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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 Y+/lX 6' ".~{:=
~L+]n0* C6&( c 任务说明 7XyOB+aQO cUDg M aP>37s rFL$QC2 简要介绍衍射效率与偏振理论 cVq}c? 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 }+Vv0jX|V 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: u&TdWZe 2#_38=K=@ 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 ,dd WBwMK 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: e"+dTq8W [D'Gr*5~{ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 <2P7utdZ |&hU=J
o 光栅结构参数 1=Ilej1 研究了一种矩形光栅结构。 3,.%
s 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 ]i8c\UV \ 根据上述参数选择以下光栅参数: M'1HA 光栅周期:250 nm nb@" ?<L! 填充因子:0.5 27#8dV? 光栅高度:200 nm i|\{\d 材料n_1:熔融石英(来自目录) }&G]0hCT! 材料n_2:二氧化钛(来自目录) mT_GrIl[ U 0ZB^` |tG+iF@4 v29G:YQe 偏振态分析 <4D%v"zRP 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 nJVp.*S 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 *PM}"s 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 R.7#zhC`4 .T3=Eq&"W TvrwVL) =%h~/, 模拟光栅的偏振态 FpkXOj?* "]]q} O?
O2H/rFx4 Y5jYmP< 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: .u< U:* 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 p~bkf> 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 i;lE5 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 *:arva5 $au2%NL Passilly等人更深入的光栅案例。 XN;/nU Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 56s*A*z$
; 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 /Antb6E /{G/|a
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10:%WGc dB`b9)Tk0z 光栅结构参数 KF{a$d 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 [$2qna2VP 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 >}F? <JB 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 &N{zkMf 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 D_aR\
# ,P(isEZ" 9N}W(> 光栅#1——参数 om7`w
] 假设侧壁倾斜为线性。 mG}k 3e- 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 A[ 1)!e 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 +{xG<Wkltz 光栅周期:250 nm 5<r)+?!n 光栅高度:660 nm &PWf:y{R` 填充因子:0.75(底部) |!5@xs*T 侧壁角度:±6° |E|T%i^}./ n_1:1.46 f%1wMOzx n_2:2.08 B*Cb6'Q +UaO<L
&enlAV'#)O U]j&cFbn5_ 光栅#1——结果 8OBF^r44R 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 {Pvr??"r 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 36i_D6 B'/Icg.T
P6E1^$e
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X0t" 光栅#2——参数 G 4"lZM 假设光栅为矩形。 feg`(R2 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 (lb`#TTGx 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 Hf.xd.Yw 光栅周期:250 nm Dtt\~m;AR 光栅高度:490 nm G,/Gq+WX 填充因子:0.5
4I1K vN<A n_1:1.46 UNY@w=]< n_2:2.08 V*kznm >";%2u1 :b,o B==% _"v~"k 90^ 光栅#2——结果 H>Sf[8w)% 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 vF+YgQ1H 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 zCM^r <Kr g`
kZT} h ec`>KuY 5#BF,-Jv
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