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J7R+|GTcx 内容简介 t
7D2k2x9 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 W?m?r.K? 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 8$!/Zg 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 !m"(SJn" 8S1%;@c 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 s1XW}Dw 目录 ]*+ozAG4 Preface 1 XJ;kyEx3=O 内容简介 2 z<~gv" 目录 i 2U6j?MyH2 1 引言 1 dq?q(_9 2 光学薄膜基础 2 7kM_Ijd$ 2.1 一般规则 2 vVF#]t b| 2.2 正交入射规则 3 X]q,A5g 2.3 斜入射规则 6 372ewh3' 2.4 精确计算 7 N1ZHaZ 2.5 相干性 8 <,,U>0?3 2.6 参考文献 10 SE+K"faKQ 3 Essential Macleod的快速预览 10 xUE 9%qO 4 Essential Macleod的特点 32 Ek' 4.1 容量和局限性 33 B[^mWVp6L 4.2 程序在哪里? 33 Sk@~} 4.3 数据文件 35 S86%o,Saq\ 4.4 设计规则 35 UO}Kk* 4.5 材料数据库和资料库 37 @RKw1$BA 4.5.1材料损失 38 IMzhEm 4.5.1材料数据库和导入材料 39 vB, X) 4.5.2 材料库 41 ;p%a!Im_< 4.5.3导出材料数据 43 ?\:ysTVu 4.6 常用单位 43 RRy3N
)HR 4.7 插值和外推法 46 DJlY~}v#_ 4.8 材料数据的平滑 50 @W|}|V5 4.9 更多光学常数模型 54 .L%_#A 4.10 文档的一般编辑规则 55 V ^=o@I 4.11 撤销和重做 56 9PEjV$0E2 4.12 设计文档 57 fRJSo% 4.10.1 公式 58 }' `2C$ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 [Dp 6q~RM 4.10.3 沉积密度 59 6Gjr8 4.10.4 平行和楔形介质 60 P-ma~g>I 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 &;7\/m*W1 4.10.4 性能 61 d|5u<f5 4.10.5 保存设计和性能 64 |r5|IA 4.10.6 默认设计 64
]SpUD 4.11 图表 64 ]J)WcM: 4.11.1 合并曲线图 67 pdsjX)O+f 4.11.2 自适应绘制 68 =!r9;L,? 4.11.3 动态绘图 68 @#ih;F 4.11.4 3D绘图 69 LjjE(Yrv{ 4.12 导入和导出 73 !G3O!] 4.12.1 剪贴板 73 |SXMd'<3`Z 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 X""<5s'0 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ^lB'7#7 4.13 背景 77 q%#dx4z& 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 S|Wv1H> 4.15 生成Rugate 84 2#5SI 4.16 参考文献 91 nGGYKI 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 >1xlP/4jx 5.1 Jobs 92 4`)B@< 5.2 创建一个新Job(工作) 93 a;m-Vu! 5.3 输入材料 94 z=vfP% 5.4 设计数据文件夹 95 0*W=u-|s6 5.5 默认设计 95 m6Q lIdl 6 细化和合成 97 ,6,#Lc 6.1 优化介绍 97 9>d$a2nc 6.2 细化 (Refinement) 98 e4Ol:V 6.3 合成 (Synthesis) 100 Ph2jj,K 6.4 目标和评价函数 101 axnkuP( 6.4.1 目标输入 102 & :x_ 6.4.2 目标 103 d_Ll,*J9 6.4.3 特殊的评价函数 104 %1a\"F![ 6.5 层锁定和连接 104 CD%wi:C%| 6.6 细化技术 104 QNzI 6.6.1 单纯形 105 ~j",ePl 6.6.1.1 单纯形参数 106 mYXe0E#6 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 u\-xlp?"o 6.6.2.1 Optimac参数 108 2J9_(w
6.6.3 模拟退火算法 109 gO4`e(W 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ?%(8RQ 6.6.4 共轭梯度 111 \MQ|( 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 zCj]mH`es' 6.6.5 拟牛顿法 112 HE.
` 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 =:mD)oX* 6.6.6 针合成 113 #0"Fw$Pc 6.6.6.1 针合成参数 114 #A@*k}/+ 6.6.7 差分进化 114 Hn0,LH$/ 6.6.8非局部细化 115 E"&fT!yi 6.6.8.1非局部细化参数 115 " GkBX 6.7 我应该使用哪种技术? 116 G/\t<>O8o 6.7.1 细化 116 qYZX,
x 6.7.2 合成 117 bcC;i~9 6.8 参考文献 117 6;9SU+/ 7 导纳图及其他工具 118 dGMBgj 7.1 简介 118 >%x7-->IB 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 U)=?3}s( 7.2.1 四分之一波长规则 119 `$SX%AZA 7.2.2 导纳图 120 tM <6c+ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ^aN;M\ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 5Q,#Co 7.5 斜入射导纳图 141 DG}t! 7.6 对称周期 141 L;H(I@p(e 7.7 参考文献 142 _CDUUr 8 典型的镀膜实例 143 +'Pf|S 8.1 单层抗反射薄膜 145 c?"#x-<1s 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 L+7L0LbNU 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 h)7{Cj 8.4 W-膜层 148 xrxORtJ< |