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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 t%
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[Yo3=(7J AY{-Hf& 任务说明 }:5_vH0 :[;]6; 6}Se$XMl FtaO@5pS54 简要介绍衍射效率与偏振理论 {u3eel 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 8VbHZ9Q 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: L/2{}l>D zh5$$*\
其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 9ANC,+0p 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: LaI( .T*K4m{b0 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 pF)}< <C 28 h3Ayw4 光栅结构参数 qTbY'V5A 研究了一种矩形光栅结构。 f.V1 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 yv.Y-c= 根据上述参数选择以下光栅参数: G#V}9l8Q 光栅周期:250 nm 'dE G\?v9 填充因子:0.5 OYcf+p"<\ 光栅高度:200 nm 4)'8fi 材料n_1:熔融石英(来自目录) bjgf8427I 材料n_2:二氧化钛(来自目录) TTg>g~t` Q.5C$I Mx?{[zT" ' 0iXx 偏振态分析 )&G
uZ 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 ,@+7(W 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 h@{U>U7 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 ;>*l?m-S@n | aH;@V ]Y#$!fIx ENlqoj1 模拟光栅的偏振态 ,|gX?[o kcy?;b;z
g~ tG 7X3<8:% 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: O34'c_ fZ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 %w
<59d6 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 {}Y QB'} 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 @\[UZVmBw D- )jmz>R Passilly等人更深入的光栅案例。
:e-&,K Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 .@0 i,7S 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 Dq/ _#&S K`!q1g`
x:TBZh?@$ R} nY8zE 光栅结构参数 [@Hv, 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 /0(2PVf
y 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 ]h0Fv-[A 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 K&(}5`H0= 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 IY@)
&KfRZ`9H $y!k)"k 光栅#1——参数 JTcK\t8 假设侧壁倾斜为线性。 >G`=8Ku 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 6d~[M y 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 S>~QuCMY 光栅周期:250 nm 7
4rmxjiN 光栅高度:660 nm 8Z;wF 填充因子:0.75(底部) vkmTd4g 侧壁角度:±6° %G9:M;|' n_1:1.46 q2VQS1R`8 n_2:2.08 ien >Ou n7~!klF-
<UJgl{- 6l|pTyb1 光栅#1——结果 (5@9j 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 sY?pp
'}a 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 6x\+j h,Y MR3:X
'U<-w$!f+^ YQ>P{I%J 光栅#2——参数 9wLV\>i[k 假设光栅为矩形。 {Y{*(5YV 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 HjTK/x'_'L 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 Y$3H$F.+ 光栅周期:250 nm <wwcPe} 光栅高度:490 nm RYMOLX84 填充因子:0.5 \XR%pC n_1:1.46 9NwA5TP9_ n_2:2.08 ]}Hcb)'j@ ua(y! Im E?|"?R,,, ehO@3%z30c 光栅#2——结果 (;=:QjaoZ 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 kzCD>m 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 u/FnA-L4 {t: ZMUV \(_FGa4j =Haqr*PDx
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