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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 ut>4U'.H b}T6v
iX'rU@C #jAqra._b 任务说明 mh<=[J,%p Rwr 2gMt7 *lef=:&,, axHK_1N{ 简要介绍衍射效率与偏振理论 ZEYgK)^ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 X7,PEA 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: =%zLh<3v >5R<;#8 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 i,13b
e 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: ]"c+sMW tO_H!kP 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 }HE6aF62O y9#$O(G 光栅结构参数 {0! ~C=P 研究了一种矩形光栅结构。 `mye}L2I 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 Qu,8t8 根据上述参数选择以下光栅参数: a[lY S{ 光栅周期:250 nm OD Ur 填充因子:0.5 .^$YfTabq 光栅高度:200 nm !v]b(z`Y 材料n_1:熔融石英(来自目录) FWH}j0Gj| 材料n_2:二氧化钛(来自目录) ^m_yf|D$ X=8Y% _C\[DR0n IrMl:+t\ 偏振态分析 yL;M"L 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 z} '! eCl 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 H3{GmV8 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 1<ro7A4hK y*{Zbz#{ r_EcMIuk *5<Sr q' 模拟光栅的偏振态 3]-_q"Co4f (Qgde6
T5Dw0Y6u, iCP/P% 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: =h(W4scgqX 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 IlX$YOf4 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 #d{=\$= 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 iqnJ~g %AOIKK5 Passilly等人更深入的光栅案例。 `IYuz: Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 0J.dG/I% 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 ?S?2 0 Wlh~)
:Q+5,v-c Ifk#/d 光栅结构参数 ,Ma.V\T[ 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 1Y_w5dU 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 X0{/ydGF8 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 @H !$[m3 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 zo;^m|
C0=9K@FCb 5unG#szq 光栅#1——参数 Q4t(@0e} 假设侧壁倾斜为线性。 ;M]C1!D9# 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 `RMI(zI3g. 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 >r &;3:" 光栅周期:250 nm }AZc8o- 光栅高度:660 nm UZ8?[ 填充因子:0.75(底部) EL3|u64GO 侧壁角度:±6° OdMO=Hy6d n_1:1.46 wOB azWa n_2:2.08 .I3?7 b'zR 9V
HaA1z}?n Y+/JsOD 光栅#1——结果 %hlspI(J 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 \b[9ebME 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 \yrisp#` X\p,%hk \
(2?G:+C 7 k
{- 光栅#2——参数 P7B:%HiAx 假设光栅为矩形。 1
4LI5T 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 p}Fs'l?7Rq 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 [NnauItI 光栅周期:250 nm HG/p$L* 光栅高度:490 nm F>]#}_ 填充因子:0.5 G0n'KB n_1:1.46
Lw1T 4n n_2:2.08 c41: !u^ /8@m<CW2Y 3E}EBJLsZ !#wd Ve_( 光栅#2——结果 H* !EP 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 s!/TU{8J 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 7iuQ9q^& df+t:a `ir3YnT+ iq?#rb P#I
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