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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 2.?:[1g! LBw,tP
Y~gpi L3u aD24)?db- 任务说明 +=U` "fS9Nx3 CM8WI~ V|<qO-#. 简要介绍衍射效率与偏振理论 gO_^{>2 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 ]qhVxeUm 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: Mp"] = Lp1wA* 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 Ff%m.A8d,4 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: V ;"?='vVe k$3.FO" 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 B3)#Ou2 CA[k$Sw* 光栅结构参数 {tF=c0Z 研究了一种矩形光栅结构。 |oPqX %? 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 k:`^KtBMl 根据上述参数选择以下光栅参数: &> }MoB 光栅周期:250 nm A7~)h}~ 填充因子:0.5 kZSe#'R's 光栅高度:200 nm TJLz^%t 材料n_1:熔融石英(来自目录) *E+)mB"~ 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 4$SW~BpQ C'*1w G@ed2T tj{rSg7{ 偏振态分析 >3 qy'lm 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 V4/eGh_T 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 qt/"$6]% 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 vTU"c>] FSc730rM r(%#@?& 5orA#B 模拟光栅的偏振态 2Np9*[C LPewo AXO
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+*Vi^ q'",70"\ 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: Lu1>A {et 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 r$G;^ 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 yd#4b`8U` 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 ?8YHz JFR,QUT Passilly等人更深入的光栅案例。 ]V><gZ Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 M/Bn^A8@ 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 cf@:rHB} q+|Dm<Ug
:%!=Ej.J }^)M)8zS 光栅结构参数 QqtFNG 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 2R:['QT 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 `'+[Y;s_ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 VUagZ7p 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 <bIAq8
c>=[|F{{e 6i=m1Yk 光栅#1——参数 r|?2 @VE 假设侧壁倾斜为线性。 &eK8v]|"W 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 5x4(5c5^ 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 b3y@!_'c 光栅周期:250 nm GS<,adD 光栅高度:660 nm lZ/Yp~2S 填充因子:0.75(底部) Q9FY.KUM 侧壁角度:±6° b`18y cVME n_1:1.46 c1jgBty n_2:2.08 )v0m7Lv#/ sE-"TNONZ
&ATjDbW*( wzP>Cq 光栅#1——结果
]UFf- 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 {9_CH<$W%U 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 WElB,a-RCp 0m51nw~B
Ur]5AJ )jCAfdnCs 光栅#2——参数 YX@[z
5* 假设光栅为矩形。 YuLW]Q?v 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 @Je{;1 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 g%[lUxL 光栅周期:250 nm TpZ)v.w~l7 光栅高度:490 nm J"I{0>@ 填充因子:0.5 fu\M2"e n_1:1.46 Bam7^g'*!3 n_2:2.08 ;Fp"]z!Qh+ NWb,$/7T =,,!a/U NWv1g{M 光栅#2——结果 LGRX@nF# 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 '0/t |V< 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 M2vYOg`t:c Z`q?p E>R A4 o'EQ?~ 5BTQJa
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