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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 @v:p)|Ne; Z(~v{c %<
/:BM]K o 9?#;B$ 任务说明 EN\
uX! }O7!>T +~ZFao qf f ^vz 简要介绍衍射效率与偏振理论 v}>5!* 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 &_Vd 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: Ok*aP+Wq u A=x~-I 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 HOY@<' 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: vgyv~Px]AW LQr+)wI 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 (Y[q2b @D3|Ak 1 光栅结构参数 asLvJ{d8s 研究了一种矩形光栅结构。 /Y7YyjMi 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 aj\
zc I 根据上述参数选择以下光栅参数: IXJ6w:E 光栅周期:250 nm :krdG%r 填充因子:0.5 b-Uy&+:X*d 光栅高度:200 nm V`,tu `6 材料n_1:熔融石英(来自目录) ?Z{:[. 材料n_2:二氧化钛(来自目录) c_RAtM<n aR@s.
ll ]?/7iM $HE ?B{ 偏振态分析 'xn3g ;5 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 \0'0)@uziQ 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 ky^u.+cZ 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 ymr#OP$<S /bBFPrW ^j)0&}fB aEJds}eE6) 模拟光栅的偏振态 sDF5 nN|1cJ'.Fk
2(%C :TTZ@ q 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: "6}
#65 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 Ic,V,#my 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 $ Lf-Gi 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 fdCN?p[_ @*s7~:VQ Passilly等人更深入的光栅案例。 "n
Zhuk Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 ]
1:pnd 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 !}$,) ~<+H +|OrV'
jykY8;4 3R|C$+Sc 光栅结构参数 A@HCd&h 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 @4EC z>Q 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 /E|Ac&Qk 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 5N'Z"C0 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 sm1(I7y
J-3%.fX, >kN%R8*Sx
光栅#1——参数
I"Gr <?r 假设侧壁倾斜为线性。 /"LcW"2;N 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 k5X& |L/ 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 D)my@W0, 光栅周期:250 nm { :~D 光栅高度:660 nm 5[\LQtM 填充因子:0.75(底部) h,u?3}Knnb 侧壁角度:±6° {:!CA/0Jx n_1:1.46 teDO,$ n_2:2.08 8E:d!?<^&I F\"`^`(O
Bf-KCqC". l^,"^vz 光栅#1——结果 'A}@XGE:p 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 p\&Lbuzv 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 O,+ZD^ }wkZ\q[
XzH"dDAVE kTQvMa-X9D 光栅#2——参数 t R(Nko 假设光栅为矩形。 o[ua$+67E 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 {;T7Kg.C 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 /ivA[LSS 光栅周期:250 nm ;xKPa6`E 光栅高度:490 nm p+pBk$4 填充因子:0.5 Vw~st1",[ n_1:1.46 )rce%j7 n_2:2.08 \dzHG/e %x2_njDd },W<1*| 1q Jz;\wU 光栅#2——结果 l2lyi
这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 `Zm-F 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 =OUms@xcE nR2pqaKc 2xx [Jjb<6[o
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