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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 l/g6Tv`w XAw0Nn mq6TwM G"D=ozr 任务说明 HGl.dO7NU W~qVZ(G*U ~1.B
fOR8 tiQeON-Q_ 简要介绍衍射效率与偏振理论 =Cg1I\ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 SKeX~uLz 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: {dXmSuO G e+T[ 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 ^SC2k LI 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: w~wg[d \_l4li 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为。 @e:=
D +
[~)a4# 光栅结构参数 2 pmqP-pKd 研究了一种矩形光栅结构。 z[+Sb; 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 $~)YI/b 根据上述参数选择以下光栅参数: pxb4x#CC 光栅周期:250 nm !yo@i_1D 填充因子:0.5 2wwJ>iR` 光栅高度:200 nm iOJ5KXrAO 材料n_1:熔融石英(来自目录) UAe8Ct=YJ 材料n_2:二氧化钛(来自目录) +sT S1t EFn[[<&><t hI 1or4V TE% i
偏振态分析 C2C1 @=w 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 +=K =B 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 _o7t| pl~ 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 %00cC~}4 )=pa* L30$ =z[$o9 模拟光栅的偏振态 aUk]wiwIR9 XNJ3.w:R *-(8Z>9 se=;vp]3a 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: Y.kgJ #2 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时,。这说明衍射光是完全偏振的。 JFFluL=- 对于𝜑=22°,。此时,67%的光是TM偏振的。 ,ygUy] 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 }#h`1 uV Mj`g84 Passilly等人更深入的光栅案例。 qe'RvBz Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 2Q 5-.2] 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 4W#DLip9 1my1m -&l%CR,U [kf6bf@ 光栅结构参数 R@){=8%z 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 % {-r'Yi% 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 WK0:3q(P 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 Vh?RlIUA 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 (67byO{ X;n09 L`CB &0i$Y\g 光栅#1——参数 l <p(zLR 假设侧壁倾斜为线性。 c
h}wXn 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 WLA&K] 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 jZD)c_'U 光栅周期:250 nm \)?+6D'# 光栅高度:660 nm 7>= 填充因子:0.75(底部) 6j!idA!' 侧壁角度:±6° P=PeWX*L<Z n_1:1.46 <HtGp6q n_2:2.08 e+V8I&% zz!jt
A e_"m\e#N QQHQ3\ 光栅#1——结果 5|cRHM# 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 --EDr>'D5P 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 $6(a6! N<ux4tz Gu@C*.jj! 9c%CCZ 光栅#2——参数 5KP\ #Y 假设光栅为矩形。 !C h1q 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 \B^NdG5Y 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 o".,JnbXl 光栅周期:250 nm +u&[ j/ 光栅高度:490 nm na|sKE;{ 填充因子:0.5 U>OAtiq JX n_1:1.46 Z~<=I }@ n_2:2.08 BeN]D }LeS3\+UHl IJt'[&D &_u.q/~ 光栅#2——结果 ^Ua6.RH8 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 l4dG=x}M] 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 N:+)6a \Z,{De% S~hu(x# fERO(o
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