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(avaTUMOqy 内容简介 B9\o:eY Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 :{<HiJdp 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 9rz "@LM 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 b2H6}s"=w ](pD<FfS]' 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 )qe o`4+y 目录 E>v~B;@ Preface 1 qI:wm= 内容简介 2 HN%ZN} 目录 i }o.ZCACYg 1 引言 1 un=)k;oh 2 光学薄膜基础 2 CPG %*E* 2.1 一般规则 2 !s:|Ddv 2.2 正交入射规则 3 xa:P(x3[ 2.3 斜入射规则 6 u:|5jF 2.4 精确计算 7 1??RX}8[L+ 2.5 相干性 8 [g_@<?zg 2.6 参考文献 10 ( d.i np( 3 Essential Macleod的快速预览 10 @hv]
[(< 4 Essential Macleod的特点 32 !j@ 8:j0WY 4.1 容量和局限性 33 ~XRr }z_Lq 4.2 程序在哪里? 33 0fNBy^(K 4.3 数据文件 35 HIAd"}^ 4.4 设计规则 35 *lSIT]1 4.5 材料数据库和资料库 37 Ws(>}
qjy 4.5.1材料损失 38 nq;)!Wry 4.5.1材料数据库和导入材料 39 :OM>z4mQ 4.5.2 材料库 41 ^C{a' 4.5.3导出材料数据 43 Oh: -Y]m= 4.6 常用单位 43 R<)uvW_@ 4.7 插值和外推法 46 `JCC-\9T_ 4.8 材料数据的平滑 50 EUgs2Fsb3 4.9 更多光学常数模型 54 KN=Orx7Gy 4.10 文档的一般编辑规则 55 /~Iy1L# 4.11 撤销和重做 56 ~jaGf 4.12 设计文档 57 0=iJT4IEJ 4.10.1 公式 58 w;"'l]W 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 *V/SI E*8 4.10.3 沉积密度 59 !p2&$s"N. 4.10.4 平行和楔形介质 60 )mU)7@! 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 )yk
LUse+ 4.10.4 性能 61 ZO~N|s6B^ 4.10.5 保存设计和性能 64 ]_h"2| 4.10.6 默认设计 64 Vz^:|qON 4.11 图表 64 mon(A|$|j 4.11.1 合并曲线图 67 <fxYTd<#D[ 4.11.2 自适应绘制 68 (\T?p9 4.11.3 动态绘图 68 |v+b?@ 4.11.4 3D绘图 69 IlVi1`]w 4.12 导入和导出 73 sXUM,h8$!+ 4.12.1 剪贴板 73 |@+
x9|'W 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ]=/f` 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 r|(Lb'k 4.13 背景 77 8K qv)FjB
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 *\>7@r[%5 4.15 生成Rugate 84 Msf yIB 4.16 参考文献 91 `` ={FaV~m 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 +MEWAW[}^ 5.1 Jobs 92 [|3
%~s|Sv 5.2 创建一个新Job(工作) 93 wo/H:3^N 5.3 输入材料 94 ,[x'S>N 5.4 设计数据文件夹 95 B:l(`G 5.5 默认设计 95 4-o$OI> 6 细化和合成 97 Sb<=ROCg@ 6.1 优化介绍 97 opBvx>S 6.2 细化 (Refinement) 98 h)w<{/p( 6.3 合成 (Synthesis) 100 r8qee$^M 6.4 目标和评价函数 101 czj[U|eB}= 6.4.1 目标输入 102 kmf4ax
h1 6.4.2 目标 103 Z^sO`C 6.4.3 特殊的评价函数 104 sx9N8T3n 6.5 层锁定和连接 104 (C!fIRY 6.6 细化技术 104 MRs8l 6.6.1 单纯形 105 T+\BX$w/4e 6.6.1.1 单纯形参数 106 N%0Z>
G 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ),n?" 6.6.2.1 Optimac参数 108 V!oyC$eV 6.6.3 模拟退火算法 109 7BC9cS(0w9 6.6.3.1 模拟退火参数 109 <1"6`24 6.6.4 共轭梯度 111 l|DOsI'r 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 *yB!^O 6.6.5 拟牛顿法 112 7Kn=[2J5k' 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 LNj|t)O v 6.6.6 针合成 113 3vy5JTCz~ 6.6.6.1 针合成参数 114 9Y7 tI3 6.6.7 差分进化 114 /%.K`BMN 6.6.8非局部细化 115 sg3%n0Ms.W 6.6.8.1非局部细化参数 115 Z*JZUbo-Q 6.7 我应该使用哪种技术? 116 o;"!#Z 1SJ 6.7.1 细化 116 @x)z" )> 6.7.2 合成 117 1@/+ c 6.8 参考文献 117 >
vgqf>)kk 7 导纳图及其他工具 118 |/q *Fg[f 7.1 简介 118 1j}o.0\ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 VRD2e
,K 7.2.1 四分之一波长规则 119 $u>^A<TBN 7.2.2 导纳图 120 iJ~pX\FKO 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 &fW;;> 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 [}FP_Su$6 7.5 斜入射导纳图 141 Jg7IGU(dct 7.6 对称周期 141 B-o"Y'iXs 7.7 参考文献 142 .[~E}O 8 典型的镀膜实例 143 nuvz!<5\{ 8.1 单层抗反射薄膜 145 uu(.,11` 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 py)V7*CgH 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Am-JB 8.4 W-膜层 148 'A4Lr
8.5 V-膜层 149 ~,ac{%8x 8.6 V-膜层高折射基底 150 @mW0EJ8bb 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 3?2;z+cz*u 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ,"&v |