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*l-Dh: 内容简介
6E)uu; 8 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 mcAH1k e 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
4\ uZKv@, 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 (ffOu#RQ3 {9m!UlTtw 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 Wl9I`Itg 目录 n $D}0wSM/ Preface 1 PV Q#>_~5 内容简介 2 te! ]9rR 目录 i Ivd[U`=Q 1 引言 1 ` $QzTv 2 光学薄膜基础 2 5JXzfc9rL 2.1 一般规则 2 c_D,MW\IC 2.2 正交入射规则 3 `uaD.m$EJ 2.3 斜入射规则 6 B5?c'[V9 2.4 精确计算 7 2V=FWuXC" 2.5 相干性 8 Gdc~Lh 2.6 参考文献 10 8CN7+V 3 Essential Macleod的快速预览 10 g4.'T51 4 Essential Macleod的特点 32 .:|#9%5 4.1 容量和局限性 33 ctwhfS|Y0 4.2 程序在哪里? 33 ],fwZd[t 4.3 数据文件 35 LB64W ;#h 4.4 设计规则 35 >M8^Jgh 4.5 材料数据库和资料库 37 OyG_thX 4.5.1材料损失 38 %$9)1"T0Y 4.5.1材料数据库和导入材料 39 /4wm}g9 4.5.2 材料库 41 J1u@A$4l? 4.5.3导出材料数据 43 EP*["fx 4.6 常用单位 43 8h@)9Q]d\ 4.7 插值和外推法 46 hK9t}NE.O 4.8 材料数据的平滑 50 Xdp`Z'g 4.9 更多光学常数模型 54 YWn6wzu%Vc 4.10 文档的一般编辑规则 55 hq& 4.11 撤销和重做 56 (x@i,Ba@ 4.12 设计文档 57 FRJ:ym=E 4.10.1 公式 58 X'3`Q S:! 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 dWq/)%@t 4.10.3 沉积密度 59 \4`saM /x 4.10.4 平行和楔形介质 60 &d|VH y+ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 )T$fk 4.10.4 性能 61 9-Nq[i" 4.10.5 保存设计和性能 64 9B?t3: 4.10.6 默认设计 64 '#An+;x{ 4.11 图表 64 tr9_bl&z 4.11.1 合并曲线图 67 v[3hnLN% 4.11.2 自适应绘制 68 -XDP-Trk 4.11.3 动态绘图 68 *F%ol;|Q 4.11.4 3D绘图 69 <>5:u 4.12 导入和导出 73 /PB3^d>Q2 4.12.1 剪贴板 73 j
O5:{% 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ~jRk10T(B 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 A86lyBDQ* 4.13 背景 77 E't G5,/m 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 b1['uJF 4.15 生成Rugate 84 ^?S@v1~7d 4.16 参考文献 91 L_zmU_zD 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 Zy+QA>d| 5.1 Jobs 92 i&s=!` 5.2 创建一个新Job(工作) 93 2I(@aB+ 5.3 输入材料 94 #3:'lGBIK 5.4 设计数据文件夹 95 J^+$L"K 5.5 默认设计 95 glKs8^W 6 细化和合成 97 :+dWJNY: 6.1 优化介绍 97 3PR7g 6.2 细化 (Refinement) 98 w2C!>fJ]1 6.3 合成 (Synthesis) 100 z1@sEfk> 6.4 目标和评价函数 101 &t%&l0 6.4.1 目标输入 102 E.Q}
\E 6.4.2 目标 103 pra-8z- 6.4.3 特殊的评价函数 104 j C1^>D 6.5 层锁定和连接 104 !=Kay^J~. 6.6 细化技术 104 U=cWvr65 6.6.1 单纯形 105 d&R\7)0 6.6.1.1 单纯形参数 106 ADl>~3b 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 mX_Uhpw?t 6.6.2.1 Optimac参数 108 =iN_Ug+ 6.6.3 模拟退火算法 109 fz?Wr: I 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Vx4pP$S 6.6.4 共轭梯度 111 bHH}x"d[x 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 PG~m-W+ 6.6.5 拟牛顿法 112 fjZveH0
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 JU2' ~chh 6.6.6 针合成 113 aFc'_FrQ 6.6.6.1 针合成参数 114 nF[eb{GR` 6.6.7 差分进化 114 5J2p^$s 6.6.8非局部细化 115 *[5#g3 6.6.8.1非局部细化参数 115 Fe2-;o 6.7 我应该使用哪种技术? 116 J<$'^AR9"q 6.7.1 细化 116 m4.V$U,H] 6.7.2 合成 117 xXh]z| 6.8 参考文献 117 Z
7ZMu 7 导纳图及其他工具 118 {Ll8@'5 7.1 简介 118 `3s-%> 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Yiw^@T\H` 7.2.1 四分之一波长规则 119 :7;Iy u 7.2.2 导纳图 120 $MEbePxe 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ] j?Fk$C 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 P>,D$-3 7.5 斜入射导纳图 141 E2/U']R 7.6 对称周期 141 ?[fl$EG 7.7 参考文献 142 T-cVM>u\D 8 典型的镀膜实例 143 @3=<wz< 8.1 单层抗反射薄膜 145 uRcuy/CY 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 e&7}N Za 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 &CsBG?@Z| 8.4 W-膜层 148 E0x$;CG! 8.5 V-膜层 149 lVBy&f 8.6 V-膜层高折射基底 150 /OtQk-E 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 w8@|b} 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Fi=8B&j 8.9 四层抗反射薄膜 153 lz5j~t5>Q 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 lxJ.h& |