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LM0TSB? 内容简介 0(teplo&P Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 x'}{^'}/ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 G$ip Wi 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ci,o'`Q |Y:T3hra61 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 #[J..i/h 目录 .nT"f>S&' Preface 1 P^+Og_$ 内容简介 2 [4"%NY 目录 i }**^g: 1 引言 1 H,] D}r 2 光学薄膜基础 2 cpf8f i 2.1 一般规则 2 h%#@Xd>. 2.2 正交入射规则 3 =w,%W^"E 2.3 斜入射规则 6 J0^p\mG 2.4 精确计算 7 HD Eq q 2.5 相干性 8 6VRVk7" 2.6 参考文献 10 MiN68x9 3 Essential Macleod的快速预览 10 -0lpsF 4 Essential Macleod的特点 32 M1VRc[
RRo 4.1 容量和局限性 33 ;9d(GP}eE 4.2 程序在哪里? 33 D`iWf3a. 4.3 数据文件 35 >[ywrB ?T 4.4 设计规则 35 -K+gr sb
g 4.5 材料数据库和资料库 37 @ -g^R4e< 4.5.1材料损失 38 <[b\V+M 4.5.1材料数据库和导入材料 39 HnZrRHT0 4.5.2 材料库 41 dA)7d77 4.5.3导出材料数据 43 .3oFSc`q 4.6 常用单位 43 <#sB ; 4.7 插值和外推法 46 \U p<m>3\ 4.8 材料数据的平滑 50 tlG&PVvr 4.9 更多光学常数模型 54 >(*jL 4.10 文档的一般编辑规则 55 h(jg7R 4.11 撤销和重做 56 ykM(`
1`m 4.12 设计文档 57 0G;RMR ':5 4.10.1 公式 58 Yr!<O&= 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 luAhyEp 4.10.3 沉积密度 59 K@%. T# 4.10.4 平行和楔形介质 60 %5jxq9:K 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 [K%Jt 4.10.4 性能 61 o{m$b2BW 4.10.5 保存设计和性能 64 X2Y-TET 4.10.6 默认设计 64 N(/DC)DJg 4.11 图表 64 SC"=M^E 4.11.1 合并曲线图 67 ZJ u\ 4.11.2 自适应绘制 68 9
bGN5.5 4.11.3 动态绘图 68 D6c4tA^EO 4.11.4 3D绘图 69 Ch^Al2)= 4.12 导入和导出 73 T3Qa[>+\ 4.12.1 剪贴板 73 > lN{FJ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 RwN*/Li 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 6d` 6=D: 4.13 背景 77 )=ZWn,ZB 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Z6
(;~"Em 4.15 生成Rugate 84 MZ6?s(mkx 4.16 参考文献 91 WRL &tz 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ZN',=&;n' 5.1 Jobs 92 f GY. +W_ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 &nTB^MF 5.3 输入材料 94 FtT+Q$q= 5.4 设计数据文件夹 95 ^=FtF9v 5.5 默认设计 95 M%sWtgw( 6 细化和合成 97 Q_qc_IcM y 6.1 优化介绍 97 -i7W|X" 6.2 细化 (Refinement) 98 ^~8l|d_ 6.3 合成 (Synthesis) 100 @R(6w{h9 6.4 目标和评价函数 101 \} P} H 6.4.1 目标输入 102 ``K.4sG 6.4.2 目标 103 \KDOI 7 6.4.3 特殊的评价函数 104
&-s!ko4z 6.5 层锁定和连接 104 q/<.^X 6.6 细化技术 104 B7_:,R.l 6.6.1 单纯形 105 #*1\h=bzmW 6.6.1.1 单纯形参数 106 2Pasmh 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ?UQE;0 B 6.6.2.1 Optimac参数 108 0:Ak4L6k 6.6.3 模拟退火算法 109 x^;nQas; 6.6.3.1 模拟退火参数 109 DpoRR` 6.6.4 共轭梯度 111 N:Q}Lil 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 %v4/.4sR,; 6.6.5 拟牛顿法 112 hA/K>Z 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 sq\oatMw[ 6.6.6 针合成 113 =0MW+-
6.6.6.1 针合成参数 114 C$-IDBXK 6.6.7 差分进化 114 *GTCVxu 6.6.8非局部细化 115 TCv}N0 6.6.8.1非局部细化参数 115 b_z;^y~ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 >jq~5HN 6.7.1 细化 116 $:t;WXc.< 6.7.2 合成 117 V2V^*9(wu@ 6.8 参考文献 117 4JT9EKo 7 导纳图及其他工具 118 w-"o?;)a 7.1 简介 118 q;InFV3rv 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 GNT1FR 7.2.1 四分之一波长规则 119 Ud\Jc:DG 7.2.2 导纳图 120 htq#( M 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 "fL:scq@0 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 AJI,>I,}} 7.5 斜入射导纳图 141 oost}%WxN 7.6 对称周期 141 Wx;:_F7'\ 7.7 参考文献 142 7fgA)dU:K 8 典型的镀膜实例 143 AN\: 8.1 单层抗反射薄膜 145 tz6d}$ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 MrXhVZ"d* 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 U(3{6^>Gc 8.4 W-膜层 148 >s1'I:8 8.5 V-膜层 149 |l
03,dOF 8.6 V-膜层高折射基底 150 CY<,p$ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 wh<+.Zp 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 u0Fu_Rtr 8.9 四层抗反射薄膜 153 oL2|@WNj, 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 kz@@/DD/9 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ZYos.ay 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 ^EPM~cEY\ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 7^A;.x 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 k
?X 8.15十五层宽带抗反射膜 159 -y1%c^36_J 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 a<B[~J 4i 8.17 1/4波长堆栈 162 ik=~`3Zp0 8.18 陷波滤波器 163 fq~<^B 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 .:B]
a7b 8.20 褶皱 165 >t<FG2 8.21 消偏振分光器1 169 loZJV M 8.22 消偏振分光器2 171 jV;&*4if 8.23 消偏振立体分光器 172 HcXyU/>D 8.24 消偏振截止滤光片 173 82WXgB> 8.25 立体偏振分束器1 174 s +gZnne 8.26 立方偏振分束器2 177 >%h_ R: 8.27 相位延迟器 178 (`>RwooE 8.28 红外截止器 179 ZTfs&5 8.29 21层长波带通滤波器 180 ]j(2FM)# 8.30 49层长波带通滤波器 181 R%Gh4y\nF 8.31 55层短波带通滤波器 182 3)^-A4~E 8.32 47 红外截止器 183 bJj<xjBM 8.33 宽带通滤波器 184 6kK\nZ$o$ 8.34 诱导透射滤波器 186 Z$ {I4a 8.35 诱导透射滤波器2 188 .cdm@_Ls 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 RMMx6L|-: 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 [cv7s=U% 8.35 增益平坦滤波器 193 7SE\(K=<% 8.38 啁啾反射镜 1 196 _%Sorr 8.39 啁啾反射镜2 198 g4cmYg3 8.40 啁啾反射镜3 199 'j6PL;~c 8.41 带保护层的铝膜层 200 ~+d?d6*c 8.42 增加铝反射率膜 201 //2G5F ; 8.43 参考文献 202 u>Z;/kr 9 多层膜 204 ,F`:4=H% 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 R?a)2jl 9.2 内部透过率 204 8zS't2
u 9.3 内部透射率数据 205 Yv\.QrxPm 9.4 实例 206 h?jy'>T?b2 9.5 实例2 210 WX&Man!f 9.6 圆锥和带宽计算 212 <7fF9X 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 3<LG~HWST 10 光学薄膜的颜色 216 ^} P|L 10.1 导言 216 Fy3&Emu 10.2 色彩 216 ??5qR8n. 10.3 主波长和纯度 220 .9_]8T 10.4 色相和纯度 221 3
[: x#r 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 >Ip>x!wi 10.6 色差 226 AmNmhcN 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 cobq+Iyu 10.8 颜色渲染指数 234 3U9]&7^ 10.9 色差计算 235 Z;M]^? 10.10 参考文献 236 r+-KrO' 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ] S<y,d- 11.1 短脉冲 238 ( >zXapb2 11.2 群速度 239 4vq,W_n.hQ 11.3 群速度色散 241 s,XKl5'+8e 11.4 啁啾(chirped) 245 kFZw"5hb 11.5 光学薄膜—相变 245 6*u#^">,< 11.6 群延迟和延迟色散 246 9oKRnc 11.7 色度色散 246 jU
|0!] 11.8 色散补偿 249 mO;X>~K 11.9 空间光线偏移 256 &@u;xc| v 11.10 参考文献 258 [h SE^
m 12 公差与误差 260 a@$ U?=\e 12.1 蒙特卡罗模型 260 xq+$Q:f 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 hG .>> 12.2.1 误差工具 267 0|E!e 12.2.2 灵敏度工具 271 `VX]vumG 12.2.2.1 独立灵敏度 271 Vui5Z K 12.2.2.2 灵敏度分布 275 ,TPNsz|Q 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 Bh$hgf.C 12.3 参考文献 276 ??0C"8:[ 13 Runsheet 与Simulator 277 Z?
u\ 13.1 原理介绍 277 7t= e"|^ 13.2 截止滤光片设计 277 25]Mi2_ 14 光学常数提取 289 8gwJ%"-K 14.1 介绍 289 xtMN<4#E 14.2 电介质薄膜 289 pv*u[ffi 14.3 n 和k 的提取工具 295 $o"Szy 14.4 基底的参数提取 302 ,Q!sns[T 14.5 金属的参数提取 306 RO?5WJpPj 14.6 不正确的模型 306 ImO\X`{ 14.7 参考文献 311 [<`K%1GQ 15 反演工程 313 Fw? ;Y% 15.1 随机性和系统性 313 rt)70= 15.2 常见的系统性问题 314 G,I[zhX\ 15.3 单层膜 314 ]o`qI#{R~R 15.4 多层膜 314 sN0S~}F+ 15.5 含义 319 o"dX3jd 15.6 反演工程实例 319 f(~xdR))eh 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 8wz%e( 15.6.2 反演工程提取折射率 327 !N:!x[5 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 yk OJhd3 16.1 光学性质的热致偏移 329 m`CcU`s 16.2 应力工具 335 +InAK>NZ' 16.3 均匀性误差 339 l6Wa~ E 16.3.1 圆锥工具 339 fWie fv[& 16.3.2 波前问题 341 *X- 6]C 16.4 参考文献 343 yx?Z&9z < |