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o8ERU($/ 内容简介 ([#4H3uO- Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 c %f'rj 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 N E/ _ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 yu.N> [= YCBcyE}p 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 o3ZqPk]al 目录 &F 3'tf? Preface 1 ( +x!wX( x 内容简介 2 N
t-8[J 目录 i ;+Sc Vz 1 引言 1 +\ZaVi 2 光学薄膜基础 2 z0F'zN3J 2.1 一般规则 2 tsWzM9Yf 2.2 正交入射规则 3 !xRboPg 2.3 斜入射规则 6 }rKKIF^f\S 2.4 精确计算 7 aj|gt 2.5 相干性 8 >39\u&) 2.6 参考文献 10 oScKL#Hu 3 Essential Macleod的快速预览 10 GEGg
S&SM 4 Essential Macleod的特点 32 +8zCol?j 4.1 容量和局限性 33 T!ik"YZ@i 4.2 程序在哪里? 33 <cUaIb;(4 4.3 数据文件 35 |9;MP&68 4.4 设计规则 35 C%ZSsp
u 4.5 材料数据库和资料库 37 fnJ!~b*qo 4.5.1材料损失 38 ln*_mM/Q% 4.5.1材料数据库和导入材料 39 &f"kWOe$X 4.5.2 材料库 41 h4,S/n 4.5.3导出材料数据 43 7.!`c-8
u 4.6 常用单位 43 rv26vnJy" 4.7 插值和外推法 46 ln&9WF\I 4.8 材料数据的平滑 50 Z&MfE0F/B 4.9 更多光学常数模型 54 [7+dZL[ 4.10 文档的一般编辑规则 55 s6HfN' 4.11 撤销和重做 56 :L&d>Ii|' 4.12 设计文档 57 B.ar!*X 4.10.1 公式 58 a(|,KWHn 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 %{j)w{
LJ 4.10.3 沉积密度 59 [+_0y[~,tB 4.10.4 平行和楔形介质 60 rd0[(- 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 7eP3pg# 4.10.4 性能 61 0'nY 4.10.5 保存设计和性能 64 w"/RI#7. 4.10.6 默认设计 64 Uoqt 4.11 图表 64 =L F9im 4.11.1 合并曲线图 67 ](tv`1A,Wd 4.11.2 自适应绘制 68 a]%>7yr4 4.11.3 动态绘图 68 3A)Ec/;~ 4.11.4 3D绘图 69 JQdeI+ 4.12 导入和导出 73 YgCSzW&( 4.12.1 剪贴板 73 lr-:o@q{ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 8r-'m%l 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 meM61ue_2 4.13 背景 77 m!H7;S-( 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 4.o[:5' 4.15 生成Rugate 84 \4FKZ>1+R 4.16 参考文献 91 ge@ KopZ& 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 |j>fsk~ 5.1 Jobs 92 YLAGTH0.] 5.2 创建一个新Job(工作) 93 +u[?8D7Y 5.3 输入材料 94 oHvVZ 5.4 设计数据文件夹 95 dxwH C\"5 5.5 默认设计 95 ??g `c=R!V 6 细化和合成 97 `GQ'yv 6.1 优化介绍 97 k2t#O%_f 6.2 细化 (Refinement) 98 Kulh:d:w 6.3 合成 (Synthesis) 100 =j$!N# L 6.4 目标和评价函数 101 DAHQ7#qfQC 6.4.1 目标输入 102 Lr ;PESV 6.4.2 目标 103 tw?\bB 6.4.3 特殊的评价函数 104 "<LVA2v; 6.5 层锁定和连接 104 pQ/
bIuq 6.6 细化技术 104 C?47v4n-' 6.6.1 单纯形 105 }+3IM1VTW{ 6.6.1.1 单纯形参数 106 %^VQw! 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 %@4/W N 6.6.2.1 Optimac参数 108 d%C:%d 6.6.3 模拟退火算法 109 vi-mn)L6# 6.6.3.1 模拟退火参数 109 U%)m
[zAw 6.6.4 共轭梯度 111 ?RI&7699+ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 SWZA`JVK 6.6.5 拟牛顿法 112 5Z@~d'D 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Ei&
Z 6.6.6 针合成 113 \Tii
S 6.6.6.1 针合成参数 114 hJIF!eoI 6.6.7 差分进化 114 6*Y>Y&sea 6.6.8非局部细化 115 o7B }~;L 6.6.8.1非局部细化参数 115 @cT= t0* 6.7 我应该使用哪种技术? 116 PRi3=3oF 6.7.1 细化 116 <6L=% \X{* 6.7.2 合成 117 NIasce e 6.8 参考文献 117 xw5LPz;B 7 导纳图及其他工具 118 sM0o,l(5 7.1 简介 118 irRe} 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 MV.$Ay 7.2.1 四分之一波长规则 119 Z/hk)GI 7.2.2 导纳图 120 LsGu-Y5^ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 erQ0fW 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 IX]K"hT 7.5 斜入射导纳图 141 7HkQ|~zGT 7.6 对称周期 141 y5AJ1A6?E 7.7 参考文献 142 E
02l=M 8 典型的镀膜实例 143 |m5 E%E 8.1 单层抗反射薄膜 145 5[{#/!LX) 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 =O?#>3A} 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 sKLH.@ 8.4 W-膜层 148 m?$peRn3{ 8.5 V-膜层 149 )rP)-op|A 8.6 V-膜层高折射基底 150 Pa}B0XBWP 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ^%<t^sE 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 AT6:&5_` 8.9 四层抗反射薄膜 153 G>q16nS~KP 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 YEB@ p. 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 83ajok4E 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 {ylhh%t4hi 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 $4j$c|S! 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 y_Tc$g~ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 aTx*6;-PH 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 on=I*?+R 8.17 1/4波长堆栈 162 >.]'N:5 8.18 陷波滤波器 163 Q:#Kt@W 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 &D[pX|! 8.20 褶皱 165 ]XAJ|[]sj* 8.21 消偏振分光器1 169 yXdJ5Me(T 8.22 消偏振分光器2 171 & |