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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    @2sr/gX^  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 Bqw/\Lxwlf  
    ^@<Ia-x  
    SmV}Wf  
    (8(P12l  
    设计任务 'M fVZho{  
    vBV_aB1{  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 ZQyXzERp  
    :Aj[#4-=   
    ~BgNM O;|  
    SqVh\Nn  
    光栅级次分析模块设置 :ay`Id_tm  
                           T3t w.yh  
    7)BK&kpVr  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 [f?x ,W~  
    |Ew&.fgz  
    :H/Rhx=  
    |AS9^w  
    8Rnq &8A  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 EQX?Zs?C  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 = cI> {  
    'JJ :  
    VP^{-mDph  
    衍射分束器表面 x5k6"S"1,  
    5>-~!Mg1  
    7b(r'b@N  
    >[<f\BN|  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 B %  
    Z& bIjp  
    :` S\p[5  
    nMOXy\&mI  
    ?+L7Bd(EF%  
    N`LY$U+N|  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) ~sTn?~  
    Is!+ `[ma  
    8< "lEL|  
    K*5Ij]j&  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 7e Hj"_;  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 FLQ^J3A,I  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 W,.Exh  
    uCj)7>}v{M  
    Efu/v<  
    V5+|H1=  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 x";4)u=  
    ~zFwSF  
    =g)SZK  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 uf`/-jY  
    5oR)  
    ZBjb f_M:  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 B] PG  
    aL/7xa  
    rji<g>GQ  
                设计与评估结果            相位功能设计 T5aeO^x  
                结构设计TEA评价 X + B=?|M  
    FMM评估            高度标度(公差) -uB*E1|Q  
    =j8g6#'u  
    通用设置 L7N>p4h]Xj  
    )SfM`W)Y  
    =!=DISPo  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 *s!T$oc  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 9)'wgI#  
    BWzo|isv  
    纯相位传输设计 ! ;R}=  
    (n2=.9k!  
    sX(rJLbD  
    `LJ.NY pP  
    结构设计 FwDEYG  
    (!T\[6  
    z[0t%]7l  
    ;RW5XnVx  
    nu6v@<<F>  
            更深的分析 ^F-AZP /5F  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 V""3#Tw   
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 ^;;gPhhWV  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 tA-p!#V<k1  
    K?=g IC:  
    -9(nsaV  
    }5y ]kn  
    使用TEA进行性能评估 D}?JX5.  
    >x${I`2w  
    bJL,pe+u  
    sl*&.F,v=  
    使用FMM进行性能评估 ~ \ Udl  
    "O%xQ N  
    5- "aK~@+  
    HCaEETk5  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 "SV/'0  
    !D 9V9p  
    78E<_UgcB  
    J_&G\b.9/  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 !H`uN  
    |@dY[VK>  
    }1YQ?:@  
    @&2# kO~=  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 NJ(H$tB@  
    ]Waa7)}DM  
     
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