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>uPde5"ZF- 内容简介 SbPjU50 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 vU$O{|J 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 X,!OWz:[ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 |{/O)3 Sj{rvW 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 >e$^#\D 目录 &W!d}, ;
Preface 1 l>5]Wd{/ 内容简介 2 { Sliy' 目录 i eZ.0,A*1B1 1 引言 1 2`FsG/o\T~ 2 光学薄膜基础 2 ANpY qV 2.1 一般规则 2 3Ibt'$dK 2.2 正交入射规则 3 xwH|ryfs,Z 2.3 斜入射规则 6 B> "r -O 2.4 精确计算 7 E-U;8cOMv 2.5 相干性 8 dW^_tzfF7 2.6 参考文献 10 -< dMD_ 3 Essential Macleod的快速预览 10 }rMpp[ 4 Essential Macleod的特点 32 !
^*;c# 4.1 容量和局限性 33 iJaNP%N 4.2 程序在哪里? 33 ! ?U^+)^$ 4.3 数据文件 35 i;'X}KW 4.4 设计规则 35 @#--dOWYR 4.5 材料数据库和资料库 37 '3_B1iAv 4.5.1材料损失 38 Q0"F> %Cn 4.5.1材料数据库和导入材料 39 zS"zb 4.5.2 材料库 41 :V-}Sde 4.5.3导出材料数据 43 p|9ECdU>; 4.6 常用单位 43 =|5bhwU] 4.7 插值和外推法 46 &CeF^ 4.8 材料数据的平滑 50 ~
%YTJS 4.9 更多光学常数模型 54 %J (
}D7-, 4.10 文档的一般编辑规则 55 f({-j%m 4.11 撤销和重做 56 gl7vM 4.12 设计文档 57 +uiH0iGS 4.10.1 公式 58 ]Y:
W[p 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 qT>&
v_< 4.10.3 沉积密度 59 _:=OHURc 4.10.4 平行和楔形介质 60 dR, NC-* 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 o`1V 4.10.4 性能 61 bZ22O"F 4.10.5 保存设计和性能 64 gJFpEA { 4.10.6 默认设计 64 89- 8v^ Pq 4.11 图表 64 xE-`Bb 4.11.1 合并曲线图 67 ND9>`I5 4.11.2 自适应绘制 68 Y <i}"eI* 4.11.3 动态绘图 68 [[r3fEr$!p 4.11.4 3D绘图 69 tG^ ?fc 4.12 导入和导出 73 KsU&<eQ 4.12.1 剪贴板 73 iN/!k.ybW} 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 79B`w
# 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 H6CGc0NS+ 4.13 背景 77 8J?`_ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 L\?g/l+k 4.15 生成Rugate 84 nIKT w 4.16 参考文献 91 >iWf7-: 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 % m5 ^p 5.1 Jobs 92 +?txGHQq 5.2 创建一个新Job(工作) 93 #.L0]Uqcp 5.3 输入材料 94 2gR_1*| 5.4 设计数据文件夹 95 +-YuBVHL 5.5 默认设计 95 }~~^ZtJ\ 6 细化和合成 97 MG5Sn*(C 6.1 优化介绍 97 I)%jPH:ua 6.2 细化 (Refinement) 98 c^)E:J/ 6.3 合成 (Synthesis) 100 %ih7Jt 6.4 目标和评价函数 101 ="[](X^ l 6.4.1 目标输入 102
ne24QZ~} 6.4.2 目标 103 s!fY^3 6.4.3 特殊的评价函数 104 +X(^Q@ 6.5 层锁定和连接 104 {UC<I.5X 6.6 细化技术 104 0i(?LI_S 6.6.1 单纯形 105 [T#a1! 6.6.1.1 单纯形参数 106 0uJzff!| 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 (?3\.tQ}} 6.6.2.1 Optimac参数 108 +C;#Qf 6.6.3 模拟退火算法 109 Vyq<T(5 6.6.3.1 模拟退火参数 109 *k]S{]Y 6.6.4 共轭梯度 111 XoiYtx53 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 $AhX@|?z 6.6.5 拟牛顿法 112 7^TXlWn^G 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 H;Qn?^ 6.6.6 针合成 113 4lf36K, 6.6.6.1 针合成参数 114 .%b_3s". 6.6.7 差分进化 114 ~#km0<r? 6.6.8非局部细化 115 i[^lJ)[>N 6.6.8.1非局部细化参数 115 U5$DJ5>8 6.7 我应该使用哪种技术? 116 GJ_)Cl+5E 6.7.1 细化 116 EAE\Xv 6.7.2 合成 117 }w^ T9OC 6.8 参考文献 117 j/mp.'P1k 7 导纳图及其他工具 118 W B[G!'
7.1 简介 118 LtWU"42 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 &b")`p&K 7.2.1 四分之一波长规则 119 LP6FSo~K 7.2.2 导纳图 120 Z?aR9OTP
7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 6 |qvo+% 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 $#W6z: 7.5 斜入射导纳图 141 VgTI2 7.6 对称周期 141 'J0s%m|j 7.7 参考文献 142 _W@Fk)E6N 8 典型的镀膜实例 143 _ rVX_
8.1 单层抗反射薄膜 145 _`[6jhNa! 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 q&6=oss! 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 t%B!\] 8.4 W-膜层 148 X0QS/S-+ 8.5 V-膜层 149 "$cT*}br 8.6 V-膜层高折射基底 150 KrG6z#)Uz 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 koY8=lh/ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 NRF%Qd8I/2 8.9 四层抗反射薄膜 153 #$C]0]| 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 :!!`!*!JH 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 j6(IF5MqP 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 q$'&R |