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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 yvKKE ~^"s.Lsb
vtf`+q DUu~s,A 任务说明 tumYZ)nW 7
[?]DyOf I-|1eR+3 e{IwFX 简要介绍衍射效率与偏振理论 C Z/:(sOJ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 Q!}LtR$ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: ^Jn=a9Q6Z EN2/3~syO- 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 -D,kL 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: 5B+I\f& P}bw Ej 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 Gw}b8N6E zRF+D+ 光栅结构参数 H}&4#CQ'! 研究了一种矩形光栅结构。 RB/;qdqR 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 a6.0$' 根据上述参数选择以下光栅参数: '9q:gFO 光栅周期:250 nm {,CvWL 填充因子:0.5 6I$:mHEhd 光栅高度:200 nm GxcW^{; 材料n_1:熔融石英(来自目录) ?$rHyI 材料n_2:二氧化钛(来自目录) m^ [VM&% "+KAYsVtU 5QJFNE Z%O>|ozpq 偏振态分析 !mRDzr7 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 )1S"D~j- 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 q| 7$@H^* 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 &IgH]?t Nc[V kJ] SI@Yct]<g b R;Wf5 模拟光栅的偏振态 CaqMLi% qz/d6-0"
b&Go'C{p Y!L<&
sl 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: Wc-8j2M 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 Stxrgmu 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。
66s h r 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 `tZ`a "jG-)k`a Passilly等人更深入的光栅案例。 04cNi~@m Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 1brKs-z 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 dX:#KdK %G>V .d
&C7HG^;W9 rCdf*; 光栅结构参数 1$G'Kg/ 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 G`r*)pdm 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 uA2-&smw 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 nH^RQ'19 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 $*i"rlJC
5!)_"u3 esVZ2_eL 光栅#1——参数 d8Kxtg
Y 假设侧壁倾斜为线性。 /*yPy? 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 fKZgAISF 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 [e+$jsPl 光栅周期:250 nm :Y ;\1J<b1 光栅高度:660 nm mjz<,s`D 填充因子:0.75(底部) r 2L=gI 侧壁角度:±6° GBsM?A: n_1:1.46 ;BMm47< n_2:2.08 &BDdJwE Bpw<{U
"G`8>1tO_ +B0G[k7 光栅#1——结果 !HP/`R 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 {<3>^ o|" 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 Yi+~}YP.E( !p~K;p,
8fwM)DKS #Qp.O@e 光栅#2——参数 M :Aik& 假设光栅为矩形。 W=k%aB?p 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 /Aq):T T 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 ?hQ,'M2 光栅周期:250 nm GxIw4m9 光栅高度:490 nm [d_sd 填充因子:0.5 GI:$(< n_1:1.46 cOr@dUSL n_2:2.08 Z|kMoB 8?7gyp!k_f =':,oz^| q;V1fogqI) 光栅#2——结果 4U*uH 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 HjFY>(e 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 k5@_8Rc tyLR_@i%% 9#;UQ.qA rGe^$!QB
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