抛光常见疵病产生原因及克服方法 < lrw7 T
印迹 G#Ow>NJ
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 /'(P{O>{j
2)玻璃化学稳定性不好 ?`>yl4
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 C*!_. <b
克 服 方 法 Yt^+31/%
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 (XH)1 -Z!
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 KI{u:Lbi
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 Jd;1dYkH:
光圈变形 LzfLCGA^
1)粘结胶粘结力不适 &.,OvVAo
2)光圈未稳定既下盘 /a_|oCeC}
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) dEiX! k$ #
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 8] *{ i
克 服 方 法 A VjtK
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 N_0O"" d
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 2~)]E#9
3)刚盘定期进行检测和修正 ) 9 4R\f
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 e| LXH/H
麻点： ^9nM)[/C?
产 生 原 因 o%.cQo=v*
1) 精细磨、抛光时间不够 rSk $]E ]Z
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 "n:9Jq Pb
3)有粗划痕抛断后的残迹 83a
Rq&(R
4)方形或长方形细磨后塌角 b/EvcN8 }
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 a #1X )ot
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 F\e'z
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 ^ =ikxZyO
克 服 方 法 , ]MX&]
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 dXj.e4,m
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 /d4xHt5a
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 4$^=1a x
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 L 0Cf@~k
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 [Dhc9
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 U
uys G\
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
