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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 Yk(NZ3O @Z"QA!OK~c
Q&\ZC?y4 89 _&X[X 任务说明 Ly@U\%. \z(>h& k
i~Raa/e "i;*\+x 简要介绍衍射效率与偏振理论 zW|$x<M^ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 h5h-}qBA 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: y}.y,\S0 ?)i6:76( 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 UFSEobhg&5 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: >EPaZp6 lk5_s@V
l 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 B{=,VwaP_ 0O@[on;Bd 光栅结构参数 0ll,V 研究了一种矩形光栅结构。 ulJ+:zwq$ 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 @pyA;>U 根据上述参数选择以下光栅参数: cHfK-R 光栅周期:250 nm ?Vb=4B{~ 填充因子:0.5 = m!! 光栅高度:200 nm X F0*d~4 材料n_1:熔融石英(来自目录) )[a?J, 材料n_2:二氧化钛(来自目录) .>cL/KaP lUm}nsp=X ^+.e5roBKj oQE_?">w 偏振态分析 7ipY*DT8 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 ?L.p9o-S0 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 p)AvG; 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 aG8;,H=%, 2n\i0?RD ]Y/pSwnV dRarNW 模拟光栅的偏振态 [K^q:3R Nc^b8&
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*8(t y%5F0 X]f#w 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: \p_8YC 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 ~=aI2(b 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 QyBK*uNdV 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 $(!D/bvJ wHDFTIDI Passilly等人更深入的光栅案例。 e=NQY8? Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 Z2Y583D 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 <CdG[Ih omDi<-
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Q!g!xz #gr+%=S'6C 光栅结构参数 mYU dh L^ 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 i(TDJ@} 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 A1&>L9nUx 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 oBGst t@ 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 jTxChR
m$G?e9{ qhHRR/p 光栅#1——参数 B[k+#YYY 假设侧壁倾斜为线性。 &bRxy`ZH 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 =.3P)gY) 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 T[2f6[#[_ 光栅周期:250 nm 4FP~+ 光栅高度:660 nm e#Zf>hlAz 填充因子:0.75(底部) NU6Kh7 侧壁角度:±6° 9jJ/ RX p n_1:1.46 r5$?4t n_2:2.08 ^#6%*(D TW;;OS[
\/e*quxx g{f>jd 光栅#1——结果 Hi 0df3t 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 77[;J 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 F(kRAe; kJ5?BdvM&
@):NNbtA M`,Z#)Af 光栅#2——参数 oKqFZ,m[ 假设光栅为矩形。 8 H"f9S=K 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 P+c Fp7nC 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 h[v3G<C ~r 光栅周期:250 nm jnLo[Cf,H8 光栅高度:490 nm JnKbd~ 填充因子:0.5 X9BBnZ n_1:1.46
i{x0#6_Y n_2:2.08 9tW.}5V B*~Bm. IgnY*2FT M:q;z( 光栅#2——结果 Q)i`.mHfFI 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 5WNRo[`7 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 2\8\D^ jm!C^5! 'f<_SKd NGeeD?2~
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