抛光常见疵病产生原因及克服方法 ,-V7~g M%}
印迹 T^@P.zX
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 ^.>XDUO F
2)玻璃化学稳定性不好 |?LUt@r;
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 ]GiDfYs7%
克 服 方 法 uDMyO<\
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 r5 Xi2!
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 tC&jzN"
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 ogJ> `0 +J
光圈变形 2+C 8w%F8
1)粘结胶粘结力不适 9R N ge;*
2)光圈未稳定既下盘 d[&Ah~,
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) i&Me7=~
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 XBos ^Q
克 服 方 法 oN[# C>#(
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 l)qGG$7$
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 GD<pqm`vVY
3)刚盘定期进行检测和修正 pbNW
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4）严格按工艺和上盘操作规程加工 zf A"xD
麻点： g?9%_&/})A
产 生 原 因 ~p$ncIr2Q
1) 精细磨、抛光时间不够 An=Q`Uxt/
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 u\@ L|rh
3)有粗划痕抛断后的残迹 A[ N>T\
4)方形或长方形细磨后塌角 Zo wPga
5)零件在镜盘上由于加工造成走动 E akS(Q?
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 ?sbM= oo
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 l?zWi[Zf
克 服 方 法 {ud^+I&
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 (^= Hq'D
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 V5]:^=
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 ,C jJO -
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 eo'C)j# U
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 N0&#fXO
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 ) q'~<QxI\
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
