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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 i"mN0% 3T^f#UT
l"^'uGB'
S]&f+g}&w 任务说明 o))z8n?b 8qGK"%{ ~ tE3#Uq %+gYZv- 简要介绍衍射效率与偏振理论 #DK@&Gv 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 9jq}`$S{ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: &nkYJi(! ;hb;%<xqT 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 R6l`IlG` 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: QND{3Q .l?sYe64S 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 J%ng8v5ex -xs@rV` 光栅结构参数 91%QO?hz 研究了一种矩形光栅结构。 ,aOi:aaZRT 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 "ee:Z_Sz 根据上述参数选择以下光栅参数: zOJ4I^^ 光栅周期:250 nm dsck:e5agZ 填充因子:0.5 3cfJ(%'X 光栅高度:200 nm PyQt8Qlz 材料n_1:熔融石英(来自目录) vN#?>aL 材料n_2:二氧化钛(来自目录) MLwh&I9) K|JpkEw |a9d]^ fA"N5qQI( 偏振态分析 $yxwB/ O( 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 }e$^v*16 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 tt5t(+5j 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 ipzv]c& |f5WN&c 6S]K@C=r zq]I"0Bi. 模拟光栅的偏振态 :/YHU3 ~Y [Q"*I2&
7A:k wEd+Ds]$ 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: %siBCjvo= 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 |v,%!ps 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 Ff6l"A5 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 dy/\>hu r{NCI Passilly等人更深入的光栅案例。 ogD 8qrZ6J Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 %f[0&)1!.v 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 581Jp'cje %L;z ~C
iCd$gwA>F &CP0T:h 光栅结构参数 o[=h=&@5p 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 _:dt8+T# 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 vG E;PwR 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 pXn(#n< 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 ,uz+/K%OA5
i'XW)n /%qw-v9qPV 光栅#1——参数 ;B Lw?kf 假设侧壁倾斜为线性。 Nf@-i` 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 * AsILK0 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 *[XVkt`H 光栅周期:250 nm ?
2#tIND 光栅高度:660 nm w4:|Z@ I 填充因子:0.75(底部) wY$'KmNW 侧壁角度:±6° :Q\Es:y n_1:1.46 m.:2G n_2:2.08 |76G#K~<X d}d1]@Y\
<]:X }uZtAH| 光栅#1——结果 o`tOnwt 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 7E0L-E=. 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 n,,hE_ 4k$i:st;
"6^~-`O QmHj=s:x\ 光栅#2——参数 $!?tJ@{ 假设光栅为矩形。 B7'rbc' 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 %R?B=W7;Q 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 x6n( BMr 光栅周期:250 nm !UzMuGj 光栅高度:490 nm QaVxP1V#U 填充因子:0.5 kdq<)>" n_1:1.46 /5**2Kgv1 n_2:2.08 62-,!N 1- <^+x}KV I ,Wbr;
zb {pWb*~!k 光栅#2——结果 ^<$$h 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 g$^:2MT"aQ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 $Gy& ?'xwr)v H$@5\pP> 7%MD0qm-
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