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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 3p+V~n.+ lmGVSdo
c*m7'\ "_f~8f`y 任务说明 v3*y43 OfE>8*RI4 'VMov KD<smwXjG 简要介绍衍射效率与偏振理论 (yJY/| 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 ~cf*Oq 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 0I v(ioB= *+i1m`6Q 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 3 P=I)q 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: t6,bA1*5y JI3x^[(Z 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 ?lPn{oB9" 7Mj:bm&9 光栅结构参数 ,<CFjtelO 研究了一种矩形光栅结构。 /!i`K{ 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 YAdk3y~pL 根据上述参数选择以下光栅参数: k4E2OyCFoJ 光栅周期:250 nm Vsj1!}X: 填充因子:0.5 i8h^~d2" 光栅高度:200 nm '=WPi_Z5:C 材料n_1:熔融石英(来自目录) Bs3M7zRG 材料n_2:二氧化钛(来自目录) @zCp/fo3 $eq*@5B Q M) ob nb~592u 偏振态分析 5r` x\ 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 '% if< / 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 +^ cjdH* 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 A"}Ib' KXiStwS %TeH#%[g>\ b|DiU} 模拟光栅的偏振态 ?8/T#ox iAr]Ed"9|
?u4t; dJ9v/k_ 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: <~Oy3#{ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 Yh["IhjR 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 lD#S:HX 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 "(YfvO+ 1wg#4h43l Passilly等人更深入的光栅案例。 ,Dy9-o Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 8~}~d}wW 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 eyzXHS*s;L VZ]}9k
j0~dJ# 0JXXJ:d B 光栅结构参数 7$JOIsM 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 .O&[9`"' 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 }3/|;0j$ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 9 >"}||)) 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 O9P4r*prA
4g)$(5jI} YM,UM> 光栅#1——参数 lyzM?lK- 假设侧壁倾斜为线性。 +&4@HHU{G 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 rM`z2*7%d 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 2@Zw#2|] 光栅周期:250 nm RDOV+2K 光栅高度:660 nm ~[Z(6yX 填充因子:0.75(底部) hiEosI
C 侧壁角度:±6° n+1`y8dy n_1:1.46 v@,`(\Ca' n_2:2.08 i3vg7V. E^B3MyS^^
RN2z/FUf %RIlu[J 光栅#1——结果 w$0*5n>) 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 (7C$'T-ZK 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 |)OC1=As zgl$ n
b( ~#CHg ~cf)wrP 光栅#2——参数 JYnyo$m/ 假设光栅为矩形。
N8)]d 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 c27Zh=;Tj 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 t9r
R>Y9 光栅周期:250 nm v.53fx 光栅高度:490 nm ?L"x>$ 填充因子:0.5 2S//5@~_m n_1:1.46 gNC'kCx0c n_2:2.08 %3yrX>Js +4F; m_G6 qOAhBZ~ 5&_R+g 光栅#2——结果 `('NH]^ 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 P! P` MX 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 c~= {A JyePI:B&)j X([@}ren b?/Su<q
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