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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    .[eSKtbc)  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 $yxIE}  
    e-T9HM&%P  
    fR{WS:Pv  
    m8j#{[NE  
    设计任务 QtO[g  
    Di5Op(S((  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响  hE?GO,  
    O+3D 5*  
    s3fGX|;  
    u0$5Fd&X  
    光栅级次分析模块设置 Qg8eq_m(  
                           )Lv6vnT>  
    %CfTqbB  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 iaq:5||,  
    8mQd*GGu1  
    zfT'!kb,(  
    r:S5x.P2  
    ::Ve,-0  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 b "AHw?5F  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 :[$i~V  
    RAXJsF^5o  
    ='l6&3X  
    衍射分束器表面 T=)L5Vuq<  
    rO2PbF3  
    &`9bGO  
    h11bK'TIv  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 =K&q;;h  
    S3[oA&  
    kQ:>j.^e  
    rH9|JEz  
    ZB h@%A  
    +\]S<T*;  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) QH56tQq  
    }Q,C;!'"  
    { N8rZ[Oo  
    lVK F^-i  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 [E&"9%K  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 d`rDEa  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 vN[m5)aT  
    "nS{ ;:  
    b9!J}hto,  
    I5AjEp  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 ;R-Q,aCM}  
    '"NdT7*+  
    l[ OQo|_  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 Ffqn|} gb  
    1 </t #r  
    ?_`P;}4#  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 )}Mt'd  
    PfMOc+ q  
    [ @71  
                设计与评估结果            相位功能设计 L&F\"q9q71  
                结构设计TEA评价 kKTED1MW&W  
    FMM评估            高度标度(公差) >Sl:Z ,g;  
    W!Os ci  
    通用设置 D_`)T;<Sp  
    a~+WL  
    GVPEene  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 S+=@d\S}"  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 QrRCsy70  
    N=}Z#  
    纯相位传输设计 !!Gi.VL  
    \y+F!;IxL  
    CX(yrP6;  
    0Nzv@g{3  
    结构设计 aIyY%QT  
    a[OLS+zf!P  
    +]2~@=<@  
    5^R#e(mr  
    [aVJYr2  
            更深的分析 H<3b+Sg  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 [}Yci:P_ +  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 eT \Q  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 !)1Zp*  
    9(\N+  
    .ceU @^  
    {.[,ee-)9  
    使用TEA进行性能评估 ]$%4;o4O  
    fpC@3itI  
    @G&xq "Fg7  
    K":tr~V;  
    使用FMM进行性能评估 ~]s"PV:|  
    $XzlW=3y  
    Nd!=3W5?  
    :BiR6>1:  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 ]uXsl0'`V  
    o%s}jBo}  
    (B4 A$t  
    Hm[!R:HW,S  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 `'t;BXedz/  
    [WSIC *|;  
    gG?*Fi  
    G(,~{N||  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 X Ow^"=Oa[  
    Q/SC7R&"t  
     
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