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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 (dV7N NvpDi&i
Lu[Hz8 %uo#<Ny/ I 任务说明 y'JJ#7O= ] xIgP% P;|63"U |]-~yYqP3 简要介绍衍射效率与偏振理论 d/YQ6oKU 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 Uf?+oc'{ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 6r[pOl: "ZmxHMf 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 &iy7It 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: +]hc!s8 ^lK!tOeO 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 [:A">eYI tM;+U 光栅结构参数 +|4olK$[ 研究了一种矩形光栅结构。 N2u4MI2 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 avXBCvP+h 根据上述参数选择以下光栅参数: ax2#XSCO 光栅周期:250 nm >F/E,U ] 填充因子:0.5 Ku3NE-) 光栅高度:200 nm !8RJHMX& 材料n_1:熔融石英(来自目录) !Uhc jfq`e 材料n_2:二氧化钛(来自目录) _~*ba+{ vQDR;T"] ^6!8)7b =Prz| 偏振态分析 CKU)wJ5t 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 [[ }ukG4 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 e)F_zX 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 Y`xAJ#=
,i li}>xDSQ4 GzT?I
7|M /[q_f 模拟光栅的偏振态 clIn}wQ =knBwjeD
$! g~pV 9HlM0qE5b 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: *kJa$3*r 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 MA7&fNjB 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 p\]rxtm 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 |%(qaPA1 Ti#x62X{ Passilly等人更深入的光栅案例。 Y@b|/+ Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 XKT[8o<L 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 MLmv+ 2nSz0 .
n+Ng7 tZr_{F@ 光栅结构参数 Q:Y`^jP 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 F}5skD= 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 8BnsYy)j 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 Ye[Fu/0 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 }5QUIK~NA
Ek '%%% }9+Vf'u|l 光栅#1——参数 (~:ip)v 假设侧壁倾斜为线性。 cs]3Rp^g 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 pq]>Ep 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 2y9$ k\<xV 光栅周期:250 nm AxCFZf 5 光栅高度:660 nm X>MDX.Z 填充因子:0.75(底部) _wZr`E) 侧壁角度:±6° O+~@S~ n_1:1.46 cvV8; n_2:2.08 YXGxE&! h;J%Z!Rjw
!\q'{x5C $,1KD3;+] 光栅#1——结果 7+P-MT 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 74KR.ABd 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 kyD*b3MN Lo +H&-
rX|{nb k_ijVfI9 光栅#2——参数 x0q`Uc 假设光栅为矩形。 0-Wv$o[ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 mFBuKp+0)h 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 0}$R4<"{Y> 光栅周期:250 nm :U'Oc3l#Y 光栅高度:490 nm XC,by&nY<y 填充因子:0.5 |<LW(,|A n_1:1.46 - QQU>_ n_2:2.08 <!~NG3KW[> H$)otDOE stOD5yi d-#yN:}0 光栅#2——结果 hDTM\>.c;s 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 L^jhr>-"; 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 6W N(Tw 257q%" RG`eNRTQ% ^:o^g'Yab
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