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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 > f*-9 h; "pAE
L4t(Y7 xMr=tU1C 任务说明 RE%25t| uy'qIq
/Y#Q<=X D_)N!,i 简要介绍衍射效率与偏振理论 7zcmv"` 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 l&Cy K#B:\ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: %+: $uk[ mTU[khEmL= 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 \`oP\|Z 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: VYw<8AEFY LFX[v 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 Y~Z&h?H'} '(fzznRH 光栅结构参数 qp{3I("_ 研究了一种矩形光栅结构。 ZuNUha&a 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 *bl|[(pP 根据上述参数选择以下光栅参数: ,~G:>q$ad 光栅周期:250 nm K
+l-A>Ic 填充因子:0.5 "UUoT 光栅高度:200 nm ,:6.Gi)| 材料n_1:熔融石英(来自目录) Sah!|9 材料n_2:二氧化钛(来自目录) u$rSM0CJ a^eR~efdu@ O^DLp/vM 2UeK%-~W? 偏振态分析 OIY 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 kk$D:UQX 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 qoAJcr2uN 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 4K0Fc^- IO{iQ-Mg -?L3"rxAP R@
MXwP 模拟光栅的偏振态 sB=s .`9 l(Y\@@t1
!N74y%=M z0 J:"M 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 30{+gYA 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 TeHxqWx 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 T!1Np'12zF 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 nn8uFISb ekCt1^5Y Passilly等人更深入的光栅案例。 G7k.YtW Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 :v%iF!+.P 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 I|tn7|*-A[ {4B7a6
9Idgib& d(q2gd@ 光栅结构参数 0Ci:w|J 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 %:.IG.`d 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 nnuJY$O;M 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 6.M!WK{+ 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 ^:2>I $
97n,^t2F\ 9=9R"X>L 光栅#1——参数 fO}Y$y\q 假设侧壁倾斜为线性。 uiq;{!dop 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 rW[7
_4 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 I@uin|X 光栅周期:250 nm ksV^Y=] 光栅高度:660 nm i)[~]D.EH8 填充因子:0.75(底部) Z9UNp[0 侧壁角度:±6° n:[LsbTk n_1:1.46 @O| lA n_2:2.08 x?2y^3<5 4~e6z(
}b/G{92 $Hal] 光栅#1——结果 f/pr 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。
fYzZW 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 #4{9l
SbU =%0r_#F%=
.]BJM?9 2^fSC`! 光栅#2——参数 ~c|{PZ9U 假设光栅为矩形。 D1~3 3; 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 KTjf2/ 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 L7B(abT9e 光栅周期:250 nm PHqIfH [ 光栅高度:490 nm JDm7iJxc_ 填充因子:0.5 '
4Kf n_1:1.46 xmwH~UWp n_2:2.08 htHnQ4Q +"D*0gYD 0BQ< a r8vF I6J 光栅#2——结果 H:`[$
^ 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 vDVE#Nm_ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 c{cJ>d 0 Ng1uJa[k!d 'fIirGOl e]u3[ao
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