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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    &N{XLg>  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 pi>,>-Z  
    ogt<vng  
    ,a N8`M  
    gbP]!d:I  
    设计任务 ]!yuD/4A  
    K{]!hm,[3  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 YlI/~J  
    W'Wr8~{h  
    s~ZLnEb  
    faqOGAb  
    光栅级次分析模块设置 3BBw:)V  
                           PcXz4?Q$  
    nLn3kMl4  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 |hsg= LX  
    $wL zaZL|  
    VdrqbZ   
    }9w?[hXW"  
    6,nws5dh  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 <ID/\Qx`q  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 0w'%10"&U+  
    L&[uE;ro  
    B}Q.Is5  
    衍射分束器表面 =!rdn#KH  
    d5/x2!mH8  
    <:[ P&Y  
    9#K,@X5 j  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 [LDV*79Z  
    0 K T.@P  
    Z=VAjJ;i[  
    ZPrL)']  
    ~j%g?;#*  
    8lG@8tbW^  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) D6cqON0a.  
    T%{qwZc+mJ  
    !j'9>G{T  
    aS ]bTYJ'  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 !q:[$g-@q  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 8UH c,np  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 :#CQQ*@  
    xcBV,[E{  
    ,(h:0L2v7d  
    H7&>cM  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 4bV&U=  
    blbL49;  
    ~s#vP<QHa  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 #\15,!*a=  
    FW](GWp`:  
    +;Yd<~!c Z  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 F:p'%#3rU/  
    0L3v[%_j"  
    5](-(?k}~  
                设计与评估结果            相位功能设计 a: C h"la  
                结构设计TEA评价 N3J T[7  
    FMM评估            高度标度(公差) nnP] x [  
    a?_!  
    通用设置 _gAU`aO^  
    in>Os@e#  
    r]GG9si  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 1y\ -Iz^  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 {51<EvyE*  
    5u\#@% \6  
    纯相位传输设计 +48a..4sN  
    1N8:,bpsT  
    \6]Uj+  
    o75Hit  
    结构设计 ]+C;C  
    T7F)'Mx<  
    =6PTT$,  
    ,hMd xZJd  
    0rnne L  
            更深的分析 yeI((2L@E2  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 fdU`+[_  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 : `Nh}Ka0  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 Bo)N<S_=^  
    y `)oD0)Fj  
    @m#1[n;  
    FLWQY,  
    使用TEA进行性能评估 U|[+M@F_L  
    mpsi{%gA  
    ?^y!}(  
    V:<NQd  
    使用FMM进行性能评估 itH` s<E  
    G54,`uz2  
    >gj%q$@  
    A>0wqT  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 WF'Di4   
    `~~.0QC  
    G<dWh.|`=  
    pwu8LQ3b{O  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 /'yi!:FZFC  
    @<^_ _."  
    at N%csA0  
    :6N'%LKK  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 ^@"H(1Hxu/  
    [xm{4Ba2X  
     
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