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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    X[?fU&  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 E'{:HX  
    k:?)0Uh%^  
    IrYj#,xJ  
    {H,O@  
    设计任务 $Mg O)bH  
    =M?+KbTJ3  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 GjwH C{  
    AAfU]4u0S  
    +I uu8t  
    r8YM#dF  
    光栅级次分析模块设置 t"Du  
                           RDSC@3%  
    iuWUr?`\  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 SN"Y@y)=  
    1@I#Fv  
    W3/] 2"0  
    vW.f`J,\D'  
    U:~]>B $  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 9 D.wW  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 w|G7h=  
    /D9#v1b  
    *Jcd_D\-(1  
    衍射分束器表面 1^]IuPxq  
    "\Dqtr w  
    1:<n(?5JI  
    pvsY 0a@4  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 pFd{Tdh  
    y`m0/SOT  
    el$@^Wy&$  
    l$!ExXEZO;  
    :-59~8&  
    V(K;Gc  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) j8Q_s/n  
    6miXaAA8  
    Tr>_R%bK  
    yT<"?S>D  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 [H!do$[>  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 z+oy#p6+F.  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 19R~&E's  
    z{BgAI,  
    aW_Y  
    OSuQ7V  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 g3'dkS!  
    tol-PJS}  
    HrLws95'  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 roriNr/ e  
    D dwFKc&  
    jp_)NC/~g  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 yo_zc<  
    IV1O/lGp  
    1:7 fV@jw  
                设计与评估结果            相位功能设计 p:tp |/  
                结构设计TEA评价 N 49{J~  
    FMM评估            高度标度(公差) ci? \W6  
    u-.5rH l  
    通用设置 ORX<ZO t1  
    ?gAwMP(>  
    Iw] ylp  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 D)4#AI  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 /w6'tut  
    d+h~4'ebv  
    纯相位传输设计  m5J@kE%  
    qMVuBv  
    3&[d.,/  
    LD WYFOGQ  
    结构设计 w"kBAi&  
    S h5m+>7K  
    `|nJAW3  
    |w~*p N0  
    s 64@<oU<"  
            更深的分析 @QpL*F  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。  R'_F9\  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 LCIe1P2  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 5 <KBMCn  
    m(xyEU  
    phA{jJy?  
    Wl&6T1A`"  
    使用TEA进行性能评估 R Ee~\n+P^  
    %Y.@AiViz  
    BUL<FTg  
    Z~w?Qm:/  
    使用FMM进行性能评估 n|.>41bJ  
    hE,-CIRg  
    &F0>V o  
    T.{]t6t$U  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 #="Lr4T  
    ?*q-u9s9  
    _!Z}HCk  
    P|fh4b4  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 <gvgr4@^yR  
    %gqu7}'  
    {9F}2 SJ  
    ucLh|}jJ5  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 p)Ht =~  
    F CfU=4O  
     
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