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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 ;S{Ld1; \U<F\i
@]y{M; fRv
S@ 任务说明 H(5ui`' s @=MZ6q Us@ {w`T *'`3]!A 简要介绍衍射效率与偏振理论 npG+#z 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 vBCZ/F[ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: &ESR1$)'P _>_ y@-b 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 ]X"i~$T1 S 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: SCI-jf3WN k?|zIu 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 x=)30y3*; I")"s 光栅结构参数 ?O.6 r" 研究了一种矩形光栅结构。 kw-Kx4 ) 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 nkCRe 根据上述参数选择以下光栅参数: ,<
)/45 光栅周期:250 nm YiI:uG!|D 填充因子:0.5 *`pec3" 光栅高度:200 nm e G*s1uQl 材料n_1:熔融石英(来自目录) 1,;qXMhK`; 材料n_2:二氧化钛(来自目录) Ie`SWg*WL %;B(_ht<-w Lct+cKKU > {LJ#Dc6 偏振态分析 QF.wtMGF& 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 GD6'R"tJ 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 /kviO@jm4( 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 v_1JH<GJ- M;Mdz[Q wHN`-
5% UNZVu~WnF 模拟光栅的偏振态 h?pGw1Q ,n,7.m.D
ReGO9} o y%g{,V 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: H@&"M% 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 x+)hL
D[
n 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 +IOKE\,Y 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 qU
x7S(a BUy}Rn Passilly等人更深入的光栅案例。 3bI|X!j Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 dE9aE# o 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 \8>N<B) fY+ .#V
V\7u Nm:|C 3_I 光栅结构参数 $GfxMt 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 7zkm 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 {*]=qSz 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 #.G>SeTn2} 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 B8#f^}8
A`8}J4 }-]s#^'w 光栅#1——参数 Rx"VscB6z 假设侧壁倾斜为线性。 ea[a)Z7# 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 z )}wo3 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 P@T $6%~ 光栅周期:250 nm qP .VK?jF| 光栅高度:660 nm B xN#Nk~ 填充因子:0.75(底部) zm^p7&ak$ 侧壁角度:±6° kU9AfAe n_1:1.46 ~[X:twidkL n_2:2.08 x?k |i}Q WaO;hy~us
P*^UU\x'4I GH)+yD[o 光栅#1——结果 d5W[A#} 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 /)<7$ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 +z/73s0~ K]azUK7
JC?V].) y5 Fe>#}-` 光栅#2——参数 { dxyBDK 假设光栅为矩形。 D
`3yv
R 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 T=KrT7 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 cngPc]?N 光栅周期:250 nm / z>8XM& 光栅高度:490 nm Z"8cGN' 填充因子:0.5 $G([#N< n_1:1.46 R$'nWzX# n_2:2.08 "%iR-s_>
!{=%l+^. ,T>2zSk ~CTRPH 光栅#2——结果 4'eVFu+62 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 "Q!{8 9Y 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ^Q+5M"/8 H_$f
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