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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 N*f?A$u/I 'Wn'BRXq3 Z0`Bn5 !.?2zp~ 任务说明 :Z- =1b~ :tl*>d~ VA&_dU]* *_}ft-*w 简要介绍衍射效率与偏振理论 }:])1!a 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 MD1n+FgTu 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: nVoL7ew+ r,cV( 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 @a'Rn 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: %|*tL7 pV9$Vg?-H 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为。 [d`J2^z} @!=q.4b 光栅结构参数 jL8.*pfv 研究了一种矩形光栅结构。 Bk_23ygO_ 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 _K<H*R 根据上述参数选择以下光栅参数: <~X4&E]rT_ 光栅周期:250 nm <'>c`80@\* 填充因子:0.5 Sb+^~M 光栅高度:200 nm G|H+
,B 材料n_1:熔融石英(来自目录) h64<F3} 材料n_2:二氧化钛(来自目录) -|bnvPmE 4@AY~"dq ><V<}&:y$( l+HmG< P 偏振态分析 7hQXGY,q 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 2Nrb}LH 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 0ft 81RK 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 fd!bs*\X pX8TzmIB0 Q'5]E{1<'n lD)ZMaaS3 模拟光栅的偏振态 j#G4A%_ w<#/ngI2 wXZ"}uT<} i/E"E7 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: .)59*'0
在圆锥入射角为0(𝜑=0)时,。这说明衍射光是完全偏振的。 $ @g\wz 对于𝜑=22°,。此时,67%的光是TM偏振的。 aO)Cq5 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。
Tsg;i; c|m*<
i Passilly等人更深入的光栅案例。 bWWZGl9 Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 $ha,DlN 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 )-VpDW!%_ N iw~0"-V G%ytp=N e0;0 X7 光栅结构参数 xl2;DFiYt 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 Oxsx\f_ 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 \ GYrPf$ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 xKl\:}Ytp 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 q> |&u
!-rG1VI_S* *Tc lcu 光栅#1——参数 $0 ]xeD0X 假设侧壁倾斜为线性。 c(Ws3 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 D8X~qt/ 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 +*uaB 光栅周期:250 nm =sZ58xA 光栅高度:660 nm ^E~F,]dV= 填充因子:0.75(底部) |ht:_l
8 侧壁角度:±6° v}\4/u n_1:1.46 Xna58KF/ n_2:2.08 |2ImitN0 =T!eyGE | KtI:n4d XM1;
>#kz 光栅#1——结果 %9v l 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 W{Uz#o
与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 V#X#rDfJZ ,="hI:*< A |u-VXQ )iX2r{ 光栅#2——参数 gcF:/@:Rm 假设光栅为矩形。
r)S:-wP 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 tNoPpIu 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 BTc
}Kfae 光栅周期:250 nm n)|{tb^ 光栅高度:490 nm %(&$CmS@ 填充因子:0.5 &cGa~#-u n_1:1.46 x" lcE@( n_2:2.08 8+i=u"< tn{YIp gFpub_ ,I6li7V 光栅#2——结果 @yM$Et5 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 w**~k]In 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 |
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