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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 8b"vXNB.f cTja<*W^xv
OIs!,G| g;~$xXn 任务说明 &})Zqc3Lqk G0u
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p zBd] e7yn"kd 简要介绍衍射效率与偏振理论 DfjDw/{U3L 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 BPSie0 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: YF(bl1>YC zmg
:Z p= 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 0HI0/Tvu$< 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: =, 64Qbau 4D[(X=FSU 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 8iPA^b|sz{ &8dj*!4H 光栅结构参数 qFp]jbU 研究了一种矩形光栅结构。 r*c x_** 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 s(:N>K5* 根据上述参数选择以下光栅参数: S]ed96V v 光栅周期:250 nm .7HEI;4 填充因子:0.5 *|,ye5" 光栅高度:200 nm WtlLqD!_D 材料n_1:熔融石英(来自目录) bSW~hyI w 材料n_2:二氧化钛(来自目录) x|*m ok / &em%/ U9XOs)^ Ny$N5/b!! 偏振态分析 +.a->SZ5" 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 ?'si^N 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 8aY}b($*ZI 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 M1eM^m8U >&JS-jFg L4<=,}KS brdY97s4 模拟光栅的偏振态 ^qtJcMK+hq km,@yU
^@$T>SB1 acI%fYw5p` 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: /~+j[oB 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 C}71SlN'M 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 Y+C6+I<3 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 +
7nA; C eMjW^-RgE5 Passilly等人更深入的光栅案例。 RaA7 U Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 ~,{nBp9* 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 8*sP h@{CMe
W3xObt3w\ /<\do 1 光栅结构参数 +2m\Sv V 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 Cp]q>lM" 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 ~Dj_N$_+9 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 O/ZyWT 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 ?V})2wwP
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\7q>4[ 光栅#1——参数 m</nOf+C 假设侧壁倾斜为线性。 \P9HAz'6 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 Ns-3\~QSi 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 eSSv8[u 光栅周期:250 nm rlkg.e6 光栅高度:660 nm 2w:cdAv$ 填充因子:0.75(底部) %M-B"#OB7 侧壁角度:±6° Es+BV+x[.c n_1:1.46 T]?QCf n_2:2.08 CQ#%v% vH vwH
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K}j[D PxgLt2dXa 光栅#1——结果 {pEbi)CF,} 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 oBzjEv 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 vU,
]UJ} u )KtvC!
S.NLxb/ g/ x\#W 光栅#2——参数 m>-(c=3 假设光栅为矩形。 q}%;O
>Z 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 &;oWmmvz{ 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 0V?:5r< 光栅周期:250 nm H3jb{S
b 光栅高度:490 nm 8(0q,7)y 填充因子:0.5 ]73BJ n_1:1.46 3gY4h*|`< n_2:2.08 GA@Zfcg ahm@ +/2 m_r_4BP %-~T;_. 光栅#2——结果 }&Jml%F4uR 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 P6o-H$
a+ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 w7X], auRC DmgWIede|: 6"U)d7^ [)83X\CO
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