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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 }?*$AVs2q >VJ"e`
@2sr/gX^ 6M[OEI5 任务说明 or(P?Ro v!#koqd1y. J
IE0O` $U'*}S 简要介绍衍射效率与偏振理论 e\}'i- 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 HE-ErEtGB 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 'OU`$K7n *JO%.QNg 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 ~BgNMO;| 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: n`D-?]* $\L=RU!c} 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 >0cg c1<jY~U 光栅结构参数 u6
4{w, 研究了一种矩形光栅结构。 :H/Rhx= 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 j rg B56LL 根据上述参数选择以下光栅参数: 8Rnq
&8A 光栅周期:250 nm EQX?Zs?C 填充因子:0.5 =cI> { 光栅高度:200 nm 'JJ : 材料n_1:熔融石英(来自目录) VP^{-mDph 材料n_2:二氧化钛(来自目录) x5k6"S"1, 5>-~!Mg1 J"fv5{ %Lom#:L' 偏振态分析 B % 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 Z& bIjp 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 -ug-rdXV 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 jWK>=|)=c [6%y RQ_ [jTZxH< X\5EF7:S 模拟光栅的偏振态 ootkf= 7TA&u'
mzcxq:uZ5 Y r8gKhv W 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: yS4nB04`= 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 _r`(P#Hy 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 ygxaT"3"= 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 )jMk~;'r 3m"9q Passilly等人更深入的光栅案例。 twp~#s:\z Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 RA}Y$ }^#' 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 Ju_(,M-Vgr \7Fp@ .S3
US&:UzI. \j0016; 光栅结构参数 zS `>65}e 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 O>IG7Ujl 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 wdRk+ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 uP1]EA 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 )_K:A(V>
XXb,*u 3 6\m'MV`R! 光栅#1——参数 L/,M@1@R 假设侧壁倾斜为线性。 <H|]^An!H 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 >t4<2|!(M 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 D;Y2yc[v 光栅周期:250 nm Kp[5"N8 光栅高度:660 nm H4BuxM_r 填充因子:0.75(底部) GX N:= 侧壁角度:±6° G.qjw]Llf n_1:1.46 qcfg 55]'c n_2:2.08 ,1i l& lht :%Ts$
on f7V *-s':('R 光栅#1——结果 :(i=> ~O 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 Zc=#Y 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 hho\e
8 Pa/2]) w
SKJ'6*6 Fb^,%K: 光栅#2——参数 |q 0iX2W 假设光栅为矩形。 Kj+TPqXb 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 `12Y2W 9 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 =l%|W[OO 光栅周期:250 nm t=n@<1d 光栅高度:490 nm /[|A(,N}{ 填充因子:0.5 /%P,y+<}iG n_1:1.46 OmaG|2u n_2:2.08
!-8y;,P $3(E0\#O 67 wq8| D#11
N^-K 光栅#2——结果 nc:K!7: 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 S,#UA%V" 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ;uqi m"vWu0/# n ZzGak %&iWc_"
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