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$BG9<:p 内容简介 eM8u
;i Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 9!o:)99U 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 'A4Lr
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ~=}56yxl[ 6MZfoR 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 Xc'yz 2B 目录 ym-212wl Preface 1 J)*y1 内容简介 2 w^dB1Y7c(W 目录 i U,)+wZJ 1 引言 1 dlyE2MiL: 2 光学薄膜基础 2 t0?\5q 2.1 一般规则 2 n`CmbM@@ 2.2 正交入射规则 3 BHa!jw_~o 2.3 斜入射规则 6 y9:|}Vh 2.4 精确计算 7 ^5xY&1j 2.5 相干性 8
~B/|#o2 2.6 参考文献 10 R\6#J0&Y- 3 Essential Macleod的快速预览 10 >&p_G0- 4 Essential Macleod的特点 32 ;5oY)1 4.1 容量和局限性 33 -Ndd6O[ a5 4.2 程序在哪里? 33 ?9/%K45 4.3 数据文件 35 @aI`ru+a 4.4 设计规则 35 C}wmoYikV 4.5 材料数据库和资料库 37 I/fERnHM/+ 4.5.1材料损失 38 7
pp[kv;!G 4.5.1材料数据库和导入材料 39 &EZ28k"x 4.5.2 材料库 41 _bFX(~37z? 4.5.3导出材料数据 43 ^-rb&kW@: 4.6 常用单位 43 s}UPe)Vu 4.7 插值和外推法 46 RKRk,jRL 4.8 材料数据的平滑 50 E+csK*A7 4.9 更多光学常数模型 54 Gh|q[s*k 4.10 文档的一般编辑规则 55 `[[
A7 4.11 撤销和重做 56 P3);R>j 4.12 设计文档 57 zPZy#7/A 4.10.1 公式 58 h2K1|PUKl[ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 k'EP->r 4.10.3 沉积密度 59 F~z4T/TN%G 4.10.4 平行和楔形介质 60 ^\J/l\n 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ,C!MHn^$ 4.10.4 性能 61 ,}F{V>dhn 4.10.5 保存设计和性能 64 Y[@$1{YS 4.10.6 默认设计 64 =[3I#s?V 4.11 图表 64 r C$ckug 4.11.1 合并曲线图 67 ,"5Fw4G6* 4.11.2 自适应绘制 68 PudwcP{ 4.11.3 动态绘图 68 @<r;>G 4.11.4 3D绘图 69 (?;Fnq 4.12 导入和导出 73 T ^%$ 4.12.1 剪贴板 73 9Iy>oV 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 d%\en&:la 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Tgc)'8A;BN 4.13 背景 77 Em %"]B 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 =X]$J@j 4.15 生成Rugate 84 yIOoVi\m 4.16 参考文献 91 WR%x4\,d# 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 rt^<=|Z 5.1 Jobs 92 g;D
[XBp 5.2 创建一个新Job(工作) 93 h1q ?kA 5.3 输入材料 94 c"H*9u: 5.4 设计数据文件夹 95 +'x|VPY.PG 5.5 默认设计 95 IEmtt^C 6 细化和合成 97 #iJ+}EW
_ 6.1 优化介绍 97 f@]4udc e 6.2 细化 (Refinement) 98 $x)C_WZj? 6.3 合成 (Synthesis) 100 s:~3|D][ 6.4 目标和评价函数 101 now\-XrS 6.4.1 目标输入 102 m?`U;R[ 6.4.2 目标 103 E}00y%@*J 6.4.3 特殊的评价函数 104 \J.PrE'(} 6.5 层锁定和连接 104 j:0(=H!# 6.6 细化技术 104 [yJcM
[p\ 6.6.1 单纯形 105 i*_T\_= 6.6.1.1 单纯形参数 106 #"jEc*&= 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 C{H:-"\J9 6.6.2.1 Optimac参数 108 YQ:FBj 6.6.3 模拟退火算法 109 VK5|w: 6.6.3.1 模拟退火参数 109 }YfM< 6.6.4 共轭梯度 111 -NGY+1 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 hB]4Tn5H 6.6.5 拟牛顿法 112 ep>*]' 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 tg_v\n 6.6.6 针合成 113 j,?>Q4G 6.6.6.1 针合成参数 114 .BuXg<` 6.6.7 差分进化 114 A(S = 6.6.8非局部细化 115 (&npr96f 6.6.8.1非局部细化参数 115 sG!SSRL@ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 xlg 6cO 6.7.1 细化 116 Y_ b;1RN 6.7.2 合成 117 E Z15 6.8 参考文献 117 ]>M{Qn* 7 导纳图及其他工具 118 fRS)YE@a: 7.1 简介 118 XT~!dq5 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 F@~zVu3' 7.2.1 四分之一波长规则 119 cy%JJ)sf 7.2.2 导纳图 120 @*`9!K% 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 aY& |