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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 !I UH 5 JIYZ
TQjM3Ri=V |."thTO 任务说明 Obl,Qa:5 LNU#NJ^Axt
Z'ZN^j{ |OVD*A 简要介绍衍射效率与偏振理论 UwQyAD]Ht 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 #sg^l>/* 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: gbclk~kX :~gG]|F 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 *^WY+DV 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: E#I^D/0 `~S; UG 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 1|8<!Hx#- X7~AqG 光栅结构参数 DFUW^0N 研究了一种矩形光栅结构。 99]&Xj 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 Q&d"uLsx 根据上述参数选择以下光栅参数: '
6#en9{L 光栅周期:250 nm <T0+-]i 填充因子:0.5 YlP8fxS 光栅高度:200 nm =u,8(:R]s 材料n_1:熔融石英(来自目录) J<'7z%2w 材料n_2:二氧化钛(来自目录) +_E\Omcw 8E:d!?<^&I A@I ( &Z Ce%fz~*b 偏振态分析 ZY Ci&l 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 fZ6"DJZ 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 b+rn:R 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 S7fX1y[ >I^_kBa sBuOKT/j @|hn@!YK 模拟光栅的偏振态 FWJhi$\:D] "N\tR[P!
| @Mx?( BIM!4MHLA 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: "F3M m 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 8U$(9X 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 =8!FY"c* 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 2U
Q&n` A <RFT W}f! Passilly等人更深入的光栅案例。 aGRD`ra Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 TODTR7yGo 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 F CbU> 1R n( } zq
~t ` uq c<c"n' 光栅结构参数 ;94e 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 3tZC&!x? 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 'q:t48& 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 QwaAGUA 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 4*vV9*'!
Y>l92=G )8rN 光栅#1——参数 TcP
(?v 假设侧壁倾斜为线性。 d>f.p"B.gj 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 0M=U>g) 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 AzmISm 光栅周期:250 nm eInx\/ 光栅高度:660 nm k m(Mv 填充因子:0.75(底部) hj_%'kk-A 侧壁角度:±6° wj$J}F n_1:1.46 42Vz6 k: n_2:2.08 ktu{I @2>j4Sc
2Y` C\u 3S97hn{|= 光栅#1——结果 ~$PQ8[= 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 ha%3%O8Z 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 vj?6,Ae "{&?t}rj+
ycr\vn
t 1$]hyC/f 光栅#2——参数 s?JNc4q 假设光栅为矩形。 h ?Ni5 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 wy1xZQ<5 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 :k"VR,riF 光栅周期:250 nm O6[, K1, 光栅高度:490 nm x<S?" 填充因子:0.5 c~0hu*& n_1:1.46 )U~,q>H+
% n_2:2.08 O'OVj *_aeK~du. eVVm"96Q.; g20,et 光栅#2——结果 tY1M7B^~ 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。
Y\Z.E; 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 r fl-(_3 u+&t"B 7({"dW F@76V$U.
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