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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 wH<'*>/ -J`VXG:M
bMrR ag7(nn0! 任务说明 Y\e8oIYu7 hd'JXKMy 88}=VS "Q[rM1R 简要介绍衍射效率与偏振理论 v)!C
Dpw 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 :
U Yn 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: V+Tu{fFF7E egd%,` 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 M?nYplC 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: x,+2k6Wn! dB=aq34l 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 T+q3]& (c'kZ9& 光栅结构参数 mZgYR~ 研究了一种矩形光栅结构。 S+LS!b 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 jkrv2 `" 根据上述参数选择以下光栅参数: ;r1.Uz( 光栅周期:250 nm W,53|9b@ 填充因子:0.5 xV}ybRKV 光栅高度:200 nm =_@Q+N*]|( 材料n_1:熔融石英(来自目录) 6%^9`|3 材料n_2:二氧化钛(来自目录) h%0FKi^ #A@d;U% zg[.Pws:E M#5*gWfq9 偏振态分析 `Cv@16 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 br[n5 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 8euh]+ 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 ,xzSFs>2 vp_$Ft-R / DC\F5 G -:jC.}
Y 模拟光栅的偏振态 w<o#/J9 m`Dn R`+
Cr;d
!= B'U;i5u4' 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 7k==?,LG3 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 /iwL$xQQ 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 qbunP! 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 @:M?Re`L "{X_[ Passilly等人更深入的光栅案例。 LL}b]B[ Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 @0qDhv s 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 )h&*b9[B= 4or8fG
k@RIM(^t M?FbBJ`sF 光栅结构参数 Q*c |!<
&e 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 1}#RUqFrvS 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 z!0}Kj 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 sO;]l"{< 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 \.AI;^)X@]
V!3.MQM RO9oO7S 光栅#1——参数 MV,;l94?%= 假设侧壁倾斜为线性。 Z^?Y TykH 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 |-'.\)7: 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 `
g5S 光栅周期:250 nm ,TdL-a5 光栅高度:660 nm gL-\@4\wc 填充因子:0.75(底部) HHMv%H]M 侧壁角度:±6° ==W`qC4n?n n_1:1.46 8g!C'5 n_2:2.08 |AS`MsbI9 (!iGQj(m
Zt7Gf 9tZ+?O5 光栅#1——结果 UN"U#Si) 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 _;x7vRWmN 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 DX$zzf MY$-D+#/`
K7
N)VG R/UL4R,)^ 光栅#2——参数 F#az& 假设光栅为矩形。 [L+VvO%cT 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 G'\x9% 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 Q x]zz4jD 光栅周期:250 nm nRL2Z5iO- 光栅高度:490 nm kl90w 填充因子:0.5 h+! n_1:1.46 _);;@T n_2:2.08 #VA8a=t z#|#Cq`VG zs_^m1t1s ~LKX2Q:S 光栅#2——结果 CaV>\E) 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 3 IK+&hk 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 @jp}WwC/ Wz^M*=, ,7{}}l ]PI|Xl
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