抛光常见疵病产生原因及克服方法 DJ& ni`
印迹 3PRg/v D3
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 YY{0WWua
2)玻璃化学稳定性不好 tc-pVw:TV
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 o>Fc.$ngZ
克 服 方 法 bcx,K b
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 </xz
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2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 ] oOSL=~c
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 ~nQ= iB
光圈变形 cV;<!f+
1)粘结胶粘结力不适 U&F1}P$fb
2)光圈未稳定既下盘
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3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) q, Oj
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 VkF vV><"
克 服 方 法 pr~%%fCh
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 >z{*>i,m1
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 =7 ^rKrD
3)刚盘定期进行检测和修正 PhUG}94
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 TRLz> m Q
麻点： ,K/ l;M5I
产 生 原 因 K)ZW1d;
1) 精细磨、抛光时间不够 m-x nbTcQ
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 RSv?imi=
3)有粗划痕抛断后的残迹 V(gmC%6%l*
4)方形或长方形细磨后塌角 ,\){-H/n
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 5OJ8o>BF
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 0iKSUw ps
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 cd&^ vQL8
克 服 方 法 Gy;>.:n
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 &*Sgyk
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2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 9+i rf^D`O
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 kdgU1T@y.
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 7LFJi@*8
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 st_.~m!/
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 mB\)Q J.%
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
