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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 G@anY=D\EB AxUj CerNf
69 R8#M Ft>Abj,6 任务说明 NWSBqL5v ;$=`BI) EUU9JnQhBJ 7E4=\vM 简要介绍衍射效率与偏振理论 `(<XdlOj 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 V4}9f5FR 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: l
njaHol0 1"009/| 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 nM1U=Du 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: ? r=cLC l.?R7f 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 Y(ly0U} eXWiTi@ 光栅结构参数 C ".&m 研究了一种矩形光栅结构。 c$Js<[1 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 h*{{_3, 根据上述参数选择以下光栅参数: .G#S*L 光栅周期:250 nm a1]k(AuQrC 填充因子:0.5 !-%i" a 光栅高度:200 nm V=BF"S;-' 材料n_1:熔融石英(来自目录) PmO utYV 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 5zX;/n~ 7\'vSHIL ` ZXX[&C Xz&Hfs"/J 偏振态分析 [s"3g\L'; 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 5bR;R{:x 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 )V%xbDd S 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 IL?3>$, 0F6^[osqtl &i4*tE3], ~mx me6"v 模拟光栅的偏振态 ]fIv{[A_
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_ro^<V$% }x`W+r 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: >XjSVRO 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 YA O,
rh 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 V03U"eI=" 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 >_(Xb%w B1oi]hDy Passilly等人更深入的光栅案例。 : I28Zi* Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 T>e!DOW; 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 X"YH49? ByoSwQ
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*LqW ifl`QZp_ 光栅结构参数 ;ajCnSmR 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 j<>E
Fd 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 +',[q 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 4=td}% 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 Z;=G5O
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{v+,U} $Mm=5K% 光栅#1——参数 /Pv
d[oF 假设侧壁倾斜为线性。 }&Un8Rg"h 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 %eB 0)' 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 RiqYC3Ka 光栅周期:250 nm \:9dt8(-U 光栅高度:660 nm lfp[(Ph)9 填充因子:0.75(底部) "i_I<?aGB 侧壁角度:±6° O-y/K2MC* n_1:1.46 G?CaCleG n_2:2.08 qk;*$Q 2jV.\C k
A!\ouKyayS DW&%"$2 光栅#1——结果 c[J(H,mt/ 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 N7:=%F y( 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 h3D~?Iom : kz*.1
+>h}Uz $#4Qv5} 光栅#2——参数 m/RX~,T*v& 假设光栅为矩形。 ~sT/t1Rp 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 4$.$j=Ct." 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 Z&9MtpC+N3 光栅周期:250 nm 8}z]B^?Fy 光栅高度:490 nm ^F2OTz4n 填充因子:0.5 f#mBMdj n_1:1.46 e f8_w6i n_2:2.08 /RU'~( yW5/Y02 07 [%RG )Be?axI 光栅#2——结果 5Z"IM8? 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 I,;@\ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 TP7'tb vFKX@wV S /{@^h#4M1 QP/%+[E.
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