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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    u3Zzu\{  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 @?<N +qdH>  
    :SpG&\+  
    *]{9K  
    &,W_#l{  
    设计任务 "\VW. S  
    }ZEfT]  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 1Pud,!\%q  
    %00k1 *$  
    - XE79 fQ  
    8C*6Fjb#  
    光栅级次分析模块设置 3v9gb,)y\  
                           5en [)3E  
    Y0/jH2n  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 ](B& l{V  
    m&Y; /kr  
    `A4QU,0 8h  
    +zFV~]b  
    /E`l:&89)  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 K^!e-Xi6  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 "| .  +L  
    AJ;u&&c4C\  
    OmTZ-*N  
    衍射分束器表面 pm'@2dT  
    XBfiaj  
    cCo07R  
    m [g< K  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 ~pd1 )  
    ]wkSAi5z*  
    jMz1s%C  
    )8 "EI-/.  
    Sb:zN'U  
    QrNL7{  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) b'Fx),  
    < "L){$  
    IyG = 7  
    }}sRTW  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 877EKvsiC  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 +E q~X=x  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 E<zT  
    @yU!sE:  
    wzHjEW  
    zCBtD_@  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 J'G`=m"-'  
    an$ ]IN  
    [p( #WM:  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 _e:5XQ  
    <FcPxZ  
    o@<6TlZM  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 v GR \GFm  
    h9Tf@]W   
    5oT2)yz  
                设计与评估结果            相位功能设计 =E{{/%u{{S  
                结构设计TEA评价 BDRYip[Sa  
    FMM评估            高度标度(公差) |g?/~%7  
    n3l"L|W^(<  
    通用设置 <\}Y@g8  
    0TuOY%+  
    [5RFQ!  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 b2}QoJ@`  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 }l]3m=)  
    TzevC$m;z  
    纯相位传输设计 6PzN>+t^y  
    :{wsd$Qlj  
    @Q$ /eL  
    9?g]qy,1)  
    结构设计 "x:)$@  
    -KIVnV=&m  
    j^aQ>(t(9  
    a! 0?L0_W&  
    #5ohmp,u  
            更深的分析 skR, M=F~  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 G>q{~HE1  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 282+1X  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 +]S;U&vQ  
    qa0JQ_?o]  
    HjUw[Yz+6  
    H%01&u  
    使用TEA进行性能评估 vHI"C %  
    d5sGkR`(  
    !0. 5  
    ?(,5eg  
    使用FMM进行性能评估 $@u^Jt, ?  
    j quSR=  
    zNsL^;uT  
    DX%8. @  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 Ghq'k:K,  
    +3o)L?:g  
    !7ZfT?&  
    Ltic_cjYd?  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 j0pvLZjM  
    >+; b>  
    c>U{,z  
    ek{PA!9Sk  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 %8} ksl07  
    LG&Q>pt.  
     
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