抛光常见疵病产生原因及克服方法 i-wRwl4aEF
印迹 7=Muq]j2
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 ht2Fi e
2)玻璃化学稳定性不好 f`Fj-<v
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 ch8VJ^%Ra1
克 服 方 法 ,pD sU @
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 0FcDO5 ia
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 rQ* w 3F?:
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干
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光圈变形 v<v;Z R)
1)粘结胶粘结力不适 Jt5V{9:('
2)光圈未稳定既下盘 Vx<{cHQQ
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) tAN !LI+w
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 @ !")shc
克 服 方 法 n0 l|7:Mk
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 )r46I $]>
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 Ll=G+cw6P
3)刚盘定期进行检测和修正 g*b`o87PI
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 W]eILCo
麻点： #k9&OS?
产 生 原 因 G06;x
1) 精细磨、抛光时间不够 j:cu;6|
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 >;Hx<FKxP
3)有粗划痕抛断后的残迹 bWA_a]G
4)方形或长方形细磨后塌角 A>gZl)c
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 .fzyA5@l
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 AVjRhe
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 s;bGg
克 服 方 法 UUfM 7gq
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 g5|&6+t.
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 lx2#C9L_
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 CCG 5:xS
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 PJZ ;wqTD_
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 XcoX8R%U
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 ]@9W19=P!P
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
