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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 *(G&B\ abBO93f^
QBoFpxh= <FUon 任务说明 F.<L>
G7{1 o~#f1$|Xn &|b4\uj9 I5qM.@%zB 简要介绍衍射效率与偏振理论 .s2$al 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 ca(U!T68 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: (ss3A9tG 6PU/{c 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 II;Te7~ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程:
aG(hs J) yl$F~e1W 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 Stxp3\jEn =q+R
光栅结构参数 BFWi(58q 研究了一种矩形光栅结构。 fG&=Ogy 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 TQf L%JT 根据上述参数选择以下光栅参数: ^gOww6$ < 光栅周期:250 nm U\jb" 填充因子:0.5 dv~pddOs 光栅高度:200 nm M+poB+K. 材料n_1:熔融石英(来自目录) mu[Op*) 材料n_2:二氧化钛(来自目录) R4{-Qv#8
q jvHFFSK iA'As%S1 >;4!O%F 偏振态分析 XA<ozq' 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 H(|AH;?ou 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 !`&\Lx_ 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 \\:|Odd ?59'dGnz_ L0Y0&;y|R 2q PhLCeZ 模拟光栅的偏振态 E!J=8C.: [A5W+pDm
4w4^yQE m\ S\3n 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 7Xg?U'X 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 M;jcUX_{ 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 d'"r("w# 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 *geN[[ 5u$ D/*
Eb Passilly等人更深入的光栅案例。 z.oU4c Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 V`#.7uUP 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 HYCuK48F[_ @gY\;[#.
8(f:U@BS 6na^]t~ncm 光栅结构参数 'yY>as 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 5~'IKcW< 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 "Sridh? 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 $q_R?Eay 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 W)*p2#l
AjkW0FB:1 }%TPYc 光栅#1——参数 7
oQ[FdRn* 假设侧壁倾斜为线性。 )Si2u5 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ,"\@fwy{ 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 R>/NE!q 光栅周期:250 nm (JUZCP/ \ 光栅高度:660 nm mr:CuqJ
填充因子:0.75(底部) W!T"m)S 侧壁角度:±6° M.q=p[ n_1:1.46
y<:<$22O n_2:2.08 #_i`#d) !do?~$Og
*\G)z|^yx p{D4"Qn+P9 光栅#1——结果 !bnyJA 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 @-&MA)SN 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 7zemr>sIh @?
c2)0
bBc[bc>R >&:NFq- 光栅#2——参数 m
ci/'b Xt 假设光栅为矩形。 3qL>-%):* 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 k,yZ[n|` 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 l{j~Q^U}) 光栅周期:250 nm r|u MovnV 光栅高度:490 nm Dd/wUP 填充因子:0.5 'cix`l|^ n_1:1.46 <{5EdX n_2:2.08 ?a(L.3E U1nw-Q+ |yEa5rd?W Z;/$niY 光栅#2——结果 EJ@p-}I! 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 Vw|| !d 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ~\LCvcY"X Y_woKc* anMF-x4/*q a`[uNgDO
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