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]GDjR'[z 内容简介 a1EQ.u
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 to?={@$] 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 @O|`r(le 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 I%{ 1K+V/ .hjN*4RY
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o7^0Lo5Z? 目录 hW` o-' Preface 1 TAq[g|N-; 内容简介 2 PbfgWGr 目录 i rH'|$~a 1 引言 1 \}AJ)v*< 2 光学薄膜基础 2 CSH*^nk':O 2.1 一般规则 2 @k\,XV`T~t 2.2 正交入射规则 3 >3}N; 2.3 斜入射规则 6 )x35
2.4 精确计算 7 GcG$>&, 2.5 相干性 8 $-.*8*9 2.6 参考文献 10 1k`gr&S 3 Essential Macleod的快速预览 10 1@9M[_<n5 4 Essential Macleod的特点 32 6n;? :./ 4.1 容量和局限性 33 5=b6B=\*~ 4.2 程序在哪里? 33 Qn.3B 4.3 数据文件 35 |pBvy1e4) 4.4 设计规则 35 AW'$5NF> 4.5 材料数据库和资料库 37 _UY=y^ c0> 4.5.1材料损失 38 S4rm K& 4.5.1材料数据库和导入材料 39 >U(E
\`9D 4.5.2 材料库 41 pktnX-Slt 4.5.3导出材料数据 43 )P,pW?h$ 4.6 常用单位 43 ce*?crOV 4.7 插值和外推法 46 $LG.rJ/* 4.8 材料数据的平滑 50 A-*MH#QUKh 4.9 更多光学常数模型 54 IJC]Al,df 4.10 文档的一般编辑规则 55 8"A0@fNz 4.11 撤销和重做 56 DR]4Tc z# 4.12 设计文档 57 aimf,(+ 4.10.1 公式 58 "'XYW\bI 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ~qXwQ@ 4.10.3 沉积密度 59 PR*EyM[T 4.10.4 平行和楔形介质 60 m-#]v}0A 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 orbz`IQc 4.10.4 性能 61 u68ic1 4.10.5 保存设计和性能 64 t^}"8 4.10.6 默认设计 64 D[6wMep^n 4.11 图表 64 f0YBy<a 4.11.1 合并曲线图 67 0#ON}l)> 4.11.2 自适应绘制 68 #4!f/dWJp 4.11.3 动态绘图 68 lTVz'ys 4.11.4 3D绘图 69 $e.Bz` 4.12 导入和导出 73 )@] W= 4.12.1 剪贴板 73 #B
q|^:nj 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 qQ1D }c@ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 eu?P6>urA 4.13 背景 77 rv<qze;?| 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 =h|7bYLy 4.15 生成Rugate 84 AS0mMHJk 4.16 参考文献 91 l@]Fzl 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 1lJ^$U 5.1 Jobs 92 ;F"Tu 5.2 创建一个新Job(工作) 93 .4[M-@4+] 5.3 输入材料 94 = )4bf"~8 5.4 设计数据文件夹 95 wUfPnAD.' 5.5 默认设计 95 c(Fo-4K 6 细化和合成 97 ]\]mwvLT 6.1 优化介绍 97 %eGD1.R 6.2 细化 (Refinement) 98 lQ"t#b+ 6.3 合成 (Synthesis) 100 [?(qhp! 6.4 目标和评价函数 101 j 20mZ 6.4.1 目标输入 102 *Wcq'S 6.4.2 目标 103 [4@@b"H 6.4.3 特殊的评价函数 104 07:h4beT 6.5 层锁定和连接 104 B B^81{A 6.6 细化技术 104 +ZV?yR2yn 6.6.1 单纯形 105 )bpdj, 6.6.1.1 单纯形参数 106 J7~Kjl 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 R;uP^ 6.6.2.1 Optimac参数 108 +vPCr&40 6.6.3 模拟退火算法 109 }.=@^-JBA5 6.6.3.1 模拟退火参数 109 :5jor Vu 6.6.4 共轭梯度 111 V#c=O} 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 QkLcs6)R 6.6.5 拟牛顿法 112 p%/lP{ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 y+izC+ 6.6.6 针合成 113 .Np!Qp1* 6.6.6.1 针合成参数 114 mXMU 6.6.7 差分进化 114 >feeVk 6.6.8非局部细化 115 Fl"LK:) 6.6.8.1非局部细化参数 115 6\%#=GG 6.7 我应该使用哪种技术? 116 zE7)4! 6.7.1 细化 116 $. sTb 6.7.2 合成 117 FY]Et=p 6.8 参考文献 117 M?kXzb\O 7 导纳图及其他工具 118 Rn{X+b. 7.1 简介 118 dbF9%I@ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 "IWL& cH3 7.2.1 四分之一波长规则 119 Lo"s12fr 7.2.2 导纳图 120 U]ZI_[\'U 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 W=2]!%3# 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 #rp)Gc 7.5 斜入射导纳图 141 [.;8GMW 7.6 对称周期 141 L_!}R 7.7 参考文献 142 qVds
2 8 典型的镀膜实例 143 _cJ\A0h^ 8.1 单层抗反射薄膜 145 Ev48|X6 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 [&zSY |