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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 ,_jC$ !KcWH9
.2.qR,"j PWH^=K 任务说明 1<.5ub*i4
?CP2AK mN*?%t ESTM$k}X
简要介绍衍射效率与偏振理论 A%u_&a}
某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 7(bQ}mHl\ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: O0T/#<Cn! }#1/fok 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 yb2}_k.JG 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: :^i^0dC jVO{$j 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 Y9Z]i$qS&k d(-EcY>? 光栅结构参数 !R'g59g
研究了一种矩形光栅结构。 VT\"q1)p 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。
?>$l 根据上述参数选择以下光栅参数: 6cz/n8M g 光栅周期:250 nm +D&Pp0xe 填充因子:0.5 >|g?wC}V; 光栅高度:200 nm a~PK
pw2% 材料n_1:熔融石英(来自目录) *nC(-(r:J` 材料n_2:二氧化钛(来自目录) j+rG7z){K ml6u1+v5 WBr59@V GIyF81KR 3 偏振态分析 Vi*e@IP/ 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 -TO\'^][X 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 [;A[.&6 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 :nA.j"@ !4(zp;WY^
=-"c*^$] dY(;]sxFr 模拟光栅的偏振态 .fAv*pUzU aC%&U4OS
r)^vO+3u kV;fD$iW; 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: k*?I>%^6#T 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 c!#:E` 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 KC`q#&dt 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 G2Vv i[c kD5!}+y Passilly等人更深入的光栅案例。 I_1e?\ Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 rHjq1-t 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 piy`zc-yu *=AqM14 @
>w+HHs/$wK 30>3 !Xqa 光栅结构参数 #P<N^[m 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 8NBT|N~N 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 CVNj-&vj 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 S35~Cp 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 \xv;sl$f
e:'?*BYVg3 XI<L; 光栅#1——参数 8[vc?+>& 假设侧壁倾斜为线性。 R:X0'zeRr 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 f>`dF?^6 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 #@HF<'H}mu 光栅周期:250 nm i4JqT \q 光栅高度:660 nm V!v:]E 填充因子:0.75(底部) ':{>a28= 侧壁角度:±6° /!h;c$ n_1:1.46 NIdZ n_2:2.08 WOzf]3Xcj [AMAa]^
>NYW{(j [e[<p\] 光栅#1——结果 BTgG4F/) 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 I[)% , jd 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 KlRr8G!Z ;X*cCb`h
'3zc|eJt& P3$Q&^? 光栅#2——参数 8J$|NYv_b 假设光栅为矩形。 1`ayc|9BR 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 PB;eHy 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 1-lu\"H` 光栅周期:250 nm %_ !bRo 光栅高度:490 nm UMAgA!s 填充因子:0.5 -f*P
nxg n_1:1.46 _ODbY;M n_2:2.08 _S>JKz QQWadVQo lpz2 m\ 'Ut7{rZ5 光栅#2——结果 0lhVqy}:}o 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 89r DyRJ; 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 /p8dZ+X %CK^Si%+ ZK>WW BNL;Biyt7
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