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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 %5'6Tj )0 Z! n
gBw^,)Q{0Y i775:j~zx0 任务说明 Qs 2.ef? DocbxB={I ~2*9{ j]4,<ppWSH 简要介绍衍射效率与偏振理论
Gwec4D 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 Sb&lhgW]c 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: k[|~NLB8 {,$rkwW 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 P Ru&3BP 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: -yH,5vD @tUoD>f 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 m\u26`M Q(7ob}+jQ 光栅结构参数 1+kE!2b;b 研究了一种矩形光栅结构。 ;@mRo`D` 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 B|=|.qp$) 根据上述参数选择以下光栅参数: f i~I@KJ> 光栅周期:250 nm *A}WP_ZQ 填充因子:0.5 X JGB)3QI 光栅高度:200 nm w`HI]{hE~N 材料n_1:熔融石英(来自目录) f'En#-?O 材料n_2:二氧化钛(来自目录) vv0Q$
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u_O# @eOc ,?cH"@RJ 6cS>bl 偏振态分析 r4}*l7Q 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 9i$NhfOe 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 T/r#H__` 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 ^-)txC5{T %8.J=B ]2SF9p_ AG6K
daJ 模拟光栅的偏振态 {d3<W N "h"NW[R
3)Ac"nuyqH dE`-\J 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: yx{3J
在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 dR^"X3$ 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 G%lu28}D 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 =^DLywAh}u M" lg%j Passilly等人更深入的光栅案例。 b-5y9 K Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 m6mwyom. 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 yzsab ^] e(
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X"MU3] |`d0^(X 光栅结构参数 v;1F[?@3Y 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 wE\3$ s/{D 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 z;\d L 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 W;6vpPhg#! 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 tAu4haa4;
VR{+f7:} "Dcs])7Q 光栅#1——参数 {No L 假设侧壁倾斜为线性。 | t QiFC 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 cE'L% Z 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 |Hr:S":9 光栅周期:250 nm ,"0)6=AE 光栅高度:660 nm #K\?E.9h 填充因子:0.75(底部) FCj{AD 侧壁角度:±6° 3riw1r;Q n_1:1.46 z&8un%Jt n_2:2.08
UO Ug 4 9Z"+?bv/
IeX^4rc( oEz%={f 光栅#1——结果 #V02hs1 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 i+3fhV 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 Joe_PS SzDKByi
EpJ4`{4 K0+.q?8D| 光栅#2——参数 MTGiAFE 假设光栅为矩形。 :wqC8&V 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
6M.;@t,Y 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 I&|f'pn^< 光栅周期:250 nm f$HH:^# 光栅高度:490 nm qo6y %[ 填充因子:0.5 &hIRd,1# n_1:1.46 <+#oBN n_2:2.08 _Us*+
2(4L ^i)hm i`(^[h
?; ^E`(*J/o 光栅#2——结果 "<+ih0Ma 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 X@)z80 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 RF!a// DciwQcG M@1r:4CoKH {Hmo1|_S|
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