抛光常见疵病产生原因及克服方法 HoWK#Nz\
印迹 PtL8Kd0`C
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 G- ]_
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2)玻璃化学稳定性不好 07ppq?,y
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 'C:i5?zh(q
克 服 方 法 v6=X]Ji{YA
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 &/otoAr(
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 #X'su`+
3)避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 zd F;!
光圈变形 YuzVh9jTI
1)粘结胶粘结力不适 mfDt_Iq
2)光圈未稳定既下盘 RcO.1@2
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) u-V(
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4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 L`rrT
克 服 方 法 FS('*w&bP
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 j4=\MK
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 >29c[O"[
3)刚盘定期进行检测和修正 ~Q]::
4)严格按工艺和上盘操作规程加工 W3%RB[s-
麻点: bV#j@MJ~0
产 生 原 因 yRQNmR;Uy
1) 精细磨、抛光时间不够 F6h IG G
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 {!.w}
3)有粗划痕抛断后的残迹 KXWz(L!1
4)方形或长方形细磨后塌角 TKEcbGhy
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 n2[h`zm1{B
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 sULsU t#
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 gh^w
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克 服 方 法 <l+hcYam
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 cnG>EG
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 v+<4?]EJ
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 MdTu722
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 5fmQ+2AC1
5)选用适当的粘结胶,控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 ,.<c|5R
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 aan(69=jz
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理