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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 : cF[(i/k4 VU&7P/\f%
U56G. %= fHu+ 任务说明 L&u$t}~) c_vqL$Dl xa <UM5eI uTKD 4yig 简要介绍衍射效率与偏振理论 P} 0%-JC 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 2zs73:z 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: P_*" dza BT}!W`
其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 ]sE?ezu 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: j$?{\iXZ 7f0lQ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 6]W=nAD i*/Yz*< 光栅结构参数 k'Sp. 研究了一种矩形光栅结构。 ^eo|P~w
g 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。
^,/RO5 根据上述参数选择以下光栅参数: TFkZp e; 光栅周期:250 nm `f*Q$Ulqx 填充因子:0.5 Rb%8)t
x 光栅高度:200 nm G
8g<>d{j 材料n_1:熔融石英(来自目录) $W!!wN=B 材料n_2:二氧化钛(来自目录) B?'#4J inh=WUEW eHn7iuS8 SqEgn}m$ 偏振态分析 +@p%
p 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 +
HK8jCa 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 ]G5w6&d 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 I%sFqh> JM x>][xD }BZ"S-hZ Ji>o! 模拟光栅的偏振态 :6vm+5! l49*<nkmq
<<+\X:, 3%E }JU?MM 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: $\]&rZVi 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 eYN5;bx)W 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 PIu1+k.r? 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 S|7!{} q7_ m&-0) Passilly等人更深入的光栅案例。 a
yCY~=i Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 ;<Ar=? 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 BK)$'AqO [5G6VNh=
`$,GzS ( Xejo_SV&? 光栅结构参数 iOU6V 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 1FlX'[vh 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 8ZM&(Lz7u 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 pEBM3r!X 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 K{|p~B
eJxw)zd7 OBOtu u. 光栅#1——参数 D^l%{IG
假设侧壁倾斜为线性。 g!lWu[d 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 Cs9.&Y 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 W+UfGk}A 光栅周期:250 nm iBF|&h(\ 光栅高度:660 nm sz:g,}~h 填充因子:0.75(底部) mZSD( 侧壁角度:±6° [@J/eWB n_1:1.46 A
mNW0.} n_2:2.08 ,l!Ta" [fAV5U
-I8=T]_D _P0T)-X\( 光栅#1——结果 YB(Q\hT~\; 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 (7*%K&x 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
coW:DFX B8": 2HrW$
(gP)% R=gb' 光栅#2——参数 s/$?^qtyC 假设光栅为矩形。 c0,0`+2~ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 T ]t'39 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 f .Q\Z'S^ 光栅周期:250 nm o /j*d3 光栅高度:490 nm 63\/ *
NNB 填充因子:0.5 &e @2 n_1:1.46 F*IzQ(#HW n_2:2.08 CyS$|E ;LcZ`1 ,:%CB"J "W6uV! 光栅#2——结果 rDm~h~u5 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 3{'Ne}5%I 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 7m4aoK 4!Fo$9 GeyvId03H ]{3)^axW;
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