抛光常见疵病产生原因及克服方法 hutdw>
印迹 &:}}T=@M1
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 wU(N<9
2)玻璃化学稳定性不好 bG&vCH;}%
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 T.B} k`$
克 服 方 法 w hb,2=gIE
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 H;kk:s'
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 oV, lEXz
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 & 8'QD~
光圈变形 FTT= h0t
1)粘结胶粘结力不适 kXY p.IVA
2)光圈未稳定既下盘 P%_PG%O2p
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) Y>a2w zr
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 wfY]J0l
克 服 方 法 j` LvS
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 .p?kAf`
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 rwCjNky!
3)刚盘定期进行检测和修正 a/s6|ri`0
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 A;e0h)F$-
麻点： /Z m5fw9
产 生 原 因 6fcn (&Qk
1) 精细磨、抛光时间不够 +x:-W0C:
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 !P uW6
3)有粗划痕抛断后的残迹 kf >L
4)方形或长方形细磨后塌角 ` 8OA:4).
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 01AzM)U3"m
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 F]k$ O $)0
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 A_xUP9g@?
克 服 方 法 VSQxlAGk@
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 ~vv\A5O[|
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 HS[N]'dc
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 xGVL|/?8
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 N %" /mcO
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 & GM&,
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 }5{#f`Ca6
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
