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    [技术]衍射级次偏振态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-06-27
    光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 oA`Ncu5  
    ofsua?lSe  
    I6\ l 6o  
    :[! rj  
    任务说明 uV{cvq$jy  
    znD0&CS9q  
    >[NNu Y~  
    ?z p$Wz;k  
    简要介绍衍射效率与偏振理论 Ak&eGd$d  
    某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 aR+vY1d"  
    如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: ^k/@y@%  
    ~ #Vrf0w/  
    其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 YDO#Q= q%  
    如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: 2e#hJ-/`-  
    ]v$VZ '  
    因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 J&2cf#  
    *$Bx#0J8  
    光栅结构参数
    .*i.Z   
    研究了一种矩形光栅结构。 w_PnEJa9  
    为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 b@"#A8M  
    根据上述参数选择以下光栅参数: +uLl3(ml  
    光栅周期:250 nm }mz@oEB#vF  
    填充因子:0.5 m>DBO|`  
    光栅高度:200 nm Xnpw'<~X  
    材料n_1:熔融石英(来自目录) K8daSvc  
    材料n_2:二氧化钛(来自目录) 274F+X  
    vjmNS=l  
    H+6+I53  
    PVLLuv  
    偏振态分析 lXjhT  
    现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 yp9vgUs  
    如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 )lwxF P;  
    为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 "w7wd5h  
    k> SPtiAs  
    t}w<xe  
    +XMKRt  
    模拟光栅的偏振态 y<|8OTT  
    n|q $=jE  
    Xw)W6H|  
    Tmjcc(  
    瑞利系数现在提供了偏振态的信息: fAYp\ k  
    在圆锥入射角为0(𝜑=0)时,。这说明衍射光是完全偏振的。 T uG%oV}   
    对于𝜑=22°,。此时,67%的光是TM偏振的。 WCRGqSr4  
    对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 m#|;?z  
    -Ph"#R&  
    Passilly等人更深入的光栅案例 m?GBvL$  
    Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 3e,"B S)+  
    因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 Q!.JV. (  
    r^zra|]  
    C)hS^D:  
    1K\z amBg  
    光栅结构参数 #l 7(W G  
    在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 Op<,e{[]  
    由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 ]?c9;U  
    由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 ZW>iq M^9  
    但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 v-(dh5e` H  
    cfSQqH  
    n~_;tO  
    光栅#1——参数 ]Ub"NLYV  
    假设侧壁倾斜为线性。 }-/oL+j  
    忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 f9$8$O  
    为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 4m1@lnjp  
    光栅周期:250 nm 'u}OeS"f  
    光栅高度:660 nm N||a0&&  
    填充因子:0.75(底部) MMU>55+-  
    侧壁角度:±6° 6v?tZ&, G  
    n_1:1.46 :6TLT-B  
    n_2:2.08 !:2_y'hA  
    b]5/IT)@O  
    #kQ1,P6,(  
    =j^>sg]  
    光栅#1——结果 bUU\bc  
    这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 t9~Y ?  
    与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 cB0"vbdO  
    y3@m1>]09  
      
    I+eKuWB  
    !,<rW<&;  
    光栅#2——参数 &0x;60b  
    假设光栅为矩形。 Uc<BLu;  
    忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 @Ta0v:Y  
    矩形光栅足以表示这种光栅结构。 g|Xjw Ti8$  
    光栅周期:250 nm IE:;`e:\D  
    光栅高度:490 nm Ve\.7s  
    填充因子:0.5 lk4U/:  
    n_1:1.46 7hlzuZob+y  
    n_2:2.08 TUN6`/"  
    D4jZh+_|S  
    Esdv+f}4;  
    wd*V,ZN7  
    光栅#2——结果 +<Y1`kV)  
    这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 +8}8b_bgH  
    与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 B-p ].  
        Il]p >B  
    /"@k_[O  
    Lvb'qZ6n  
     
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    只看该作者 1楼 发表于: 2022-07-20
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