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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 bKaV]Uy Ua3ERBX{
T<=\5mn t[
MRyi)LF 任务说明 aY+>85?g '}Y8a$(;V |O+binq p.IfJ| 简要介绍衍射效率与偏振理论 Y\x
Xo? 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。
^~ I 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: J)[(4R> tr} $82Po 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 sR0nY8@F 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: ?{dno= \5l}5<| 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 8UZEC-K *Ee# x!O 光栅结构参数 ixkg, 研究了一种矩形光栅结构。 %~[F^ 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 / L8=8 根据上述参数选择以下光栅参数: 0nuFWV 光栅周期:250 nm [6tQv<}^ 填充因子:0.5 Aws
TDM 光栅高度:200 nm O#|E7; 材料n_1:熔融石英(来自目录) m1hf[cg 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 8|/YxF< Vqr&)i"b$ j?(QieBH w$!n8Aqs 偏振态分析 W2k~N X#@ 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 ,O+7nByi[V 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 RPWYm 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 ?m.4f&X N@>S>U8C M@3H]t? 4c yv
8 模拟光栅的偏振态 Ui.F<,E VQ;=-95P
koU.`l. b,W'0gl 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 8K/lpqw 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 Kna'5L5" 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 5W48z%MN
对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 Z-?9F`} )wRD Passilly等人更深入的光栅案例。 CAA~VEUL Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 Mg$Z^v|}0 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 UTt#ltun ? vX\e*
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uwka 2aSS 2o/`8+eJu 光栅结构参数 +*q@= P, 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 on\\;V_/Q 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 2 *$n? 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 5dk,!Cjg 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 `vSsgG
4@I]PG v#FUD-Z 光栅#1——参数 /WfxI>v 假设侧壁倾斜为线性。 (Wqhuw!u 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 u"jnEKN0y 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 d8#j@='a* 光栅周期:250 nm S8VR# 光栅高度:660 nm ,Mc2dhq 填充因子:0.75(底部) rWXW}Yg 侧壁角度:±6° xTMTkVa+B n_1:1.46 P$Q&xN<#) n_2:2.08 w$4Lu"N: UJ[a&b
=.a ]?&Yyh
P+0xi 光栅#1——结果 `9l\~t(M
这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 KF)i66 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ,GIqRT4K &?6w2[}
t,,^^ll mtHz6+ 光栅#2——参数 U^&Cvxc[[ 假设光栅为矩形。 P1n@E*~V5 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 F948%?a 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 (SK5pU 光栅周期:250 nm rUjr'O0 光栅高度:490 nm r.;iO0[/ 填充因子:0.5 df& |Lc1J n_1:1.46 C5UDez n_2:2.08 8)8oR&(f =1\wZuK# C6~dN&q nif'l/@" 光栅#2——结果 UAZ&*{MM^ 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 !++62Lf 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 (02(:;1 ASw|sw 5FI>T=QF w.p'Dpw
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