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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 5f*_K6 ,v "<iH8MzZ
p#$/{;yy syw1Z*WK 任务说明 1GYZ1iA P)vD?)Q q%sZV> HPphTu}` 简要介绍衍射效率与偏振理论 3m>YR-n$ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 NzT
&K7v 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: Jxvh; ||:>& 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 >eTbg"\ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: =gj?!d` gKh*q. 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 =mYf]
PIX BgXZr,? 光栅结构参数 FOF@@C~aH 研究了一种矩形光栅结构。 72, m c 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 C~2!@<y 根据上述参数选择以下光栅参数: j!4{+&Laq 光栅周期:250 nm c,@Vz
7c 填充因子:0.5 {b!{~q 光栅高度:200 nm ;+~5XLk 材料n_1:熔融石英(来自目录) s[8. l35| 材料n_2:二氧化钛(来自目录) I0mp [6 <q7o"NI6FZ Wep^He\: 'maX 偏振态分析 ~uhW~bT 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 ]W3_]N 3 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 %M96m 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 s*PKr6X+ `PARZ| T
6D+@i aBC5?V*e% 模拟光栅的偏振态 iYr)Ao5X
}#m9Q[
RL}?.'! wa@Rlzij> 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: #&.Znk:@.f 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 {8.Zb NEJ
对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 KPToyCyR1 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 H q6%$!q Y#@D%
a 8 Passilly等人更深入的光栅案例。 FGn"j@m0 Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 AGFA;X 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 oL]uY5eZoe :of([e|u6
<{W{
Y\_A> myj/93p}`b 光栅结构参数 y7+@
v' 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 jj`#;Y 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 #]dm/WzY 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 8-<F4^i_i 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 ^t3>Z|DiB^
~R;/u")@e 0PkX- . 光栅#1——参数 wS=vm}}u 假设侧壁倾斜为线性。 bpc1>? 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ;Ci:d* 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 dy+A$)gY< 光栅周期:250 nm 5$ik|e^:y 光栅高度:660 nm $ 5" 填充因子:0.75(底部) !\#Wq{p>W* 侧壁角度:±6° GFT@Pqq n_1:1.46 a6 gw6jQ n_2:2.08 Zv}F?4T~: b"X1
~B[e*|d (wL$h5SG 光栅#1——结果 \~8W0q.4M 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 W_@ b. 1 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 u43Mo\"<&% :WRD<D_4
&S(>L[)9 V%4P.y 光栅#2——参数 waMV6w)< 假设光栅为矩形。 9"^ib9M 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ,esEh5=Ir 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 !BVCuuM>w 光栅周期:250 nm 0y|1@CS 光栅高度:490 nm M
IIa8; 填充因子:0.5 bqH
[-mu6 n_1:1.46 B!mHO*g n_2:2.08 j)/Vtf pmP~1=3 ;>2- K\ Wzh; 光栅#2——结果 5
Y&`Z J 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 T"P}` mT 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 9X*Z\- Aq(cgTNW r??_2>Q O^\:J2I(
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