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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    5KTPlqm0qF  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 6x;!E&<  
    i`w)dS  
    H.< F6  
    jJD*s/o  
    设计任务 e5d STc`  
    ^p~QHS/  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 lS]6Sk Z6  
    P)O:lYX  
    M<r]a{Yv  
    <;*w97n  
    光栅级次分析模块设置 ^<3{0g-"AW  
                           1&RB=7.h  
    S 3s6  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 M'VJE|+t  
    Fl!D2jnN  
    =fJ  /6  
    W5/|.}  
    ?)H:.]7-x  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 v]#[bqB.b  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 K >Q 6  
    qJE_4/<^!  
    rv c%[HfW;  
    衍射分束器表面 <cxe   
    [X7gP4  
    A b+qLh&?  
    -O\f y!  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 R$`%<Y3)  
    \Hw*q|  
    p6&<eMwFA  
    ,/&|:PkS  
    `FwE^_9d  
    ?6UjD5NkX  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) ] Upr<!  
    5uV_Pkb?8  
    w3#0kl  
    -qBdcbi|x)  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 EQQ@nW{;  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 Zs8]A0$  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 2f1Q&S  
    6z]y =J  
    $)$_}^.k  
    4 !m'9  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 0oZZLi  
    T[<554  
    S$gLL kD1  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 +F.@n_}p-I  
    /|3~LvIt=  
    (b.4&P"0  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 J#5V>7G  
    ~NB|BwAh  
    x.$cP  
                设计与评估结果            相位功能设计 qMoo#UX  
                结构设计TEA评价 {-Gh 62hDg  
    FMM评估            高度标度(公差) _ gGA/   
    6&QOC9JW+7  
    通用设置 ^j2ve's:  
    ^rd%{ 6m  
    @R<z=n"  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 <oi'yr  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 @6Lp $w  
    XpYd|BvW  
    纯相位传输设计 YkE_7r(1  
    gW<4E=fl  
    B`||4*  
    L)4~:f)B  
    结构设计 ~0[(-4MA  
    |~#A?mK-  
    l*{Bz5hc  
    X,Rl&K\b"  
    C/QrkTi=  
            更深的分析 MPKrr  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 It<VjN9  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。  ZpMv16  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 \ueCbfV!Z4  
    4GH&u,  
    mnBTZ/ZjS  
    o5sw]R5  
    使用TEA进行性能评估 ^Epup$  
    sSc~q+xz  
    R NQq"c\  
    ;<mcvm  
    使用FMM进行性能评估 q[+ h ~)  
    _CTg")0o  
    c`&g.s@N\  
    .C &kWM&j  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 fUfd5W1"  
    NFP h}D  
    E 0l&d  
    !* KQ2#e  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 :>Bk^"  
    4q:8<*W=  
    Jt #HbAY  
    gs7_Q  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 >56fa6=3@  
    wt;`_}g  
     
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