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,5 ka{Q`K 内容简介 [<@T%yq Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 +@?Q "B5u} 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 U\lbh;9G 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 \)/qCeiZ CWkWW/ZI 1rZ E2
@>O7/d?O 目录 >u>
E !5O Preface 1 dPu27 " 内容简介 2 9f0`HvHC 目录 i ]Ik~TW& 1 引言 1 &D M3/^70 2 光学薄膜基础 2
)1Bz0: 2.1 一般规则 2 $a~ 2.2 正交入射规则 3 E>QS^)ih 2.3 斜入射规则 6 -lJ|x>PG' 2.4 精确计算 7 hx0 t!k(3 2.5 相干性 8 f?.VVlD 2.6 参考文献 10 mbbhz, 3 Essential Macleod的快速预览 10 lVT*Ev{&. 4 Essential Macleod的特点 32 _m?i$5 4.1 容量和局限性 33 d~QKZ&jf 4.2 程序在哪里? 33 NOs00 H 4.3 数据文件 35 I*TTD]e'X 4.4 设计规则 35 ]\fHc"/ 4.5 材料数据库和资料库 37 o(e(|k
{ 4.5.1材料损失 38 (Z>?\iNJ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 1R@G7m 4.5.2 材料库 41 VgXT4gO! 4.5.3导出材料数据 43 zqj|$YNC 4.6 常用单位 43 P
s>Y] 4.7 插值和外推法 46 [,Rc&7p~R 4.8 材料数据的平滑 50 ^Ak?2,xB#+ 4.9 更多光学常数模型 54 12#yHsk 4.10 文档的一般编辑规则 55 \uHC 9}0 4.11 撤销和重做 56 t8RtJ2; 4.12 设计文档 57 ]vf_4QW= 4.10.1 公式 58 %R4 \[e 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 !QVhP+l'H 4.10.3 沉积密度 59 EgG3XhfS 4.10.4 平行和楔形介质 60 $MDmY4\ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 }5PC53q 4.10.4 性能 61 } OIe! 4.10.5 保存设计和性能 64 f`ibP6% 4.10.6 默认设计 64 <UO[*_,\ 4.11 图表 64 l7T?Yx j 4.11.1 合并曲线图 67 cRKLyb 4.11.2 自适应绘制 68 ?a,#p 4.11.3 动态绘图 68 xT&/xZLT 4.11.4 3D绘图 69 #Db^* 4.12 导入和导出 73 ]+,L/P 4.12.1 剪贴板 73 40=u/\/K 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 r[ k 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ]/h$6mrL 4.13 背景 77 yH:p*|% : 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 0B1nk!F 4.15 生成Rugate 84 $'CS/U`E} 4.16 参考文献 91 XS2/U<sd 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 >.UEs8QV 5.1 Jobs 92 g
\S6>LG! 5.2 创建一个新Job(工作) 93 TX YO{ 5.3 输入材料 94 XPrnQJ 5.4 设计数据文件夹 95 uDG>m7(}/h 5.5 默认设计 95 b'^<0c 6 细化和合成 97 =g6~2p=H 6.1 优化介绍 97 zK~_e\m 6.2 细化 (Refinement) 98 Hj`'4 6.3 合成 (Synthesis) 100 pFMJG<W9, 6.4 目标和评价函数 101 gcwJ{& 6.4.1 目标输入 102 N68]r3/K 6.4.2 目标 103 yT<"?S>D 6.4.3 特殊的评价函数 104 Wx#l}nD 6.5 层锁定和连接 104 >P(.yQ8&kL 6.6 细化技术 104 s w>B 6.6.1 单纯形 105 LR.]&(kyd 6.6.1.1 单纯形参数 106 jXmY8||w 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 8[@Y`j8 6.6.2.1 Optimac参数 108 |#t^D.j 6.6.3 模拟退火算法 109 ]Rf$&7`g{ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 tol-PJS} 6.6.4 共轭梯度 111 HrLws95' 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 roriNr/e 6.6.5 拟牛顿法 112 ;XNC+mPK 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 C+!=C{@7di 6.6.6 针合成 113 yo_zc< 6.6.6.1 针合成参数 114 |4BD 6.6.7 差分进化 114 ShtV2}s| 6.6.8非局部细化 115 FDF DB 6.6.8.1非局部细化参数 115 KJ&I4CU]^ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 (i{ZxWW& 6.7.1 细化 116 JI-.SR 6.7.2 合成 117 Q+a&a]*KL^ 6.8 参考文献 117 j?tE# 7 导纳图及其他工具 118 Tl"r# 7.1 简介 118 ?^:5` 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ^Hf?["m^@ 7.2.1 四分之一波长规则 119 E rA*a3 7.2.2 导纳图 120 g|^U?|;p 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 EN^L.q9# 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 o6x8jz 7.5 斜入射导纳图 141 w"kBAi& 7.6 对称周期 141 Sh5m+>7K 7.7 参考文献 142 (@BB@G 8 典型的镀膜实例 143 |w~*p
N0 8.1 单层抗反射薄膜 145 s 64@<oU<" 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 @QpL*F 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 R'_F9\ 8.4 W-膜层 148 LCIe1P2 8.5 V-膜层 149 l9%ckC*q 8.6 V-膜层高折射基底 150 m(xyEU 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 phA{jJy? 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Wl&6T1A`" 8.9 四层抗反射薄膜 153 R Ee~\n+P^ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 Y^#>3T 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 BUL<FTg 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 ;l `(1Q/ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 Y2uy@j*N 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 jX$U)O 8.15十五层宽带抗反射膜 159 "_rpErm
} 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 6m(+X
MS 8.17 1/4波长堆栈 162 {^:i}4ZRl 8.18 陷波滤波器 163 +:C.G[+ 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 W+V & |