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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 `,]Bs*~ W6<oy
^fsMfB 2 .3_FXSt 任务说明 &_L%wV|[ 0O"W0s"T# 8m")
)i- tA#Pc6zBuC 简要介绍衍射效率与偏振理论 ]FCP|Jz 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 Jk*cuf`rq 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 5{'hsC AJ7w_'u=@ 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 .D W>c}1 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: LO=U?`)q FMdu30JV 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 4]r_K2.cc %jHm9{|X 光栅结构参数 y?OP- 27y 研究了一种矩形光栅结构。 Z1 Nep! 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 wqo:gW_ 根据上述参数选择以下光栅参数: ~/G)z?+E 光栅周期:250 nm /x49!8 填充因子:0.5 IQJ"B6U) 光栅高度:200 nm E7$&:xqx 材料n_1:熔融石英(来自目录)
y X!u& 材料n_2:二氧化钛(来自目录) c9+G
Qp *X.1b! M">v4f&K1! "'CvB0> 偏振态分析 vh\i ^ 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 AA5G`LiT 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 yV.p=8: 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 FW-I|kK. `N\ ^JAGW P}4&J ^ EL~$7 J 模拟光栅的偏振态 }r,M(Zr 7i($/mNl
( eKgc JX0M3|I= 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: :UdW4N- 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 W'4/cO 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 jf3Zy:*K 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 8Qg{@#Wr ]r;rAOWVV Passilly等人更深入的光栅案例。 B_d\eD Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 =7V4{|ESfy 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 kgo#JY-4 CE3l_[c
ob>)F^.iS Hf('BagBL 光栅结构参数 hJM&rM7 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 5az%yS 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 h@`Rk 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 g}%ODa !H 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 CFFb>d
n~629 & EA~xxKq 光栅#1——参数 -H%v6E%yh 假设侧壁倾斜为线性。 %gmx47 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 d&^b=d FDu 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 [r`KoHwdm 光栅周期:250 nm 1]If<
< 光栅高度:660 nm nZioFE} 填充因子:0.75(底部) a*(Zb|g 侧壁角度:±6° 4$R!) n_1:1.46 k^}[+IFJ n_2:2.08 /!ElAL
Fu.aV876\f
=b%f@x_U1 "]"0d[d 光栅#1——结果 I<QUvs%e 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 Fizrsr 6% 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 \hX,z = QD.5oS
|it*w\+M !EIH"`>! 光栅#2——参数 04U|Frc 假设光栅为矩形。 ~k34#j:J65 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 uL)MbM] 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 [6TI_U~ 光栅周期:250 nm tEL;,1 光栅高度:490 nm j#f/M3 填充因子:0.5 3.YH7rN
n_1:1.46 wwl,F=| Y n_2:2.08 )FwOg;=3M" SGl|{+(A Gxd/t#; W
$D 34( 光栅#2——结果 B<s+I# 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 \];|$FQg 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 K21Xx`XK -}m #N`'hPD} @ fMlbJq
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