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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 CTW\Dt5 myR{}G
O&BvWik :>{!%-1Z 任务说明 lbda/Zx d/
^IL*O &{.IUg BP@tI| 简要介绍衍射效率与偏振理论 wQUl!s7M; 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 :vb5J33U 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 6!"wiM"] o& FOp' 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 ah:["< z< 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: kEnGr6e
Pd~=:4 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 Kh\ 7%>K# 4F|79U # 光栅结构参数 4T(d9y 研究了一种矩形光栅结构。 I?}jf?!oM 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 kZz'&xdv'. 根据上述参数选择以下光栅参数: GNMOHqg4 光栅周期:250 nm O|,9EOrP 填充因子:0.5 G-T^1? 光栅高度:200 nm &M}X$k I 材料n_1:熔融石英(来自目录) +Pb:<WT}% 材料n_2:二氧化钛(来自目录) ,~naKd.ZY _x<NGIz YUEyGhkMV{ ~dr,;NhOLJ 偏振态分析 n8<?<-2 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 }8x+F2i 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 Sc[#]2 } 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 V'j+)!w5 |ZH(Z}m t|>zke!' f"FFgQMkv 模拟光栅的偏振态 /%& d: !l0]IX`
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84t= 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: />S^`KSTM 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 jG[Vp b 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 xc#t8` 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 :>fT=$i@ tdH[e0x B Passilly等人更深入的光栅案例。 9-c3@>v Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 Y.Zd_,qy 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 wu.l-VmGp) #-;W|ib%z
FYYc+6n QgqJ # 光栅结构参数 K|Sq_/#+U 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 G{} 2"/ 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 jjV'`Vy) 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 754MQK|g 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 D!o[Sm}JO[
G*9>TavE $v@$C4 光栅#1——参数 031"D*W'i 假设侧壁倾斜为线性。 eK:?~BI! 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 >)ekb7 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 ;0 B1P|7zK 光栅周期:250 nm z,TH}s6 光栅高度:660 nm Qfm$q~`D^W 填充因子:0.75(底部) 4?+K
` 侧壁角度:±6° =
J;I5:J n_1:1.46 s=n4'`y1 n_2:2.08 s-"KABEE ]
]U )wg
C(XV
YND3 Q ]CMm2L^f 光栅#1——结果 7~XC_Yc1 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 rC-E+%y 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ytIPY7E 0~ho/ _
xvOz*vM? RK!9(^Ja 光栅#2——参数 '."_TEIF 假设光栅为矩形。 xfb .Z( 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 TGF$zvd 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 a yoC]rE 光栅周期:250 nm +LRKS 光栅高度:490 nm dun`/QKV 填充因子:0.5 wG,"X'1 n_1:1.46 qf x*a88 n_2:2.08 2#.s{ Bv WA(x]""
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1cK'B<5">] 光栅#2——结果 +|LM" 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 '.bf88D 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 s:tX3X wo0j/4o ,->K)Rs ; R0RxcBtG
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