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mB$r>G/' 内容简介 AG#5_0]P~ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 7:1c5F~M 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 h{]l?6` 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 AO9F.A<T5 此书也是Macleod先生生前的最后一部作品,非常有纪念收藏价值!有兴趣的可以联系我 Xv'M\T}6C+ `n7z+
,2)LH'Xx 目录 }Y5Sf"~M Preface 1 <3QE3;4 内容简介 2 ()vxTTa 目录 i P'Jw: )k( 1 引言 1 "6n~,$ 2 光学薄膜基础 2 ~_SV`io 2.1 一般规则 2 KX9+*YY, 2.2 正交入射规则 3 ?0+D1w 2.3 斜入射规则 6 itM6S$ 2.4 精确计算 7 6tM CpSJ 2.5 相干性 8 #5T+P8 2.6 参考文献 10 xv9Z~JwH 3 Essential Macleod的快速预览 10 p~28?lYv 4 Essential Macleod的特点 32 "j9,3yJT 4.1 容量和局限性 33 OFCOMM 4.2 程序在哪里? 33 kzGD* 4.3 数据文件 35 Nl7"|()e 4.4 设计规则 35 >U9* 4.5 材料数据库和资料库 37 UGEC_ 4.5.1材料损失 38 7vV3"uns 4.5.1材料数据库和导入材料 39 'u$$scGt 4.5.2 材料库 41 LI?rz<H!D 4.5.3导出材料数据 43 jjkiic+tDN 4.6 常用单位 43 ~;| 4.7 插值和外推法 46 <?,o
{ 4.8 材料数据的平滑 50 7,_N9Q]rB 4.9 更多光学常数模型 54 [[?:,6I 4.10 文档的一般编辑规则 55 |J2Rwf 4.11 撤销和重做 56 G7`7e@{ 4.12 设计文档 57 #P-S.b 4.10.1 公式 58 rZ1${/6 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 0,nDyTS^ 4.10.3 沉积密度 59 #OH-LWZh 4.10.4 平行和楔形介质 60 ,'F;s:WM, 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 DPi%[CRH 4.10.4 性能 61 M=e]v9
4.10.5 保存设计和性能 64 \A _g 4.10.6 默认设计 64 9>qR6k? 4.11 图表 64 T?)?"b\qz 4.11.1 合并曲线图 67 BULX*eOt 4.11.2 自适应绘制 68 IR|AlIv 4.11.3 动态绘图 68 ld4QhZia 4.11.4 3D绘图 69 &?/h#oF@\ 4.12 导入和导出 73 '6fMF#X4F 4.12.1 剪贴板 73 JMpjiB,A} 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 "W|Sh#JF 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 goeWZ O 4.13 背景 77 Z6X?M&-Lz 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 kh 17 4.15 生成Rugate 84 *\I?gDON 4.16 参考文献 91 L\5j"]
}` 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 "Q#/J)N 5.1 Jobs 92 <Jo_f&&{ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 $Dd IY} 5.3 输入材料 94 "o`N6@[w^ 5.4 设计数据文件夹 95 q.t>:` 5.5 默认设计 95 I2qC,Nkk 6 细化和合成 97 SPeSe/ 6.1 优化介绍 97 NHUx-IqOX 6.2 细化 (Refinement) 98 ^/2n[orl5 6.3 合成 (Synthesis) 100 ~9p*zC3M 6.4 目标和评价函数 101 pA+W
8v#* 6.4.1 目标输入 102 %w,
6.4.2 目标 103 uY,&lX+! 6.4.3 特殊的评价函数 104 fnG&29x 6.5 层锁定和连接 104 t%n1TY, 6.6 细化技术 104 s$:F^sxb 6.6.1 单纯形 105 ioIUIp+B~u 6.6.1.1 单纯形参数 106 *]p]mzc 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ( N~[sf?& 6.6.2.1 Optimac参数 108 ea=@r
Ng 6.6.3 模拟退火算法 109 +T+f``RcK 6.6.3.1 模拟退火参数 109 #q%xJ[ 6.6.4 共轭梯度 111 D!ToCVos 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 j Aw&5, 6.6.5 拟牛顿法 112 )$I;)`q 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 O$E3ry+? 6.6.6 针合成 113 9l@VxX68M 6.6.6.1 针合成参数 114 C#`eN{%.YT 6.6.7 差分进化 114 *{P"u(K 6.6.8非局部细化 115 +n %uIv 6.6.8.1非局部细化参数 115 [7ZFxr\:! 6.7 我应该使用哪种技术? 116 AiykIER/ 6.7.1 细化 116 G?{BVWtl} 6.7.2 合成 117 gXZ.je)NM 6.8 参考文献 117 K~5QL/=1 7 导纳图及其他工具 118 _y#t[|}w 7.1 简介 118 [bIdhG 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 =M>1;Qr<Z/ 7.2.1 四分之一波长规则 119 @mW: FVI 7.2.2 导纳图 120 :seo0w] 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 G)';ucs:, 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 QDRSQ[ \ 7.5 斜入射导纳图 141 Gmi4ffIb3 7.6 对称周期 141 8xs[{?|: 7.7 参考文献 142 W^ict,t 8 典型的镀膜实例 143 NQ_H-D\, 8.1 单层抗反射薄膜 145 6n]fr9f 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 (YF`#v6 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 P}KN*Hn. 8.4 W-膜层 148 rJ4O_a5/ 8.5 V-膜层 149 '^'vafs-/@ 8.6 V-膜层高折射基底 150 )C5<puh 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 $*V:;-H 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 a?.hvI 8.9 四层抗反射薄膜 153 ykH?;Xu 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 k]!Fh^O~, 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ~C6d5\ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 Yj|Oy 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 DnS#
cs~ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 nPj%EKdY4 8.15十五层宽带抗反射膜 159 <f &z~y= 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 QU_O9 BN 8.17 1/4波长堆栈 162 dkt'~ 8.18 陷波滤波器 163
/L'r
L 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Mp^%.m 8.20 褶皱 165 nR-`;lrF~ 8.21 消偏振分光器1 169 cu5Yvp 8.22 消偏振分光器2 171 q{HfT
d 8.23 消偏振立体分光器 172 -@X?~4Idz 8.24 消偏振截止滤光片 173 :3M2zV
cf 8.25 立体偏振分束器1 174 Fd*)1FQKT 8.26 立方偏振分束器2 177 U8KB@E 8.27 相位延迟器 178 NK2Kw{c"iI 8.28 红外截止器 179 m_\w) 8.29 21层长波带通滤波器 180 o7)< |