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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 ,JEbd1Uf zj|/ CxV
BvU"4d;x yt+}K)Hz 任务说明 4"vaMa %G@5!|J }N*>QR5K '?Jxt:< 简要介绍衍射效率与偏振理论 CZEW-PIhj 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 lZQ/W:OE 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: s6}Xt=j sK 2
e& 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 e2C<PGUUB 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: do-c1;M ?v-1zCls 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 j4R 4H; |fHB[ W# 光栅结构参数 ntP|\E 研究了一种矩形光栅结构。 UHGcnz< 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 <fdPLw;@e4 根据上述参数选择以下光栅参数: QI_59f> 光栅周期:250 nm wVq\FY% 填充因子:0.5 LjdYsai- 光栅高度:200 nm h~7,`fo 材料n_1:熔融石英(来自目录) "*7C`y5&P 材料n_2:二氧化钛(来自目录) *g;-H&` f'6|OsVQ 1IgHc.s Z7jX9e"L 偏振态分析 A7P`lJgv 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 -n*;W9 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 Yn9j-` 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 \nqo%5XL }xlKonk RH~3M0'0 Z v0C@r 模拟光栅的偏振态 dZGbC 9 =w<v3 wWN4
Zwe[_z!*D k:#6^!b1 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: s T3p>8n 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 (3*UPZv 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 D{'#er 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 ^^(<c,NX#M *(cU]NUH_ Passilly等人更深入的光栅案例。 sygH1|f Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 WP-jtZ?!" 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 &k
T"oK v6e%#=
s>z2 k LNQSb4 光栅结构参数 )qPSD2h 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 zzvlI66e 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 jnoL2JR[=- 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 !;>(ie\ 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 # nfI%
^ua12f C4$/?,K( 光栅#1——参数 GoE#Mxh xo 假设侧壁倾斜为线性。 |Vx~fK S\ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 4Y
tk!oS` 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 6T^lS^ 光栅周期:250 nm ]
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v;C 光栅高度:660 nm u9![6$R 填充因子:0.75(底部) WfGH|u
侧壁角度:±6° i#,1iVSG n_1:1.46 um8AdiK n_2:2.08 /~}_h O$S >,h1N$A+
zj]b&In6; Z|^MGyn 光栅#1——结果 2H&{1f\Bf 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 gwQvao 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 Xa`(;CLW? 7o{*Z
+0pW/4x D6!t VdnVe 光栅#2——参数 DY><qk 假设光栅为矩形。 T2bnzIi 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 5_G'68;OV 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 a@|.;#FF 光栅周期:250 nm g'G8 3F 光栅高度:490 nm 'TEyP56 填充因子:0.5 A9BxwQU# n_1:1.46 I=YCQ VvA n_2:2.08 Tkrx7Cs( !cCg/ ?;8M^a/ ,o&<WMD 光栅#2——结果 $T*KaX\{B 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 P`sN&Y~m 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 K<,Y^3]6? q[boWW /v&`!nKu $DV-Ieb
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