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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    9Kx:^~}20o  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 ` +UMZc  
    u0KZrz  
    <Jrb"H[ T"  
    eo52X &I  
    设计任务 KXfW&d(Pk  
    .EZ{d  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 v]SE?xF{U  
    Z=[a 8CU  
    FY}*Z=D%  
    i/Lq2n3 )  
    光栅级次分析模块设置 q>4i0p8^  
                           VEKITBs  
    w>BFgb?  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 w*P4_= :%Y  
    Y4!q 1]TGX  
    y1My, ?"?  
    NWN)b&}  
    hg=G//  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 =/!S  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 < LAD  
    #$B,8LFz,$  
    NG!Q< !Y  
    衍射分束器表面 Vzm+Ew _  
    2Wf qgR[3  
    "UnSZ[;t  
    +p<R'/  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 #LgoKiP!Y  
    q=i<vcw  
    >:E-^t%  
    0$ac1;7  
    oxXW`C<  
    L;7mt 4H  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) x i,wL0{  
    z9O/MHT[w  
    A0u:Fm{E  
    Z=8CbS).  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 0)a?W,+O  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 :FpBz~!a  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 u3brb'Y+  
    7]zZh a4X  
    )'|W[Sh?  
    lS-i9U/,>  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 K -1~K  
    R3`W#`  
    me^Gk/`Em  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 e-=PT 1T`  
    ulo7d1OVkJ  
    31Mc<4zI8  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 =Fl4tY#X  
    CoXL;\  
    XQ;d ew+  
                设计与评估结果            相位功能设计 K): sq{  
                结构设计TEA评价 =JH,RQ *  
    FMM评估            高度标度(公差) ^:ngHue8~  
    c &(,  
    通用设置 1*b%C"C  
    YKd?)$J  
    :]hfmWC   
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 %y+j~]^:  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 $Ws2g*i  
    (OJ9@_fgG[  
    纯相位传输设计 )E2Lf ]  
    M'7x:Uw;  
    P~Owvs/=  
    boovCW  
    结构设计 =ab}.dWC  
    7}.(EZ0  
    OAOmd 4  
    i.4[]f[/h  
    kA`qExw%  
            更深的分析 HX*U2<^  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 [' 1?'*  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 vdzC2T  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 %*=FLtBjo  
    a9-;8`fCR  
    S3cQC`^  
    YO+d+5  
    使用TEA进行性能评估 u\?u}t v  
    Fj4:_(%nG  
    ,Z"sh*  
     ond/e&1  
    使用FMM进行性能评估 v*v&f!Ym&s  
    c[q3O**  
    wE2?/wb  
    Ta$<#wb  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 0g4cyK~n]  
    BJ/%{ C`g  
    + P.Ir  
    5S bSz!s`$  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 i.&16AY  
    E;0"1 P|S  
    0@;E8^pa  
    c7_b^7h1  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 uRg^:  
    <o}t-Bgg  
     
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