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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 ySPlyhGF qcpG}o+&D
+aXMH T"U =DQd PA\K 任务说明 QI
:/,w {d*qlztO k *zc5ev} 8k* 简要介绍衍射效率与偏振理论 F|h,a;2 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 CrQA :_Z(7 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: `% #zMS w<8O= 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 :_I
wc= 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: 8as$h*Wh 5KA
FUR0 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 P_^|KEz wj";h Aw 光栅结构参数 h!X'SGK 研究了一种矩形光栅结构。 K2cp f 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 8) ebXc 根据上述参数选择以下光栅参数: \M3NasZ 光栅周期:250 nm +Y>cBSO 填充因子:0.5 y:^>(l #; 光栅高度:200 nm X,C/x) 材料n_1:熔融石英(来自目录) qQ?,|4)y 材料n_2:二氧化钛(来自目录) ]
_]6&PZXk OJC*|kN-#^ Jte:l:yjtA [/#k$- 偏振态分析 sWpRX2{5, 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 !m/Dd0 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 h9)]N&07b 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 eiNk]KXAYX VUg~[ "*H'bzK V+"*A 模拟光栅的偏振态 t"Vr;0!{ ;29X vhS8
K:lT-*+S fv 1!^CDia 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: j8ohzX[Y 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 xhVq 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 zLIa! -C 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 XQg%*Rw+t {bq-: CZe Passilly等人更深入的光栅案例。 >TJKH^7n Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 =ty@xHr 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 O]4
x;`) $/U^/2)
FO3eg"{N 9rvxp; 光栅结构参数 ,h)T( 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 Xy(SzJ% 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 ;?L[]Ezzt 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 dxhjPS~^Q 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 qKb-aP-
uZ39Vx S5[RSAbf*t 光栅#1——参数 W;AWO0+ 假设侧壁倾斜为线性。 AB|VO4-? 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 X-) ]lAP 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 2KNKdV3NK 光栅周期:250 nm }W>[OY0^A 光栅高度:660 nm d}B_ll#j- 填充因子:0.75(底部) ?0)XS< 侧壁角度:±6° tH|Q4C n_1:1.46 QT&Ws+@
s{ n_2:2.08 W/F4wEODY hm} :Me$[)
sN`o_q{Q ZK_@.O+ ] 光栅#1——结果 >b"z`{tE 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 R(Pa Q 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 DP'Dg /D JX,#W!d
#WmAkzvq N(/<qv 光栅#2——参数 4a50w:Jy] 假设光栅为矩形。 u|*|RuY 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 C-b% PgA 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 ~ z&A 光栅周期:250 nm Am`A[rV0 光栅高度:490 nm )B5gs%u] 填充因子:0.5
G?1V~6 n_1:1.46 I)/7M}t` n_2:2.08 %oKc?'L0 V+<AG*[ {-]HYk d"`>&8* 光栅#2——结果 v2X0Px_ 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 8!`.%)- 4 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 eeTaF!W nZ+5@(
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