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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    4GqE%n+ta~  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。  ~b LhI  
    Dhp|%_>  
    |=ljN7]!  
    #[NNb?`F  
    设计任务 hOIk6}r4X  
    G>0 hi1  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 CFiO+p&  
    #nJ&`woZt  
    !7aJfs2  
    IT\ x0b cv  
    光栅级次分析模块设置 ^ot9Q  
                           k^r-~q+NV#  
    5tl uS  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 } OAH/BW  
    cY[qX/0~  
    ;U$EM+9  
    S#^-VZ~U4x  
    SDICN0X*  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 J1{ucFa  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 {AMoE +U  
    ]eIV'lP,j/  
    t'L#8MJ  
    衍射分束器表面 ^Ts8nOGMh  
    U Zc%XZ`"V  
    2q*aq%  
    z7um9g  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 vP{;'R  
    bdkxCt  
    { aq}Q|?/  
    MuQ'L=iJ  
    mY,t]#^m7  
    ~TfQuIvQB  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) N3rQ]HZiP  
    SjB#"A5  
    HrS  
    _=RK  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 u3@v  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 TkSeDP  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 PV,AN   
    ;gNoiAxW  
    It3.  
    caC( KK#<  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 %H'*7u2  
    (GI]Uyn  
    cWNWgdk,`V  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 ;f)o_:(JJ  
    >gLLr1L\  
    ;IX*4E'4s  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 B!zqvShF  
    O)Mf/P'  
    Wx-vWWx*Q  
                设计与评估结果            相位功能设计 S2*ER  
                结构设计TEA评价 6`l7saHXE  
    FMM评估            高度标度(公差) 7JHS8C<]  
    VPqMbr"L[  
    通用设置 {r2fIj~V  
    &i%1\ o  
    $(U}#[Vie  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 S|?Ht61k  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 mtn+bV R%  
    gaXKP1m^  
    纯相位传输设计 aR~Od Ys  
    37QXML  
    nfbqJ  
    @"E{gM@B  
    结构设计 xMAb=87_  
    e=%6\&q  
    'fkaeFzOl  
    }^R_8{>k  
    2?bE2^6  
            更深的分析 J%n{R60b  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 I{0bs Tp;  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 ST[+k  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 C5^eD^[c  
    }th^l*g  
    r06M.r   
    }lzN)e  
    使用TEA进行性能评估 p&#*  
    WgK|r~  
    AZTn!hrU  
    :&oUI&(o  
    使用FMM进行性能评估 'o*:~n  
    {k}EWV  
    MlM2(/ok  
    'F[ C 4  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 J|BZ{T}d  
    X&qa3C})  
    _7M!b 9oA  
    m*^|9*dIC  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 njy^<7 ;  
    8{GRrwQ>  
    %VCfcM}5I  
    Dxwv\+7]  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 Hw"UJP  
    gxku3<S  
     
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