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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 ENA"T-p BQ,749^S
gr!!pp; 0WZd $ 任务说明 3 q8S 0T@axQ[% +i /4G.=* ME>Sh~C\ 简要介绍衍射效率与偏振理论 {qSMJja !t 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 )~xH!%4F 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: x*j
eCD, RHd no C 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 "J&WH~8+N 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: T#e|{ZCbq !mVq+_7] 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 .i;?8? ]T40VGJ:h 光栅结构参数 kTzO4s? 研究了一种矩形光栅结构。 4F -<j! 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 r_8;aPL 根据上述参数选择以下光栅参数: vEE\{1 光栅周期:250 nm /A>nsN?:] 填充因子:0.5 [\ 0>@j}Z 光栅高度:200 nm 3*?W2;Zw$ 材料n_1:熔融石英(来自目录) .|P
:n' 材料n_2:二氧化钛(来自目录) Rw63{b/ h`v T[u~l Te3 ?z c[3x>f0 偏振态分析 [Ak0kH> 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 C%%gCPI^y 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 i}f" 'KW 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 0Bkc93 l"h6e$dP Fo0s<YlS- V<}chLd, 模拟光栅的偏振态 Q4L7{^[X Q7zpu/5?
NTGWI$ _K!)0p 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: ~XXNzz]? 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 AYsHA w 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 g^#,!e 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 #N"QTD|i O"X7 DgbC Passilly等人更深入的光栅案例。 pFBK'NE Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 m}beT~FT_ 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 4kK_S.& zDxJK
E8lq2r= p&2d&;Qo0 光栅结构参数 Lv)1
)'v0 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 LOwd mj 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 ]Ee$ulJ02 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 pz{ ]O_px 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 bq8h?Q
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BS gTLBR 光栅#1——参数 puh-\Q/P 假设侧壁倾斜为线性。 I,Jb_)H&t 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 EAC I> 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 jnM}N:v 光栅周期:250 nm SC3_S. 光栅高度:660 nm ^ME'D 填充因子:0.75(底部) * vqUOh 侧壁角度:±6° S`TQWWQo; n_1:1.46 >oi?aD% n_2:2.08 z$ {[Z= nYBa+>3BDf
niyxZ<Z PH^Gjm 光栅#1——结果 }Q6o#oZ 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 : Hu{MN\ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 #D ]CuSi )tS;gn
U?5G%o(q m !i`|]m 光栅#2——参数 /*M3Ns1@2 假设光栅为矩形。 \#N? 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 e:rbyzf# 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 5e?<x>e 光栅周期:250 nm _S-@|9\ 光栅高度:490 nm ['K}p24, 填充因子:0.5 =u.23#. n_1:1.46 }iUpBn n_2:2.08 rP!GS
_RG :"@-Bcln =NNxe"Kd;U W|s";EAM 光栅#2——结果 *=T(ncR[' 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 NQvI=R-g 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 EP+LK?{% % w |TR
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