线上培训(第18期)| ZEMAX 成像设计线上培训

发布:ueotek 2022-07-29 15:30 阅读:841
【课程大纲】 Q+ST8  
_5YL !v&  
01 OpticStudio 软件功能介绍;
02 材料库、镜头库介绍;
03 如何定义新材料;
04 如何使用镜头库;
05 像差理论介绍;
06 Zemax 里像差分析图谱;
07 优化
08 局部优化
09 全局优化;
10 锤形优化;
11 优化函数架构技巧;
12 单透镜优化实例;
13 双胶合优化实例;
14 热分析及衍射光学元件的使用;
15 实例设计及分析;
16 MTF;
17 双高斯镜头设计及优化;
18 像质评价与图像模拟
19 坐标变换;
20 坐标断点面的使用技巧;
21 序列模式棱镜建模; O,1u\Zy/  
22 扫描反射镜设计实例;
E.% F/mM  
23 柯勒照明综合设计实例; 7iJk0L$]x  
24 投影系统设计; \&qVr1|  
25 集光系统设计; r@<;  
't_=%^ q  
26 暗盒系统介绍; ;09J;sf  
27 分析工具应用; ~ pdf'  
28 寻找最佳非球面; {}^ELw  
29 曲率套样板; }w]xC  
fAUsJ[  
30 镜头匹配工具; qK1V!a2  
31 Zemax 公差分析功能介绍; |~CnELF)  
32 加工误差、装配误差; K((Kd&E  
33 灵敏度分析; d<b,LD^  
34 反灵敏度分析; 6$dm-BI  
35 蒙特卡罗分析; h+^T);h};|  
/eMZTh*1P  
36 公差评价标准; o%9>elOju  
37 公差操作数; g4$%)0x%  
38 补偿变量的使用; nG*6ic  
39 单透镜公差分析; fY"28#   
E;d 5$  
40 库克镜头公差分析; eB@i)w?@o  
41 分析报告查看说明; V= *J9~K  
42 公差脚本的使用; |8`;55G  
43 镜头出图、CAD 出图; 7VXeu+-P  
44 小结及答疑。
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v#+w<gRq  
l{a&Zy)  
02【课程信息】 i }g xq  
G-^ccdT  
主办单位:武汉宇熠科技有限公司 yl ;'Ru:  
.}<B*e=y  
培训主题:Zemax 成像设计 .M{[J]H`t  
培训形式:线上培训 Y)*lw  
培训时间:2022年8月27~28日 (9:00-17:00;周末两天) 9cmJD5OO  
培训费用:¥ 1980元 / 人 udZ: OU<  
(三人及以上组团报名可享八折优惠)、 enzQ}^  
报名方式:扫码报名
bv4cw#5z$9  
bg*{1^  
注:为了让大家能有更多的机会参与我们的线上直播课程,武汉宇熠即将开展 周末 线上培训,以便工作日没有时间来看直播的朋友们也能够参与进来,与老师和学员们交流经验。
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