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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    p-GT`D  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 30FykNh  
    uC~g#[I QM  
    v9}[$HWx  
    C4$/?,K(  
    设计任务 .V%*{eHLL  
    =:h3w#_c  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 4Y tk!oS`  
    6T^lS^  
    !v !N>f4S$  
    u9![6$R  
    光栅级次分析模块设置 WfGH|u  
                           za,2r^  
    j"<Y!Y3  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 =8{*@>CX  
    LCQkgRs}~{  
    =sQ(iso%f  
    ID8k/t!  
    _g6m=N4  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 E!aq?`-'!  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 L2U x9_S  
    Xyv8LB  
    @)sc6 *lnW  
    衍射分束器表面 |l90g|isJ  
    Rlw9$/D!Z  
    R'EW7}&  
    J0Four#MD  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 r#xk`a  
    <q7s`,rG  
    X Usy.l/  
    9YSVK\2$  
    umDtp\  
    Js}tZ\+P75  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) rrQ0qg  
    `I> ], J/  
    \ j]~>9  
    w67x l  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 *4#on>  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 3%NE/lw1  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 onzA7Gre  
    f-vK}'Z`,  
    }W "(c YN_  
    *?Wtj  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 d5, FM  
    3@X|Gs'_S  
    p#b{xK  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 k E_ky)  
    r"]Oe$[#  
    \|!gPc%s  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 /:6Q.onmLn  
    jI#z/a!j:  
    &^ceOV0+  
                设计与评估结果            相位功能设计 !?r/ 4  
                结构设计TEA评价 w$% BlqN  
    FMM评估            高度标度(公差) W}k[slqZA  
    3^H/LWx`{]  
    通用设置 RQ5P}A 3H  
    >'0lw+a  
    8g5.7{ky  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 IuWX*b`v  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 SbJh(V-pr  
    F25<+ 1kr  
    纯相位传输设计 iJ*%dio  
    tnRJ#[Io  
    tD^a5qPh  
    8AX3C s_G  
    结构设计 coO.kTO;  
    </hR!Sb]  
    ]84YvpfW  
    Gavkil  
    {9:hg9;E*  
            更深的分析 A xR\ ned  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 P59uALi  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 M[vCpa  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 573~-Jvx  
    8"pA9Mr  
    ]Qy,#p'~&H  
    "D!Dr1  
    使用TEA进行性能评估 ,"C&v~  
    'T{pdEn8u  
    _6 /Qp`s  
    -sD:+Te  
    使用FMM进行性能评估 rX)o3>q^?  
    P ]_Vz  
    `bi k/o=%  
    e7wKjt2fy  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 t.u{.P\Md\  
    zPA>af~Ej  
    X &09  
    ;q^,[(8  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 b__n~\q_  
    ~vkud+r  
    0Mq6yu^  
    "vvFq ,c  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 tl2Lq0  
    vkh;qPD  
     
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