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*VN6cSq 内容简介 f*8DCh!r" Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 -UT}/:a 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 69.NPy@ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 BJ(M2|VH `M6)f?|$. 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 /qw.p# 目录 f%hEnZv Preface 1 Z3!`J& 内容简介 2 }(u
ol 目录 i >
Nr#O 1 引言 1 kG*~|ma 2 光学薄膜基础 2 +"@ .8m 2.1 一般规则 2 R G`1en 2.2 正交入射规则 3 <a+Z;> 2.3 斜入射规则 6 !|>"o7 2.4 精确计算 7 ?
=+WRjF 2.5 相干性 8 Tm?# M&' 2.6 参考文献 10 TS5Q1+hWHV 3 Essential Macleod的快速预览 10 u#SWj,X 4 Essential Macleod的特点 32 T[A69O]v 4.1 容量和局限性 33 Rlirs-WQ 4.2 程序在哪里? 33 rVsJ`+L 4.3 数据文件 35 +nGAz{&@r% 4.4 设计规则 35 "zy7C*)>r 4.5 材料数据库和资料库 37 {VoHh_[5% 4.5.1材料损失 38 Du){rVY^d 4.5.1材料数据库和导入材料 39 /u+e0BHo 4.5.2 材料库 41 1-QS~)+ 4.5.3导出材料数据 43 nFs(?Rv* 4.6 常用单位 43 ;*&-C9b 4.7 插值和外推法 46 po7q mLq 4.8 材料数据的平滑 50 OZ!^ak 4.9 更多光学常数模型 54 1aABzB
^ 4.10 文档的一般编辑规则 55 @\I#^X5lv 4.11 撤销和重做 56 FxtI"g\0 4.12 设计文档 57 dcT80sOC 4.10.1 公式 58 =nHgDrA_ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 FC"8#*x 4.10.3 沉积密度 59 ?0xgRe< 4.10.4 平行和楔形介质 60 29q _BR *: 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 {[ >Kob1 4.10.4 性能 61 2GStN74X r 4.10.5 保存设计和性能 64 y* h<MQ 4.10.6 默认设计 64 WMP,\=6k0 4.11 图表 64 00U> F 4.11.1 合并曲线图 67 WOf 4o 4.11.2 自适应绘制 68 7v_8_K 4.11.3 动态绘图 68 N)>ID(}F1 4.11.4 3D绘图 69 ItTz.sQ 4.12 导入和导出 73 ;6hOx(>`= 4.12.1 剪贴板 73 ,,|^%Ct'] 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 5rUdv}. 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 h `.& f 4.13 背景 77 YT8F#t8 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 7j)8Djzp| 4.15 生成Rugate 84 *HB-QIl 4.16 参考文献 91 gv{ >`AN 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ?[>3QE 5.1 Jobs 92 kz7(Z'pw 5.2 创建一个新Job(工作) 93 gKCX|cULY 5.3 输入材料 94 G9@0@2aY8 5.4 设计数据文件夹 95 vSLtFMq^( 5.5 默认设计 95 pcI uN 6 细化和合成 97 e<q?e}>? 6.1 优化介绍 97 VOh4#%Vj 6.2 细化 (Refinement) 98 x3eZ^8^1} 6.3 合成 (Synthesis) 100 eQvg7aO; 6.4 目标和评价函数 101 -1@<=jX3_ 6.4.1 目标输入 102 dcWD(- 6.4.2 目标 103 xA[mm 6.4.3 特殊的评价函数 104 ;P&OX5~V 6.5 层锁定和连接 104 P}`H ~N~ 6.6 细化技术 104 -RK- Fu<e 6.6.1 单纯形 105 _8agtQ:< 6.6.1.1 单纯形参数 106 U|j`e5) 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 9]o-O]7/ 6.6.2.1 Optimac参数 108 ?#Q #u|~ 6.6.3 模拟退火算法 109 mUx+Y ]Ep 6.6.3.1 模拟退火参数 109 _2 osV[e 6.6.4 共轭梯度 111 S?BG_J6A7 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Lbb0_-'] 6.6.5 拟牛顿法 112 Ef13Q]9| 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 VTHH&$ZNq 6.6.6 针合成 113 w917N4$ 6.6.6.1 针合成参数 114 @2v_pJy^ 6.6.7 差分进化 114 4]}'Hln*U 6.6.8非局部细化 115 yyy|Pw4:Z 6.6.8.1非局部细化参数 115 !m?-!: 6.7 我应该使用哪种技术? 116 i8HTzv"J 6.7.1 细化 116 0}dpK $. 6.7.2 合成 117 P J[`| 6.8 参考文献 117 =[jXe 7 导纳图及其他工具 118 }|5Pr(I 7.1 简介 118 b9dLt6d 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ^@NU}S):yN 7.2.1 四分之一波长规则 119 V,N%;iB} 7.2.2 导纳图 120 r^ ZEImjc 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 07=mj%yV 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 /fV;^=:8c 7.5 斜入射导纳图 141 $\y'IQ% 7.6 对称周期 141 ,L'zRyP 7.7 参考文献 142 qK&d]6H
R 8 典型的镀膜实例 143 PXNh&N 8.1 单层抗反射薄膜 145 2WYPO"q 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 }txX;"/ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 O463I.XAP 8.4 W-膜层 148 Jo23P.#< 8.5 V-膜层 149 ."y1_dDql 8.6 V-膜层高折射基底 150 by/jYg)+ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ZO c) 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 !0mI;~q| F 8.9 四层抗反射薄膜 153 L4y4RG/SJ: 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ,:\|7 F 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 yY&I |