抛光常见疵病产生原因及克服方法 kJ8vKcc
印迹 }z'DWp=uN
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 N^$9;CKP=
2)玻璃化学稳定性不好 Q P\yaPE
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 L~MpY{!3
克 服 方 法 )*[
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1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 M'u=H
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 SMq9j,k
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 NiTJ}1 l
光圈变形 A^pW]r=Xtk
1)粘结胶粘结力不适 Z\!rH "8
2)光圈未稳定既下盘 Xu]h$%W
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) hPPB45^
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 _W9&J&l0so
克 服 方 法 ;QidDi_s>
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 ;5M<j3_*
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 A[9NP-~
3)刚盘定期进行检测和修正 b?k4InXh
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 S8*> kM'
麻点： A9 n41,h
产 生 原 因 nO_!:6o".
1) 精细磨、抛光时间不够 !QTPWA
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 LVmY= d>
3)有粗划痕抛断后的残迹 R92 R}=G!
4)方形或长方形细磨后塌角 G;2[
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 %^')G+>i
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 e`ex]py<C
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 "UpOY
克 服 方 法 6 6dTs,C
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 [0op)Kn
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 #7C6yXb%
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 ^f0(aYWx
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 .D3`'K3t{[
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 Oo/8Y
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6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 O9;dd
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7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
