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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 xqP0Z),Ow 4z#CkT
[<wy@W QHP^1W` 任务说明 /RX7AXXB *'d5~dz= +8Peh9" .IF dJ 简要介绍衍射效率与偏振理论 lba*&j]w= 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。
;wW6x 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: Y]Su<tgX? YV!!bI 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 %{zM> le9 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: _'2r=a#` tE>3.0U0Q 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 JC>}(yQA , LcMNP r 光栅结构参数 7:bqh$3!s 研究了一种矩形光栅结构。 E+E5`-V 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 -[^wYr= 根据上述参数选择以下光栅参数: f} Uw%S=w, 光栅周期:250 nm |7|mnOBdDf 填充因子:0.5 <=A&y5o 光栅高度:200 nm <@JU0Z"a= 材料n_1:熔融石英(来自目录) -z'@Mh|i6l 材料n_2:二氧化钛(来自目录) JXPn
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`kekc.*-[@ qn+m lduU 61jDI^: 偏振态分析 E62*J$wN@ 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 !p0FJ].g, 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 !Z4,UTu|Q 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 oL VtP !Y\hF|[z M~"]h:m&'v K
=7(=Y{ 模拟光栅的偏振态 Kl+*Sp! 0n(Q@O
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$1Xg[>1g5 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: f oL`{fA 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 @B&hR} 4 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 F},JP'\X 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 #jDO?Y Sa 4SG[_:+! Passilly等人更深入的光栅案例。 9wtl|s%A% Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 vo0[Z,aH5 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 v- {kPc=:# gO$!_!@LM
(8H^{2K~ '}!dRpx 光栅结构参数 Aq";z.gi+ 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 F"0tv$ 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 SKcAZC 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 g|n Pr)< 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 ja9y
rH-_L& /CX<k gz@ 光栅#1——参数 'i`;Frmg 假设侧壁倾斜为线性。 ]+@b=J2b 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 /ox}l<ha 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 hob%'Y5%D 光栅周期:250 nm Ay56@_d2 光栅高度:660 nm ,l@hhaLm? 填充因子:0.75(底部) WcqYpPv 侧壁角度:±6° ~Q6ufTGhpM n_1:1.46 hwC3[' n_2:2.08 JFZZ-t;* M
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F]~`57 >O?EFd>E 光栅#1——结果 !hJKI.XH 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 l'o'q7&=z 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 P+Hs6Q 8E$KR:/:4
T>1E 7H./o Vl 光栅#2——参数 z{tyB 假设光栅为矩形。 $/pd[ H[{ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 [!DLT6Qk 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 5HJ6[.HO 光栅周期:250 nm {@C+Js5 光栅高度:490 nm yfaXScbE 填充因子:0.5 %q:V n_1:1.46 8-+IcyUza n_2:2.08 vU~#6sl .}z&$:U9[ 3RGVH, G>H&M#7K 光栅#2——结果 KDCq::P< 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 Ai/ay# E 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 1Z*-@%RX tAaFIIvY *t*yozN Ip<STz]-
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