抛光常见疵病产生原因及克服方法 @.Pe .\Z
印迹 } 2eP~3
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 bl; C =n
2)玻璃化学稳定性不好 %}asw/WiUa
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 e8"?Qm7 J
克 服 方 法 L0H kmaH
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 HO(9 )sK
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 8'B
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 (PmaVwF
光圈变形 `:XrpD
1)粘结胶粘结力不适 #{8n< sE
2)光圈未稳定既下盘 ;8
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3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) `_{^&W
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4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 b{o%`B*
克 服 方 法 "`AIU}[_I
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 vUXas*s4
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 tOK lCc
3)刚盘定期进行检测和修正 <ZV !fn
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 P]4C/UDS-~
麻点： {b^JH2,
产 生 原 因 v<z%\`y
1) 精细磨、抛光时间不够 gUoTO A,
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 K X P^F6@l
3)有粗划痕抛断后的残迹 Jn_; cN
4)方形或长方形细磨后塌角 4EiEE{9V
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 8N|y
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 HV ^*_
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 p9[J 9D3~
克 服 方 法 OJUH".o
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 \i-HECc"U
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 G#&R/Tc5N
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 ?>V4pgGCE
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 Ih]'OaE
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 Jm|eZDp
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 8Ilg[Drj*
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
