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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 x )q$.u+ Mns=X)/hc
T sJ71 (a,`Y. 任务说明 Vz5<Gr Z
+<Y.*6 03
v\v9<T (d
<pxx 简要介绍衍射效率与偏振理论 z;0]T=g 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 &t@ $]m( 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: hL;??h,!_ "VsS-b^ P 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 ri9n.-xs 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: uxq#q1 t!ZFpMv]n 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。
G0r(xP? `AdHyE 光栅结构参数 6|Rj
YX 研究了一种矩形光栅结构。 iVqF]2> 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 }u5J<*:bZ 根据上述参数选择以下光栅参数: R, zp&L 光栅周期:250 nm $i
`@0+: 填充因子:0.5 uMC0XE|S 光栅高度:200 nm $- Z/UHT 材料n_1:熔融石英(来自目录) mL,{ZL ^ 材料n_2:二氧化钛(来自目录) +A_jm!tJS( D t]FmU Y}x_ud, 6>EoU-YX}l 偏振态分析 Hp
fTuydU 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 =gB{( 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 5bWy=Xk
B 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 h/l?,7KHI Y7yzM1?t m)<N:| tkix@Q!;\ 模拟光栅的偏振态 A<g5:\3 Od]wh
st CFLYox Yr:$)ap 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 0I.! 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 rmnnV[@o 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 =u&NdMy 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 }% ?WS 23UXOY0BW Passilly等人更深入的光栅案例。 `VOLw*Ci Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 ~/R}K g( 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 _ID =]NJ_ _k
W:FB
<=~'Pd-f( ]h&?^L<. 光栅结构参数 7o M]qLF 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 YWa9|&m1 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 '#8;bU 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 5 s2/YG= 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 SB!m&;Tb
E{|n\| %6<2~ 光栅#1——参数 KTu&R6| 假设侧壁倾斜为线性。 rxI Ygh 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 j: B,K.: 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 +&TcTu#.` 光栅周期:250 nm [$GQ]Y 光栅高度:660 nm \"@ `Rf
填充因子:0.75(底部) e%DF9}M 侧壁角度:±6° @sb00ad2q n_1:1.46 ;%aWA n_2:2.08 m-!z(vcn 2$%0~Z5
!HHbd|B_ JYWc3o6 光栅#1——结果 38q0iAH 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 O0<GFL$)& 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 Y3wL EG%,: (vf5qF^
5B=Wnau TMQu'<?V 光栅#2——参数 NBZ>xp[U 假设光栅为矩形。 |k9A*7I 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 $JXQn 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 oE4hGt5x{ 光栅周期:250 nm OL"So
u4 光栅高度:490 nm @AdJu-u 填充因子:0.5 ,s1n!@9 n_1:1.46 %4E7 Tu,1 n_2:2.08 tlFc+3 MRHkQE+K@8 S$I:rbc P X<,/6g z 光栅#2——结果 eL!G, W 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 Swz1RT 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 !P26$US%P L:F:ZOM6` QcQ|,lA.HI Q-N.23\1
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