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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-06
    "U+c`V=w  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 %!eRR  
    /:ZwGyT;  
    mG$N%`aG  
    vxOnv8(  
    设计任务 N;,zPWa  
     ? 8/r=  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 ]#W7-Q;]  
    ?XP4kjJ  
    qM+Ai*q  
    OQ4Pk/-'  
    光栅级次分析模块设置 `wZ  
                           %|ClYr  
    |?ZU8I^vW  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 %?, 7!|Ls  
    K^o{lyK;@~  
    RyU8{-q  
    }V*?~.R  
    J9OL>!J  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 -agB ]j  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 d2V\T+=  
    egBk7@Ko  
    j}d):3!  
    衍射分束器表面 S(nQ?;9,  
    Y652&{>q  
    KC"&3  
    {&XTa`C  
        为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 !L|l(<C  
    MgJ5FRQ  
     ^#C+l  
    po\jhfn  
    :*BN>*1^\r  
    Ph%ylS/T{  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) VcXr!4 M  
    F_g(}wE# q  
    -G@uB_Cs  
    DU8\1(  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 ,9}JPv4Z  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 V=p"1!(  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 #pgD-0_  
    3 !8#wn  
    .>}I/+n  
    Z.!<YfA)  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 }!k?.(hpE  
    EC0B6!C&7  
    Y:\]d1C  
        光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 }No#_{  
    ^|6#Vx  
    -^yc<%U  
            使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 lP)n$?u  
    74:( -vS  
    uL-kihV:-  
                设计与评估结果            相位功能设计 rir,|y,  
                结构设计TEA评价 v;5-1  
    FMM评估            高度标度(公差) t#_6GL  
    EtPB_! +  
    通用设置 =liyd74%`  
    V`LE 'E  
    |v@_~HV  
            提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 v;G/8>GRy  
            通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。 6Iv};f"Y  
    IKnf  
    纯相位传输设计 &&52ji<3  
    )quQI)Ym  
    0sKo NzE  
    -6uLww=w4  
    结构设计 ^GrSvl}v'  
    Qj1%'wWG  
    [tSv{  
    j DEym&-  
    RA!m,"RM  
            更深的分析 i <gt`UCO  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 Fje /;p  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 A{B$$7%  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 W ^Fkjqpv  
    J Q*~le*  
    MIl\Bn  
    roAHkI  
    使用TEA进行性能评估 g8&& W_BI  
    *c/|/  
    ]e5aHpgR=  
    .Jg<H %%f  
    使用FMM进行性能评估 s/~pr.>-l  
    <3tf(?*,k]  
    .Wp(@l'Hd  
    8KigGhY'ms  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 r/0 #D+A  
    :N^B54o%6  
    ;,TT!vea  
    FMn|cO.vEP  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 ]Hi1^Y<  
    kO^  
    {~}:oV  
    y6sY?uu  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 `WC4:8  
    Ktzn)7-  
     
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