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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 jS_fwuM #ZFedK0vv
lt:xN?--A? 4.>rd6BAN- 任务说明 5G$sP,n &35 6
0Fd<@wQ0 V_)G=#6Dy 简要介绍衍射效率与偏振理论 ?\_\pa/+ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 d#Hl3]wT 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: ~3,>TV OC(S"&D 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 ?zFeP6C 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: &nJH23h^ Etv!:\\[ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 uL.)+E S!\4,6 光栅结构参数 r8]y1
Om< 研究了一种矩形光栅结构。 `,-w+3?Al 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 uv&??F]/ 根据上述参数选择以下光栅参数: HNFG:t9 光栅周期:250 nm Z>9uVBE02 填充因子:0.5 QJeL&mf 光栅高度:200 nm )9oF?l^q 材料n_1:熔融石英(来自目录) ?p&CR[ 材料n_2:二氧化钛(来自目录) ](^$5Am PTt#Ixn, Jf#Ika&px he/WqCZg 偏振态分析 {Kbb4%P+h 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 *wvd[q h 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 ] 2Vu+AP 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 &oU) ,H [i"6\p& %3Ba9Nmid @ )bCh(u 模拟光栅的偏振态 n5Coxvy1 <%_7%
5mtsN# nM=5L:d 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: As5*)o"& 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 ?.A~O-w 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 "7G> 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 [osIQ!u;: V:YN! Passilly等人更深入的光栅案例。 jyLE Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 /-{C,+cB 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 FZk=-.Hk -@I+IKz
-2D/RE7| }|KNw*h$ 光栅结构参数 Ml"i^LR+ 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 WLO4P 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 ' F,.y6QU 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 Ba8 s 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 ?KB+2]7m6
?Q?=I,2bP 3QD+&9{D 光栅#1——参数 6bE~m<B\` 假设侧壁倾斜为线性。 0=:]tSD\F 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 \me'B {aa 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 EC:u;2f! 光栅周期:250 nm E"/r*C+T 光栅高度:660 nm f4mQDRlD 填充因子:0.75(底部) 7o99@K, 侧壁角度:±6° 8@)4)+e n_1:1.46 cFV)zFu n_2:2.08 'joc8o sS #M)SAe2
)j_Y9`R 8kRqF?rbj 光栅#1——结果 m9Pzy^g1 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 )<~v~|re 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 *WQl#JAr 0etJ, _">
qr<+@Q aAi" 光栅#2——参数 ozCH1V{p 假设光栅为矩形。 I{8sLzA03S 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 *7JsmN? 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 *"HA=-Z; 光栅周期:250 nm I'%\
E, 光栅高度:490 nm s(?A=JJ 填充因子:0.5 A8zh27[w% n_1:1.46 `Lr I^9Z n_2:2.08 R'z
-#*[ g'pB<?'E' 'CfM'f3uu &F 3'tf? 光栅#2——结果 ( +x!wX( x 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 LJh^-FQ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ;+Sc Vz +\ZaVi z0F'zN3J tsWzM9Yf
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