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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 ;p(Doy)i PiX(Ase
T,4REbm^ rIj B{X{Z 任务说明 y(r(q LC/%AbM L<N=,~ 04E#d.o' 简要介绍衍射效率与偏振理论 ,5|@vW2@u 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 4L2TsuLw 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 2CPh'7|l \//{\d 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 )9rJ]D^B 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: 4V5h1/JPm Kx,<-]4 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 ?CuwA-j z`y^o*qc] 光栅结构参数 OmECvL'Z 研究了一种矩形光栅结构。 xNxSgvco, 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 oSs~*mf 根据上述参数选择以下光栅参数: lLL) S 光栅周期:250 nm Jpo(O>\P 填充因子:0.5 meyO=> 光栅高度:200 nm Cy\! H&0wg 材料n_1:熔融石英(来自目录) Dn.%+im-u 材料n_2:二氧化钛(来自目录) :\G`}_db' SfwNNX% )L7h:%h# ~@VyJT% 偏振态分析 $)M5@KT 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 \w@ "`!% 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 @avG*Mr^ 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 -xU4s BP0*`TY fUS1` UJQGwTA W 模拟光栅的偏振态 hW-?j&yJ? (wZ/I(4
A#Jx6T`a kG3m1: : 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: =E-V-?N\ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 :0j_I\L 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 IX 2 dic' 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 p6W|4_a? nHF%PH#|o Passilly等人更深入的光栅案例。 >Y"Ru#Ju9 Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 ]F*fQNcjy 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 UB|}+WA3 di]TS9&9
UrEfFtH' y^hCO:`l3 光栅结构参数 #Q61c 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 F>[T)t{m= 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 c^EU&q{4 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 phqmr5s^H 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 ^;a~_9
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oD&axNk =^`?O* /; 光栅#1——参数 4b:q84 假设侧壁倾斜为线性。 3/0E9' 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 bGe@yXId5 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 xv>]e <": 光栅周期:250 nm n]fMl:77 光栅高度:660 nm {#4F}@Q 填充因子:0.75(底部) gano>W0 侧壁角度:±6° &'<e9 n_1:1.46 Vo8gLX]a n_2:2.08 X6SWcJtSw bE>"DPq
)@[##F2 `(o:;<&3 光栅#1——结果 _%:$sAj 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 ^n&_JQIXb 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 h0)Dj(C 2c1L[]h'
&Na,D7A:3I H[D<G9: 光栅#2——参数 0*yD
假设光栅为矩形。 db`L0JB 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 r6gfxW5 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 ZfP$6%;_ 光栅周期:250 nm 4Be'w`Q { 光栅高度:490 nm u4vyj#V 填充因子:0.5 szC<ht?z n_1:1.46 H?_>wQj& n_2:2.08 K26`wt 8(ej]9RObU 5L\&"[' @jY=b< 光栅#2——结果 x>$e* 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 wGg_ vAn 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 Cd2A&RB +o-jMvK9 i8->3uB dTZ$92<
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