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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 ~{tO8
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v9-4yZU^WR *2->>"kh 任务说明 JJ
?'<)EF $ %MgIy Z>bNU A1-,b.Ni 简要介绍衍射效率与偏振理论 *c[w9(fU 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 <tFq^qB 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: }7 +%k/ r8:"\%"f> 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 xS tsw5d 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: n|&=6hiI K+!e1
' 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 X+N5iT ].kj-,5>f 光栅结构参数 7$Z_'GJ]1C 研究了一种矩形光栅结构。 W1X3ArP]m8 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 $j\>T@ 根据上述参数选择以下光栅参数: V~j^ 光栅周期:250 nm }bca-|N 填充因子:0.5 # euG$( 光栅高度:200 nm ~LpkA`Hn! 材料n_1:熔融石英(来自目录) U|tacO5w` 材料n_2:二氧化钛(来自目录) [;Lgbgt3f 'LPyh ;!f 6[k<&; !>> A@3 偏振态分析 FsJk"$} 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 mI,lW|/l, 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 e[u}Vf 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 v{t
pRL0 7`J2/( d;Y Kw1 BYEZ[cM 模拟光栅的偏振态 -o%? ]S 6c-3+,Y"#
>P~*@>e ?8H{AuLB 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: UzaAL9k 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 p4f9v:b[ 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 cWx`y>< 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 ]VKQm(,0 j
[lS.Lb Passilly等人更深入的光栅案例。 }W}( k2r Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 HL4=P,' 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 A(E}2iP9= }6-olVg
N s0,Z#Z+ 4;Ucas6 光栅结构参数 mN]WjfII 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 #W)m({} 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 B;(U?gC 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 C_Q3^mLx 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 CdRJ@Lf
mbkt7. ,P ~M^[ 光栅#1——参数 [%bGs1U 假设侧壁倾斜为线性。 AH&RabH2 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 r6uN6XCM 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 G4SA
u 光栅周期:250 nm Fnak:R0 光栅高度:660 nm u*2?Gky 填充因子:0.75(底部) 8+|W%} 侧壁角度:±6° zw15r" R n_1:1.46 Vq]ixag2^ n_2:2.08 H~s8M G8+&fn6
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%p 光栅#1——结果 5Z_C(5)/Y 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 ugTsI~aE 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 2YZ>nqy QyVAs ;
a_P|KRl T}^3 Re`i 光栅#2——参数 &j1-Ouy 假设光栅为矩形。 d"Zu10 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 v%T'!(0j/ 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 :<zIWje 光栅周期:250 nm 2)\->$Q(H 光栅高度:490 nm nX3?7"v 填充因子:0.5 li3,6{S# n_1:1.46 "!zJQl@ n_2:2.08 $k0(iFzR1 #&kj> wl]3g E} XmZxHV 光栅#2——结果 1i$VX|r 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 1!(lpp 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 *V',@NH#Os Sk+XBX(} ~|S0E:*. 7u&l]NC?y
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