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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 ~{G:,|` mm-UQ\h
l|em E
^ veg!mY2& 任务说明 !gHWYWu)! H`lD@q'S ja- ~` AuipK*&g 简要介绍衍射效率与偏振理论 zxUj1 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 a
BH1J]_ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: A i){,nh`0 8G] m7Z 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 ,D2_Z] 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: *yq] :qTcxzV 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 O:tX0<6 ;;hyjFGq% 光栅结构参数 X6GkJ
R 研究了一种矩形光栅结构。 ?lN8~Ze 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 n(YHk\2 根据上述参数选择以下光栅参数: Wx)U<:^e 光栅周期:250 nm R 0HVLQI 填充因子:0.5 Wd56B+ 光栅高度:200 nm 3;S`< 材料n_1:熔融石英(来自目录) ZNpExfGEU 材料n_2:二氧化钛(来自目录) tlLn vSC0D7BlG 0&IXzEOr uE#,c\[8 偏振态分析 xf"5<PTW</ 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 JOx,19r 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 s[2ZxCrCw 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 _s^:zPl #lsh N,CPm ,,gLrVk F0'A/T'ht 模拟光栅的偏振态 66@3$P%1p tb?F}MEe
A:bPIXb j-`X_8W 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: =ch
Af= 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 o;4e)tK 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 t)gi.Ed1"L 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 3R%UPT0> UcLNMn| Passilly等人更深入的光栅案例。 _p J_V>l Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 j H.Ju|nO 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 V l~Y s'aV q B
]8m_* I! yOUX E>- 光栅结构参数 2@R8P~^W 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 me:|!lI7YU 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 {#1j" 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 7}'A)C>J; 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 }x?H ~QQT
|v$%V#Bo :\+{;;a@ 光栅#1——参数 ~i }+P71
假设侧壁倾斜为线性。 }>;ht5/i/ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 A!ioji+{[ 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 UGmuX:@y76 光栅周期:250 nm c/=y*2,zo 光栅高度:660 nm 88#qu. 填充因子:0.75(底部) uojh%@.4 侧壁角度:±6° ^s2m\Q( n_1:1.46 ,zN3? /7 n_2:2.08 jKj=#O "s>fV9YyZ
%|*nmIPq( (~ ]g,*+ 光栅#1——结果 xz"Z3B 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 s~Lfi. 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 #5y9L uS,p|}Q&
fwi};)K A-a17}fta 光栅#2——参数 8
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p 假设光栅为矩形。 *U;4t/( 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 h"u<E\g 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 dU ,)TKQ 光栅周期:250 nm >P\h,1 光栅高度:490 nm .Na&I)udX. 填充因子:0.5 Q(IJD4 n_1:1.46 ShWHHU(QQ n_2:2.08 (!ZQ <AI>8j6#B
w.J%qWJq 9Qzjqq:"Li 光栅#2——结果 6_R\l@a 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 y@o9~?M 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 W!/vm {H=oxa &GdL 9!hH 1mJbQ#5
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