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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 oK&G ;uuBX0B
XK(aH~7xme wJ7Fnj>u% 任务说明 =e6!U5
f v/`#Gu^P H#bu3*' <H1e+l{8$ 简要介绍衍射效率与偏振理论 "fSK7%BP 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 z}p*";)A 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: "(:8$Fb {_4zm& 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 TG.\C8;vFh 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: 0LP>3"Sm o:Tpd 0F 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 5WtI.7r J!zL)u| 光栅结构参数 1oG'm 研究了一种矩形光栅结构。 r;fcBepO 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 X-%91z:o58 根据上述参数选择以下光栅参数: 4o@^._-R 光栅周期:250 nm PC)V".W1 填充因子:0.5 3d_g@x#9 光栅高度:200 nm 6 x8lnXtA 材料n_1:熔融石英(来自目录) Ude)$PAe% 材料n_2:二氧化钛(来自目录) @h7
i;Ok #YLI"/Kn ;{g>Z| zM'2opiUY 偏振态分析 OEHw% 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 8noo^QO 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 TI3@/SB> 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 !(N,tZ &F +hh{ (m=F hx@E, 模拟光栅的偏振态 0&2&F=fOa< 0U:9&jP,
bw[K^/ diF2:80o 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: ybgw#jv= 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 $2k9gO 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 y Xi$w.gr 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 Fi#b0S 5U/C
0{6 Passilly等人更深入的光栅案例。 `VRt{p Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 t$*CyYb{@ 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 4)d#dy::\ qBWt(jY
.BZ3>]F3< OlYCw.Zu 光栅结构参数 ,wk %)^ 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 `~ R%}ID 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 1${Cwb/F 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 c(!{_+q" 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 B,ZLX/c9
u_ym=N57` `z`"0;,7S 光栅#1——参数 <ApzcyC
假设侧壁倾斜为线性。 JA^Y:@<{/ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 V?Ye^-29 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 VW\~OH 光栅周期:250 nm /;rk-I 光栅高度:660 nm
=uIeur 填充因子:0.75(底部) }G[Qm2k 侧壁角度:±6° OYNPZRu n_1:1.46 JUC62s#_z n_2:2.08 +8q]O%B
`n~bDG>
cvQMZ,p Fu#mMn0c 光栅#1——结果 nHmi%R7k 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 ZG)%vB2c 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 a`uHkRX
)U AP_2.V=Sn
}\)O1 +;wu_CQu 光栅#2——参数 -OV!56& 假设光栅为矩形。 6/eh~ME= 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 j`kw2( 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 1t7S:IZ 光栅周期:250 nm Z3
$3zyi 光栅高度:490 nm 4F>?G{ci 填充因子:0.5 &+V|L dh n_1:1.46 ,Q8)r0 c n_2:2.08 4V0j1k&' Z'L}x6 fo30f=^Gi hM @F|t3 光栅#2——结果 eZ~ZWb, % 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 Z&R{jQ, 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 :svRn9_8H F82_#|kpS []rg'9B2b F2$Z4%x#
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