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n% s$!R-\ 内容简介 >uE<-klv Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 DXK\3vf Ot 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 $B OpjDV8 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ][~rk?YY rEs!gGNN !X=93%
mOb@w/f 目录 f1U:_V^d Preface 1 Apkb!"}> 内容简介 2 dCzS f4: 目录 i jjg&C9w T 1 引言 1 ,Uy~O(Ft 2 光学薄膜基础 2 =HMuAUa. 2.1 一般规则 2 ca%XA|_J 2.2 正交入射规则 3 o^u}(wZ{ 2.3 斜入射规则 6 c32"$g 2.4 精确计算 7 M$3/jl*#} 2.5 相干性 8 )F6p+i=" 2.6 参考文献 10 (dym*_J 3 Essential Macleod的快速预览 10 8,:lw3x1 4 Essential Macleod的特点 32 VC^QCuSq 4.1 容量和局限性 33 IOl0=+p 4.2 程序在哪里? 33 A$TFa:O| 4.3 数据文件 35 mQ\oR| 4.4 设计规则 35 yRz l} 4.5 材料数据库和资料库 37 "p&4Sn3T2? 4.5.1材料损失 38 +lJD7=%K]Z 4.5.1材料数据库和导入材料 39 %3q7i`AZ 4.5.2 材料库 41 Bc}e ??F 4.5.3导出材料数据 43 P}-S[[b73s 4.6 常用单位 43 '@#l/9 4.7 插值和外推法 46 lsVg'k/Z! 4.8 材料数据的平滑 50 PH!rWR 4.9 更多光学常数模型 54 x8&~ 4.10 文档的一般编辑规则 55 W}k)5<C4v 4.11 撤销和重做 56 6Q`7>l.|? 4.12 设计文档 57 g]._J 4.10.1 公式 58 &tw{d DD6 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ['I5(M@ 4.10.3 沉积密度 59 ak(P<OC- 4.10.4 平行和楔形介质 60 "-G&]YMl 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 J#G\7'?{ 4.10.4 性能 61 r7v1q 4.10.5 保存设计和性能 64 hy@e(k|S]U 4.10.6 默认设计 64 QB7^8O!< 4.11 图表 64 a<Ps6' 4.11.1 合并曲线图 67 9tB:1n} 4.11.2 自适应绘制 68 &-|(q!jm 4.11.3 动态绘图 68 I@q4D1g 4.11.4 3D绘图 69 ?gS~9jgcd 4.12 导入和导出 73 1@`mpm#Y 4.12.1 剪贴板 73 Fw6x
(j" 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 }do=lm?/ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 d'p@[1/ 4.13 背景 77 _?9|, 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 bd`}2vr 4.15 生成Rugate 84 tEllkHyef 4.16 参考文献 91 {^Q1b.= 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 o]0\Km 5.1 Jobs 92 R?l={N=Wf 5.2 创建一个新Job(工作) 93 0EUC8Ni 5.3 输入材料 94 q7zHT=@$ 5.4 设计数据文件夹 95 s=)1:jYk 5.5 默认设计 95 lLuAg ds` 6 细化和合成 97 C-VkXk 6.1 优化介绍 97 `wLMJ,@f. 6.2 细化 (Refinement) 98 efm#:>H 6.3 合成 (Synthesis) 100 +p &$`( 6.4 目标和评价函数 101 t%30B^Ii%K 6.4.1 目标输入 102 Vxim$'x! 6.4.2 目标 103 *iujJi 6.4.3 特殊的评价函数 104 fngk<$lvg 6.5 层锁定和连接 104 *AI?md 6.6 细化技术 104 (k>I!Z/&2 6.6.1 单纯形 105 fvw&y+|y! 6.6.1.1 单纯形参数 106 |FZIUS{] 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 'U4@Sax, 6.6.2.1 Optimac参数 108 l1}HJmom 6.6.3 模拟退火算法 109 4CioVQdj 6.6.3.1 模拟退火参数 109 /PtmJ2[ 6.6.4 共轭梯度 111 YN5p@b=FX 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Kv6#WN~ 6.6.5 拟牛顿法 112 #W=H)6 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 )R"deb=s 6.6.6 针合成 113 `Z~\&r= 6.6.6.1 针合成参数 114 O.wk*m!9 6.6.7 差分进化 114 Dq~D4| 6.6.8非局部细化 115 t+O7dZt%r 6.6.8.1非局部细化参数 115 e{`DvfY21 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ~er4w+" 6.7.1 细化 116 T\$r| 6.7.2 合成 117 kG]FB.@bG 6.8 参考文献 117 )\0LxsZ 7 导纳图及其他工具 118 ewzZb*\ 7.1 简介 118 \d"M&-O 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 e(sV4Z~ 7.2.1 四分之一波长规则 119 Km,:7#aV 7.2.2 导纳图 120 /*)
=o+ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 \J3n[6; 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 D*o[a#2_ 7.5 斜入射导纳图 141 )w!*6< |