抛光常见疵病产生原因及克服方法 k~[jk5te
印迹 Q>1BOH1by
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 tc~gn!"
2)玻璃化学稳定性不好 XCM!8x?K
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 iK}p#"si
克 服 方 法 WDc[+Xyw
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 I!/32* s1t
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 Cv#aBH'N
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 !u7KgB<=/F
光圈变形 )LP' 4*
1)粘结胶粘结力不适 NpVL;6?7T
2)光圈未稳定既下盘 S`-I-VS=L
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) O,%UNjx9K
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 N#u'SGTG
克 服 方 法 i c{I
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 P'~`2W0sz
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 xkSX KR
3)刚盘定期进行检测和修正 v obC/m
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 ".}R$ W
麻点： <F3{-f'Rx
产 生 原 因 +`>7cy%cZ
1) 精细磨、抛光时间不够 > .wZEQ6QK
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 Cd'D
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3)有粗划痕抛断后的残迹 Bl\:YYd
4)方形或长方形细磨后塌角 W?Z>g"
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 > LPb>t5%p
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 6J;!p/C8E
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 !8 @yi"n
克 服 方 法 zg jg #|
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 ? 2}%Rb39
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 ?+}Su'pv}
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 JC '3x9_<z
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 C PZ{
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 5*z>ez2YQ7
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 2|k$Vfz
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
