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    [技术]衍射级次偏振态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-06-27
    光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 U!rhj&n  
    Rs<li\GS  
    A[F tPk{k  
    e==}qQ  
    任务说明 M}]E,[  
    $s*\yam?|  
    WxB}Uh  
    [nO\Q3c|@$  
    简要介绍衍射效率与偏振理论 -Q6njt&  
    某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 G{,X_MZ%  
    如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: -^i[   
    >8$]g  
    其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 x4&<Vr  
    如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: 9%i|_c}  
    ,U\F <$O  
    因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 <g SZt\  
    ]chfa  
    光栅结构参数
    Sl,\  <a  
    研究了一种矩形光栅结构。 kf3 u',}R  
    为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 5E|y5|8fb  
    根据上述参数选择以下光栅参数: n2NxO0  
    光栅周期:250 nm o(=\FNe  
    填充因子:0.5 \>b :  
    光栅高度:200 nm yHY \4OHS  
    材料n_1:熔融石英(来自目录) hmfO\gc}y  
    材料n_2:二氧化钛(来自目录) ~(( '1+  
    g%P6f  
    ^W&qTSjh  
    O$=[m9V  
    偏振态分析 X,)`< >=O  
    现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 n]?KDID;  
    如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 jea{BhdUr  
    为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 lr>P/W\  
    8.9Z0  
    ;7jszs.6%  
    bi^[Eh  
    模拟光栅的偏振态 %r1NRg8  
    u0&QStI  
    z}'-gv\,  
    .c+NsI9}  
    瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 4'Svio  
    在圆锥入射角为0(𝜑=0)时,。这说明衍射光是完全偏振的。 I ,j,H z0  
    对于𝜑=22°,。此时,67%的光是TM偏振的。 ?X'm>R. @  
    对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 ! ^~ ^D<  
    7Nu.2qE  
    Passilly等人更深入的光栅案例 yK1@`3@?  
    Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 Oz3JMZe  
    因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 3PmM+}j3  
    `\}Ck1o  
    re]e4lZ  
    FTVV+9.l:  
    光栅结构参数 _#9F@SCA  
    在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 reBAxmt   
    由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 K{]9Yo  
    由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 zv~dW4'  
    但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 i?{cB!7  
    oGtz*AP%  
    e}xx4mYo  
    光栅#1——参数 (qG}`?219J  
    假设侧壁倾斜为线性。 Nk#[~$Q-1  
    忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 pTQ70V3  
    为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 & xAwk-{W  
    光栅周期:250 nm HLlp+;CF><  
    光栅高度:660 nm I34|<3t$  
    填充因子:0.75(底部) `(2Y%L(r  
    侧壁角度:±6° i[IOR0  
    n_1:1.46 ,Y) 7M3I  
    n_2:2.08 ~AvB5  
    K:<j=j@51  
    !R`E+G@   
    jTeHI|b  
    光栅#1——结果 [}mx4i  
    这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 I_dO*k%l  
    与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 #YiphR&  
    efT@A}sV  
      
    k1.h|&JJN  
    m@,u&9K  
    光栅#2——参数 M:PEY*4H  
    假设光栅为矩形。 cF2!By3M  
    忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 762c`aP_(  
    矩形光栅足以表示这种光栅结构。 ;h7W(NO~z  
    光栅周期:250 nm }xA Eu,n^  
    光栅高度:490 nm rGn6S &-  
    填充因子:0.5 +u[^@>_I0  
    n_1:1.46 ]jB`"to*}  
    n_2:2.08 (:9=M5d  
    2FE13{+f  
    +jPJv[W  
    X-_ $jKfM  
    光栅#2——结果 @'~7O4WH  
    这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 BzXTHFMSy  
    与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 83i;:cn  
       ja-,6*"k  
    )` ^/Dj;  
    A!:R1tTR;S  
     
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    离线zanmous
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    只看该作者 1楼 发表于: 2022-07-20
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