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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 JY4sB8 8RS=Xemds
Lw EI ]+RBykr 任务说明 hiKgV|ZD @SA:64
9 }F'B!8n 5c*kgj:x 简要介绍衍射效率与偏振理论 'urn5[i 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 dD _(MbTt 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: uh`W} n rv/O^aL`Y 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 W10=SM} 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: tE"aNA#= @"[xX}xK; 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 )@"iWQ3K 7`,A]":; 光栅结构参数
%W!C 研究了一种矩形光栅结构。 ]F:5-[V# 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 nSWW^ ; 根据上述参数选择以下光栅参数: ,'~8{,h5 光栅周期:250 nm *$uj)*5, 填充因子:0.5 Er; @nOyD 光栅高度:200 nm tBSHMz 材料n_1:熔融石英(来自目录) y_bb//IAG 材料n_2:二氧化钛(来自目录) i|zs
Li/ |TCHPKN *`
}Rt .<Y7,9;YEF 偏振态分析 {Vy2uow0 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 Gt9(@USK 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 YKF5|;} 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 !?t#QDo bDh,r!I B J,U,! "YY6_qQR' 模拟光栅的偏振态 FbxrBM p$r=jF&
/b3b0VfF nW1Obu8x| 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: k+8K[?K- 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 Gj Ds,9@f 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 !/pE6)a 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 JO*}\Es v6r,2Va/ Passilly等人更深入的光栅案例。 M<'AM4 Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 #SNwSx& 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 ruMS5OqM 4`(b(DL]
M'Ec:p=X" (of=hzT^? 光栅结构参数 P+tnXT>nE 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 l/|bU9o /u 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 "P4#Q_ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 |3tq.JU 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 {(o$? =
x8L$T (^ ][Ne;F6 光栅#1——参数 OMaG*fb= 假设侧壁倾斜为线性。 AF-4b*oB 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
{*EA5; 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 ZbS*zKEW 光栅周期:250 nm `tmd' 光栅高度:660 nm E_t ^osY& 填充因子:0.75(底部) :Taequk 侧壁角度:±6° (_2;}eg n_1:1.46 Yo`#G-] n_2:2.08 GwHp@_> 0FL PZaRP
^SdorPOq& lO?dI=}] 光栅#1——结果 r!DUsE 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 2(5HPRQ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 } v#Tm J<[Hw g
Tyc`U& $@H]0<3, 光栅#2——参数 Ni"M.O);t 假设光栅为矩形。 6rBXC <Z 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 y81B3`@ 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 Rh%c<</`0s 光栅周期:250 nm &f2'cR 光栅高度:490 nm 5e> <i 填充因子:0.5 U_1syaY! n_1:1.46 .?C-J n_2:2.08 }p2YRTH x U9uy(KOW v61'fQ1Qg! @Yv+L) 光栅#2——结果 ^ Tr )gik 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 xy/B<.M1 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 -+#QZ7b :E$<!q Sdk:-Zuv w_O3];
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