\h  
    ]rSg,Q >E  
    :0ltq><?  
    4c qf=  
    O)DAYBv^  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 ^O =G%de  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 >|`1aCg,  
    L0I |V[  
    .S1MxZhbP  
    衍射分束器表面 1M 6^Brx  
    ]jPP]Z:y  
    WJ)4rQ$o  
    IlwHHt;njp  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 Q^=0p0  
    Kv:Rvo  
    *wsZ aQ  
    u.G aMl4 (  
    Q1{9>NI  
    $RB p!7  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) Vugb;5Vl  
    ,j9?9Z7R  
    uL@%M8n  
    s"J)Jc  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 y<wd~!>Ubu  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 m`n~-_  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 QN?EI: q=  
    OSLZ7B^  
    h@'CmIZc  
    %C@p4  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 Fa\jVFIQ  
    xt IF)M  
    >4-9 @i0FV  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 -rjQ^ze  
    Jf0i$  
    e ky1}  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 7lA_*t@y  
    nz'6^D7`r  
    x]`@%8Sm  
                设计与评估结果            相位功能设计 tl*h"du^  
                结构设计TEA评价 Mu-kvgO`L  
    FMM评估            高度标度(公差) {~j/sto-:  
    .p*?g;  
    通用设置 `m8WLj  
    2_6ON   
    M# -E  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 RHpjJZUV  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 1X`,7B@pz  
    6$f\#TR  
    纯相位传输设计 1 ?Zw  
    Ziub%C[oV  
    <%`Rku  
    ij~-  
    结构设计 ](8F]J ,  
    ggitUQ+t;G  
    b62B|0i  
    2"6qg>]-t  
    hW/Ve'x[  
            更深的分析 5o>*a>27,A  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 >;bym)  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 -^(KGu&L&u  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 =au!rda  
    1-N+qNSD`  
    6,M$TA  
    c0rU&+:Ry  
    使用TEA进行性能评估 osd oL  
    JR xY#k  
    O^ui+44wp  
    3 =c#LUA`  
    使用FMM进行性能评估 /988K-5k  
    MEJX5qG6m  
    H?M:<q0|G  
    f-|zh#L  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 ]4V1]  
    2<p@G#(  
    x4g/ok  
    bJ1Nf|3~E  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 sQ^t8Y 9  
    E{ e  
    g6P^JW}.  
    QG~6mvD  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 Fj2z$   
    ~m,~;  
     
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