抛光常见疵病产生原因及克服方法 ?;_>BX|Zjl
印迹 t, dm3+R
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 x@QNMK.7
2)玻璃化学稳定性不好 w3"L5 ;oH
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 ~ +>e hU
克 服 方 法 '.;{"G.@'
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 V@T(%6<|
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 WR`NISSp
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 (hdu+^Qj=
光圈变形 ~ b m'i%$k
1)粘结胶粘结力不适 oPF]]Imu
2)光圈未稳定既下盘 jDqG9]
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) VH~YwO! x
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 b- e
克 服 方 法 oGB|k]6]|
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 x{8h3.ZQ,
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 N6of$p'N
3)刚盘定期进行检测和修正 Y)]C.V,~
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 L -:@Om!
麻点： 0 }qlZFB
产 生 原 因 <K<#)mcv
1) 精细磨、抛光时间不够 5-$D<}Z
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 ;3wO1'=
3)有粗划痕抛断后的残迹 en ZZ+|h
4)方形或长方形细磨后塌角 L'S,=NYXY
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 '8\9@wzv
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 ?>7-a~*A@
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 9M3"'^ {$
克 服 方 法 /5/gnp C
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 c ?EvrtND
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 9]w?mHslE
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 IQ_s]b;z
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 Hnk&2bY
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 hm d3W`8D
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 |idw?qCn
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
