抛光常见疵病产生原因及克服方法 Bb zm q
印迹 >N8*O3
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 q3}WO] TBj
2)玻璃化学稳定性不好 l7vxTj@(-
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 c= #V*<
克 服 方 法 EEdU\9DH(
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 ;?. w!|6
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 -0f ,qNF
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 3*!w c.=
光圈变形 -cP7`.a
1)粘结胶粘结力不适 M"
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2)光圈未稳定既下盘 M~,N~ N1
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) SBh"^q
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 jHQnD]Hr
克 服 方 法 KuJNKuHa.
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 G; Py%8
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 z[+S b;
3)刚盘定期进行检测和修正 P B?92py&
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 8~ w P?
麻点： =>htX(k}
产 生 原 因 eI3ZV^_Ps
1) 精细磨、抛光时间不够 P87Lo4R d
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 %_%Bb Qf
3)有粗划痕抛断后的残迹 i)th] 1K%
4)方形或长方形细磨后塌角 H7dT6`<~Y
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 $(+#$F<eo+
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 Pmdf:? B
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 6<ml x'
克 服 方 法 7(l>Ck3B#
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 TX).*%f [r
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 hMnm>
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 2Og<e|
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 i !;9A6D
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 bYBE h n
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 $0XR< D
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
