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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    wetu.aMp  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 D/=05E%[81  
    {1)bLG|$  
    U[pHT _U  
    cY!Y?O  
    设计任务 8 siP  
    \ *CXXp`  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 wBpt W2jA  
    w]MI3_|'r(  
    #6@hVR.  
    PNAvT$0LaZ  
    光栅级次分析模块设置 Q+Nnj(AQY  
                           bq7+l4CGTv  
    ]B(}^N>WH  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 6g-jhsW6  
    Q)aoc.f!v  
    DH.`  
    &k)+]r  
    Ia](CN*;6  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 DH\Ox>b=  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 ]rGd!"q  
    lJAzG,f  
    %. ((4 6)  
    衍射分束器表面 nycJZ}f:wP  
    ~*EipxhstJ  
    FiQ&g*=|  
    ]Yt3@ug_f  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 ;L87 %P(.  
    `GqF/?i  
    |u`YT;`!"-  
    [uqr  
    6 p;Pf9 f  
    7Z]?a  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) tz65Tn_M  
    >%6j-:S  
    ("A45\5  
    L`M{bRl+1  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 N/-(~r[  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 suQ`a_ zJ  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 C,;<SV2#  
    K'8o'S_bF  
    >}.~Y#Ge  
    G{.=27  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 FBP # _"z  
    P `<TO   
    8u[.s`^  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 ,^4"e (  
    oBai9 [+  
    6R m dt  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 Pi[]k]XA\  
    0F!Uai1  
    eiOAbO#U  
                设计与评估结果            相位功能设计 dG3?(}p+  
                结构设计TEA评价 `o_i+?E  
    FMM评估            高度标度(公差) ,f>^ q"  
    U#Kw+slM  
    通用设置 \Q`#E'?  
    BB,-HhYT0  
    78T;b7!-C  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 aG"  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 kdA]gpdw  
    mMZ=9 ?m  
    纯相位传输设计 t re`iCH~  
    y54RD/`-  
    kVWrZ>McK  
    31g1zdT!  
    结构设计 Rp zuSh  
    M9Z9s11{H  
    ,9:v2=C_  
    <6N3()A)%1  
    U GOe(JB  
            更深的分析 UT_t]m  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 UWCm:eRQ  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 GYT0zMMf  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 ,^iT,MgNNf  
    dg N #"  
    O>wGJ.  
    ]~m=b` o  
    使用TEA进行性能评估 BaCzN;)  
    }/xdHt  
    00W_XhJ  
     Mv%B#J  
    使用FMM进行性能评估 ~8Ef`zL  
    Y% [H:  
    sQzr+]+#9  
    $iy(+}  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 \bSakh71  
    R'1"`@f G  
    +I~U8v-  
    =:RNpi,  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 Wu?[1L:x  
    ^^Q> AfTR.  
    4=ha$3h$  
    d/?0xLW  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 j1@PfKh  
    j;rxr1+w  
     
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