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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 51lN,VVD
;iMgv5=
5U+a{oA t&99ZdE 任务说明 C%y!)v_x T=n)ea A *n h.&Mv| RY]Vo8 简要介绍衍射效率与偏振理论 t*'U|K4L/ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 R8<'m
如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 4q7hL ayvHS&h 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 '6&a8&: 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: ~9KxvQzt 1SYBq,[]) 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 L&2 Zn{#` 2PSt*( 光栅结构参数 XV>
)[Nd\H 研究了一种矩形光栅结构。 (ug^2WG
Yq 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 8P#jC$< 根据上述参数选择以下光栅参数: atA:v3" 光栅周期:250 nm Q7-d]xJ^ 填充因子:0.5 BRg(h3 ED 光栅高度:200 nm xEfz AJ5& 材料n_1:熔融石英(来自目录) ucVn ` 材料n_2:二氧化钛(来自目录) uqg#(ADy?R BCK0fk~ }dt7n65 ;^K4kK&f 偏振态分析 }L1-2 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 #nS 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 "}jY;d#n 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 ^Q'^9M2) .;&1"b8G hnbF}AD (3>Z NTm 模拟光栅的偏振态 5#SD$^ {IlX@qWr
+80yyn# s}pn5zMp:8 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: SqF9#&F 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 H[a1n' "<: 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 eviv, 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 fq"<= rz@;Zn Passilly等人更深入的光栅案例。 Jt3]'Nr04@ Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 [aK7v{Wu 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 8
)w75+& 7Q(5Nlfcz
(KF=v31_m oq<n5 光栅结构参数 Y^Olcz 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 &!lGx7zf 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 h* to%N 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 >%~%O`+ 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 ?1z." &
`]{/(pIgW; Q]q`+ Z65 光栅#1——参数 l }i
. 假设侧壁倾斜为线性。 -|l^- Qf! 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 }BpCa6SAs 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 JDyP..Dt 光栅周期:250 nm D-[`wCa, 光栅高度:660 nm w1je|Oil 填充因子:0.75(底部) |G5Me 侧壁角度:±6° XCGJ~ n_1:1.46 xt%-<%s %f n_2:2.08 ItZqLUJm "Yo.]PU
GJL lMi ib4 shaN` 光栅#1——结果 /idQfff 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 gsqpQq7 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 S9$* w!W b-1cA1#_cP
Hvn{aLa. zF6]2Y?k% 光栅#2——参数 eRK
kHd- 假设光栅为矩形。 O;u&>BMk 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 q&h&GZ 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 rI\G&OqpP 光栅周期:250 nm o2FQ/EIE 光栅高度:490 nm s/,wyxKd 填充因子:0.5 R).?lnS n_1:1.46 liW0v!jBo n_2:2.08 p?mQ\O8F a)+;<GZ~ /e^q>>z =kp-[7
光栅#2——结果 R89;<,Ie 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 7j&iHL 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 `wJR^O!e p nS{W
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