抛光常见疵病产生原因及克服方法 R,=fv
印迹 26x[X.C:
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 Nu~lsWyRI5
2)玻璃化学稳定性不好 0Z]!/AsC
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 VTHH&$ZNq
克 服 方 法 ]L}dzA?:
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 @2v_pJy^
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 4]}'Hln*U
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 yyy|Pw4:Z
光圈变形 Hl
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1)粘结胶粘结力不适 i8HTzv"J
2)光圈未稳定既下盘 ('p 5:d
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) I ?.^ho
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 {3vNPQJ
克 服 方 法 ?p8_AL'RS
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 gt w Q-
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 ,U dVNA
3)刚盘定期进行检测和修正 WQO) = n
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 K8Y=S12Ti
麻点： x ` )&J
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产 生 原 因 T: W4$P
1) 精细磨、抛光时间不够 G[q $QB+
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 5bpEYW+
3)有粗划痕抛断后的残迹 BsYa3d =}
4)方形或长方形细磨后塌角
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5)零件在镜盘上由于加工造成走动 A j]V`B:65
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 -v|qZ'
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 1|-D j|
克 服 方 法 wZZ t
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 *<ewS8f*6
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 fPW @{~t
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 q{;:Sg Z
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 s .NGA.]$
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 a-L;*
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 G+|` 2an
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
