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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 yZd +^QN s.EI`*xylY
2`.cK 3 X$%' 任务说明 D@C-5rmq $r@
=*( z,|r*\dw YgKZ#?* 简要介绍衍射效率与偏振理论 g!cUF+ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 c _\YBe]wJ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 9s_vL9u L9-h;] x! 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 2*rH?dz8E 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: g"Ljm7 Qg^cf<X{i 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 k-Q%.o z+
s6)Ad 光栅结构参数 KuWWUjCE 研究了一种矩形光栅结构。 Yaj0;Lo[wt 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 0fc/wfv< 根据上述参数选择以下光栅参数:
h1:aKm! 光栅周期:250 nm "ZHW2l Mf 填充因子:0.5 Cv
}Qwy 光栅高度:200 nm ktI/3Mb@ 材料n_1:熔融石英(来自目录) Xf0M:\w=M 材料n_2:二氧化钛(来自目录) - *F(7$ YNYx>Ue ,PlO8;5] 4!$s}V=6 偏振态分析 NxSu3e~PS 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 :z}MIuf 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 %509\;el 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 I[b}4M6E #G|qD Tskq)NU )q0. 0<f 模拟光栅的偏振态 ur*T%b9& 5'0xz.)!
U ?'vXa A3vUPWdDk 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: |M8WyW 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 d\ %WgH 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 &GNxo$CG 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 jlp:lX xAafm<L@! Passilly等人更深入的光栅案例。 aqYa{hXio Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 >*@y8u* 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 f?oa" c;{Q,"9U
N+zKr/ ;WgJ<&33 光栅结构参数 ub7zA!% 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 DKfE.p) 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 *"WDb|PBb 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 cKN$ =gd 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 vgD {qg@
[v$0[IuY, D,;\o7V 光栅#1——参数 !E,A7s 假设侧壁倾斜为线性。 mK[)mC
_8 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 994`ua+ 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 M(RZ/x 光栅周期:250 nm OS4q5;1# 光栅高度:660 nm \
W?R 填充因子:0.75(底部) e?`5>& Up 侧壁角度:±6° Ob}?zl@ n_1:1.46 4%2~Wi8 n_2:2.08 =1O<E 8i|w(5m;
v$(lZa1 \ {qI4= 光栅#1——结果 u\LiSGePN 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 GM<BO8Y. 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 5nTY ?<x`k w^L ta
&ZghMq~ "VkTY|a 光栅#2——参数 CNQC^d\ h 假设光栅为矩形。 pWPIJ>2G: 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 Ct2j ZqCDo 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 zUkN 0 光栅周期:250 nm $={:r/R`i 光栅高度:490 nm lY~4'8^ 填充因子:0.5 ymegr(9&K n_1:1.46 Dq36p${\W n_2:2.08 "jTKSgv+q5 /&CmO>^e Dfps
gY)/? ~/ 8M 3k/ 光栅#2——结果 $U$V?xuE 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 h Ggx 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 <'fdkW qOSg!aft{Q @g2cC !(n4|Wd
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