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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 T&fqn!i E[)`+:G]
OB>Pk_eQK gle_~es'K 任务说明 jDqe)uVvtV
sas;<yh /RIvUC1 k8Qm +r<p 简要介绍衍射效率与偏振理论 wm=!tx\`k 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 &CV%+ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: F)z]QJOw z
v*hA/ 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 t"cGv32b 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: Ugp[Ugr *&Np;^~ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 ogtKj"a MRMswNQ 光栅结构参数 kXFgvIpg< 研究了一种矩形光栅结构。 \25Rq/&w 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 K@)Hm\* 根据上述参数选择以下光栅参数: f R$E*Jd 光栅周期:250 nm jeFX?]Q 填充因子:0.5 :aS8%m 光栅高度:200 nm R4.$9_ui 材料n_1:熔融石英(来自目录) f"\G"2C 材料n_2:二氧化钛(来自目录) sgW*0o 3xj
?}o ]vo&NE 5V;BimI 偏振态分析 (RW02%`jjy 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 `md)|PSU 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 L #c*) 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 ,_
} F)Oe;z6 d:cs8f4> "#anL8 模拟光栅的偏振态 q,w8ca4~y owM3Gz%?UA
9y "R, wqEO+7)S 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 4iMo&E< 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 sOQF_X(.x 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 s
tvI 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 b9b384Q1O kcGs2Y_*& Passilly等人更深入的光栅案例。 ^NwXvp>7- Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 = m]|C1x 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 pxy=edd TJjcX?:(
//T1e7) E:'TZ4Z 光栅结构参数 ]Y@Db5S$T 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 E_k<EQ%r 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 mux_S2x9m\ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 M+4>l\ 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 30cZz
4&]Sb} - "`5r6 光栅#1——参数 ,tqMMBwC~_ 假设侧壁倾斜为线性。 z !2-U 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ;n1<1M>! 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 *q**,_?; 光栅周期:250 nm hr9rI 光栅高度:660 nm a
k&G=a6^ 填充因子:0.75(底部) =M39I&N 侧壁角度:±6° /BeA-\B n_1:1.46 G- nS0Kn: n_2:2.08 www#.D%'U "*E06=fiG
wyG7SA CRXIVver 光栅#1——结果 .&Tcds 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 oTS/z\C"<u 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 jFAnhbbCE Ed6k7
E&js`24 & N_<wiwI< 光栅#2——参数 5MU-Eu|*> 假设光栅为矩形。 o!bIaeEaU 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 SbrKNADH% 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 KYe@2 6
光栅周期:250 nm V+04X" 光栅高度:490 nm Zw4z`x1f 填充因子:0.5 !mX-g]4E n_1:1.46 '8RBR%)y n_2:2.08 $"#2hVO
%4 v>S[}du B}OM:0 光栅#2——结果 b9 Gq';o 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 $eqwn&$n 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 y+jOk6)W75 YC,)t71l{ _'OXrT#Q e#{,M8
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