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XtIY8wsP 内容简介 $u{ 8wF/) Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 }#E~XlX^ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Es+BV+x[.c 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ANd#m9(x r%II`
i 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 BoXGoFn 目录 Q".AmHn
Preface 1 WC
5v#*Jd 内容简介 2 8yCQWDE} 目录 i Zc*gRC 1 引言 1 ?N@p~
*x 2 光学薄膜基础 2 d+g+{p>? 2.1 一般规则 2 B1 [O9 U: 2.2 正交入射规则 3 /N`E4bKBR 2.3 斜入射规则 6 1 =9 Kwd 2.4 精确计算 7 a\v@^4 2.5 相干性 8 i)+2?<] 2.6 参考文献 10 O\zGN/! 3 Essential Macleod的快速预览 10 ,7izrf8 4 Essential Macleod的特点 32 <{Ir',; 4.1 容量和局限性 33 6Er%td)f 4.2 程序在哪里? 33 ]}jY]
l 4.3 数据文件 35 @W*Zrc1NF 4.4 设计规则 35 .p(~/MnO 4.5 材料数据库和资料库 37 %/=#8v4* 4.5.1材料损失 38 \S"YLRn" 4.5.1材料数据库和导入材料 39 [&p^h 4.5.2 材料库 41 vq*)2. 4.5.3导出材料数据 43 &B>YiA 4.6 常用单位 43 Q2ky| 4.7 插值和外推法 46 |%-:qk4rG 4.8 材料数据的平滑 50 s~Od(,K 4.9 更多光学常数模型 54 6"U)d7^ 4.10 文档的一般编辑规则 55 $5a%hK 4.11 撤销和重做 56 N;d@)h(N! 4.12 设计文档 57 t /CE,DQ 4.10.1 公式 58 7=x]p 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 E cW$'>^ 4.10.3 沉积密度 59 zq&,KZ 4.10.4 平行和楔形介质 60 ~85Pgb< 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 rWMG_eP: 4.10.4 性能 61 \~bE|jWbj 4.10.5 保存设计和性能 64 tL~?)2uEN 4.10.6 默认设计 64 vd'd@T 4.11 图表 64 e6WKZ~
vo 4.11.1 合并曲线图 67 J|2OmbJ e 4.11.2 自适应绘制 68 Xm}~u?$3 4.11.3 动态绘图 68 f6Io|CZWJ 4.11.4 3D绘图 69 T'nQj<dBt: 4.12 导入和导出 73 +yd(t}H@ 4.12.1 剪贴板 73 |,Xrt8O/[ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 1V37%
D 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 G6L
/Ny3>_ 4.13 背景 77 53cW`F 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 GP\Pk/E 4.15 生成Rugate 84 79 ZBVe(} 4.16 参考文献 91 )R`w{V 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 *PjW, 5.1 Jobs 92 kM
T73OI>_ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 $!_]mz6* 5.3 输入材料 94 30v 3C7o= 5.4 设计数据文件夹 95 -5 YvtL 5.5 默认设计 95 T7{Z0- 6 细化和合成 97 9(( QSX 6.1 优化介绍 97 @fWmz,Ngl 6.2 细化 (Refinement) 98 dT9!gNvQ 6.3 合成 (Synthesis) 100 ?E?dg#yk 6.4 目标和评价函数 101
Qpc+1{BQ 6.4.1 目标输入 102 G.}
3hd0 6.4.2 目标 103 U{2UKD@PM 6.4.3 特殊的评价函数 104 -S7rOq2Li 6.5 层锁定和连接 104 zi*2>5g 6.6 细化技术 104 e)~7pXYV) 6.6.1 单纯形 105 t<6`?\Gk 6.6.1.1 单纯形参数 106 [fU2$(mT+ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 RqIic\aD 6.6.2.1 Optimac参数 108 9j[%Y? 6.6.3 模拟退火算法 109 N +9`'n^x 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ddMSiwbY) 6.6.4 共轭梯度 111 idf~"a 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 4#z@B1Jx 6.6.5 拟牛顿法 112 "s]c79t 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 dw60m,m 6.6.6 针合成 113 >~5>)yN_a1 6.6.6.1 针合成参数 114 I
=t{ u; 6.6.7 差分进化 114 xrK%3nA4s" 6.6.8非局部细化 115 tndtwM*B' 6.6.8.1非局部细化参数 115 I T)rhi: 6.7 我应该使用哪种技术? 116 K bY5
qou 6.7.1 细化 116 1|VnPQqA 6.7.2 合成 117 hY.zwotH 6.8 参考文献 117 #`C;@#xr 7 导纳图及其他工具 118 %:/_O*~)Yg 7.1 简介 118 3+;}2x0-F 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 :o}Ju}t 7.2.1 四分之一波长规则 119 !Q`GA<ikv 7.2.2 导纳图 120 V=}b>Jo2j 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 `um#}ify# 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 PX3rHKK{ 7.5 斜入射导纳图 141 dE*n!@ 7.6 对称周期 141 ?#^_yd|< 7.7 参考文献 142 Dq!Vo ;s2 8 典型的镀膜实例 143 1FS Jqad 8.1 单层抗反射薄膜 145 d*Y&V$?zl 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 'Pudy\Ab 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 8VJUaL@ 8.4 W-膜层 148 dlC)&Ai 8.5 V-膜层 149 (63_ 8.6 V-膜层高折射基底 150 J 21D/#v 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 nBGFa 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 .N99=%[}h 8.9 四层抗反射薄膜 153 w< |