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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    9>7w1G#  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 l`(pV ;{W  
    -?Kd[Ma  
    ^W*3S[-`g  
    >V|KS(}s  
    设计任务 #y>q)Ph  
    \yKYBfp-p  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 + X0db  
    Z.E@aml\  
    ,/Usyb,`  
    W>cHZ. _  
    光栅级次分析模块设置 \_|g}&}6Y  
                           D9/PVd&#  
    V:*6R/Ft  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 "^&Te%x_b  
    ? e<D +  
    U{?#W  
    RM6*c .  
    /&!4oBna  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 K1_#Jhz  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 ,cCBAO ueO  
    Uf\,U8UB  
    (_Ky' .  
    衍射分束器表面 n1r'Y;G  
    eccJt  
    F|! ib5  
    ;!Q}g19C  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 vH)V\V  
    3#Qek2  
    }+dDGFk  
    6!$2nK+  
    pZV=Co3!I  
    r";;Fk#5  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) AoFxho  
    D5$| vv1  
    G^&P'*  
    s~n@|m9k  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 e763 yd  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 Z>(K|3_  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 UtYwG#/w  
    @*^%^ P  
    Un^3%=;  
    :`<ME/"YE  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 )m<CmYr2  
    wS @-EcCB  
    :O/QgGZN$  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 H}PZJf_E  
    N"-U)d-.  
    s~g0VNu Y  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 7 (pl HW|  
    DTo P|P  
    (Q[(]dfc  
                设计与评估结果            相位功能设计 vNSeNS@jxC  
                结构设计TEA评价 D]NJ ^.X  
    FMM评估            高度标度(公差) 5h@5.-}  
    L.Tu7+M4  
    通用设置 Kw87 0n<  
    |}D5q| d@n  
    H J0Rcw%  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 H C(7,3  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 O%*:fd,o-  
    JN> h:  
    纯相位传输设计 ~U+W4%f8  
    "/0Vvy_|  
    P&5kO;ia  
    EPd   
    结构设计 NT;cTa=;  
    fX{Xw0  
    vu|-}v?:  
    0T.kwZ8  
    aK?PK }@  
            更深的分析 q"Th\? }%  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 ufvjW]   
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 Qv;q*4_  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 o|Kd\<rY  
    z6uHe{|  
    tNC ;CP#R+  
    Hd89./v`:  
    使用TEA进行性能评估 h {VdW}g  
    W-<`Vo'  
    Rv Uw,=  
    =i:,")W7=  
    使用FMM进行性能评估 35n'sVn  
    8c5=Px2\  
    Uc( z|  
    m_h$fT8 _  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 U$ Od)  
    ZDbzH=[  
    {-1N@*K  
    EqF>=5*  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 K8{ef  
    9=.7[-6i9  
    =?[:Nj636  
    i0'g$  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 ;"JgNad  
    C=8IQl[^e  
     
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