-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-04-02
- 在线时间1761小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
|j$r@ 内容简介 \]C_ul' Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 XSk*w'xO 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 b S-o86u 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 (xpt_]Q!H )X
|[jP 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 G0#<SJ,) 目录 Ov8^6O Preface 1 <*JFY%y" 内容简介 2 fg$#ZCi 目录 i ,w`g+ 9v 1 引言 1 |w5m2Z 2 光学薄膜基础 2 eHHY.^| 2.1 一般规则 2 OfG/7pw5%B 2.2 正交入射规则 3 "I)/|x\G* 2.3 斜入射规则 6 X*cDn.(I 2.4 精确计算 7 5aj%<r 2.5 相干性 8 yY[9\! 2.6 参考文献 10 {p\ll 3 Essential Macleod的快速预览 10 <W]
RyEg` 4 Essential Macleod的特点 32 Ft
E5H 4.1 容量和局限性 33 ;w/@_!~ 4.2 程序在哪里? 33 "C0?s7Y 4.3 数据文件 35 /!Ay12lKE} 4.4 设计规则 35 QB
uX#bDV 4.5 材料数据库和资料库 37 )]}G8A 4.5.1材料损失 38 !3F3E8% 4.5.1材料数据库和导入材料 39 a\m_Q{: 4.5.2 材料库 41 6am
g*=] 4.5.3导出材料数据 43 ZnKjU ]m 4.6 常用单位 43 XHU\;TF 4.7 插值和外推法 46 x~Y{
{ 4.8 材料数据的平滑 50 YMN=1Zuj? 4.9 更多光学常数模型 54 |kY}G3/ 4.10 文档的一般编辑规则 55 @E 8P>kq 4.11 撤销和重做 56 :V3z`}Rl 4.12 设计文档 57 nw4I<Q 4.10.1 公式 58 TAxu ]C$P 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 H )51J:4 4.10.3 沉积密度 59 H*j!_>W 4.10.4 平行和楔形介质 60 cY5w,.Q/! 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ]p8zT|bv 4.10.4 性能 61 7s0\`eXo/ 4.10.5 保存设计和性能 64 3v@h&7<E 4.10.6 默认设计 64 0iYo&q'n 4.11 图表 64 lZAXDxhnT 4.11.1 合并曲线图 67 NSa6\.W) 4.11.2 自适应绘制 68 5?MaKNm } 4.11.3 动态绘图 68 ]_BH"ng} 4.11.4 3D绘图 69 %afN&T 4.12 导入和导出 73 lD^c_b 4.12.1 剪贴板 73 ;FQNO:NP 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 vgE
-t 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 h ;@c%Vm 4.13 背景 77 ?K+q~DzNSD 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 wn^#`s!]U 4.15 生成Rugate 84 e)= "Fq! 4.16 参考文献 91 cYp/? \ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 a^={X<K|/ 5.1 Jobs 92 It7R}0Smg 5.2 创建一个新Job(工作) 93 h!@7'Q 5.3 输入材料 94 %x.du9 5.4 设计数据文件夹 95 VKkvf"X 5.5 默认设计 95 "OwK- 6 细化和合成 97 j7U&a}( 6.1 优化介绍 97 &wAVO_s 6.2 细化 (Refinement) 98 Q 0G5<:wc 6.3 合成 (Synthesis) 100 j]FK.G' 6.4 目标和评价函数 101 l\F71pwSI 6.4.1 目标输入 102 35Fxzj $ 6.4.2 目标 103 pdB\D 6.4.3 特殊的评价函数 104 ;yajt\a 6.5 层锁定和连接 104 J5(0J7C 6.6 细化技术 104 76bMy4re 6.6.1 单纯形 105 dB6['z)2 6.6.1.1 单纯形参数 106 \-pqqSy 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 /vq$/ 6.6.2.1 Optimac参数 108 |p!($ 6.6.3 模拟退火算法 109 x3g4 r_ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 YA@MLZm 6.6.4 共轭梯度 111 NT0n[o^ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 re_nb)4g 6.6.5 拟牛顿法 112 obE8iG@H 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 =n5n 6.6.6 针合成 113 >+Ig<}p 6.6.6.1 针合成参数 114 <#J5.I 1 6.6.7 差分进化 114 jz`3xFy *] 6.6.8非局部细化 115 I?St}Tl 6.6.8.1非局部细化参数 115 k_{?{:X;y 6.7 我应该使用哪种技术? 116 67hfv e 6.7.1 细化 116 ^*i0~_ 6.7.2 合成 117 Q5ff&CE 6.8 参考文献 117 MT"&|Og 7 导纳图及其他工具 118 5[g\.yi2_] 7.1 简介 118 pmUf*u- 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 J^`5L7CO 7.2.1 四分之一波长规则 119 hf]m'5pb 7.2.2 导纳图 120 [zBi*%5O 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 5@%.wb4 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 $'I&u 7.5 斜入射导纳图 141 9@ YKx0 7.6 对称周期 141 yq49fEgc@U 7.7 参考文献 142 ymyzbE 8 典型的镀膜实例 143 t/Y0e#9, 8.1 单层抗反射薄膜 145 2mnAL# 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 Db<#gH 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 %s"&|32 8.4 W-膜层 148 -&sY |