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{f<\` 内容简介 a#o6Nv Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 #-Ad0/ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 fK{[=xMr@ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Y94/tjt 此书也是Macleod先生生前的最后一部作品,非常有纪念收藏价值!有兴趣的可以联系我 v5N2$Sqp* .&Ok53]b
'{(/C?T 目录 {IpIQ-@l Preface 1 'fkaeFzOl 内容简介 2
?Ok@1 目录 i XU19+mW=P 1 引言 1 |U4t 8 2 光学薄膜基础 2
5pI=K/- 2.1 一般规则 2 ';0NWFP 2.2 正交入射规则 3 R1=ir# U|D 2.3 斜入射规则 6 -d8||X[ 2.4 精确计算 7 Ud8*yB 2.5 相干性 8 (66DKG 2.6 参考文献 10 <7%4= 3 Essential Macleod的快速预览 10 bhb*,iWA 4 Essential Macleod的特点 32 A,)G$yT\ 4.1 容量和局限性 33 bb^$]lT' 4.2 程序在哪里? 33 GXE6=BO 4.3 数据文件 35 &RP}w%I1 4.4 设计规则 35 8xEOR!\!`k 4.5 材料数据库和资料库 37 Ft)Z'&L
4.5.1材料损失 38 J|BZ{T}d 4.5.1材料数据库和导入材料 39 X&qa3C}) 4.5.2 材料库 41 X)TUKt 4.5.3导出材料数据 43 MN22#G4j^w 4.6 常用单位 43 S=wJ{?gzAK 4.7 插值和外推法 46 ]O;Hlty(g 4.8 材料数据的平滑 50 2i@t;h2E
4.9 更多光学常数模型 54 AIXvS*Y, 4.10 文档的一般编辑规则 55 96.z\[0VZ 4.11 撤销和重做 56 X0.-q%5 4.12 设计文档 57 3koXM_4_{) 4.10.1 公式 58 *!gj$GK@% 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 l< y9ue= 4.10.3 沉积密度 59 U|%y`PZ 4.10.4 平行和楔形介质 60 {vJ)!'Eh 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 C;jV{sb9c 4.10.4 性能 61 dTV:/QM 4.10.5 保存设计和性能 64 8zRb)B+ 4.10.6 默认设计 64 Q:x:k+O- 4.11 图表 64 $qx&\@O 4.11.1 合并曲线图 67 yeCR{{B/' 4.11.2 自适应绘制 68 %YaUc{.% 4.11.3 动态绘图 68 @MV%&y*z. 4.11.4 3D绘图 69 DJ9;{,gm 4.12 导入和导出 73 2z\4?HJy 4.12.1 剪贴板 73 ecH-JPm' 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 P9p{j1*; 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 IFX|"3[$ 4.13 背景 77 i~IQlyGr. 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 lK?
Z38 4.15 生成Rugate 84 Z`?<A da 4.16 参考文献 91 .=>T yq 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 `FImi9%F 5.1 Jobs 92 Ohm>^N;
5.2 创建一个新Job(工作) 93 JL9d&7- 5.3 输入材料 94 t|X |67W 5.4 设计数据文件夹 95 !_`T8pJ` 5.5 默认设计 95
,qRSB>5c 6 细化和合成 97 O8+[)+6^ 6.1 优化介绍 97 bw7!MAXd 6.2 细化 (Refinement) 98 bmAgB}Ior 6.3 合成 (Synthesis) 100 [hg|bpEG 6.4 目标和评价函数 101 4Pljyq: 6.4.1 目标输入 102 P#H#@:/3 6.4.2 目标 103 -?b@ 6U 6.4.3 特殊的评价函数 104 ]k mOX 6.5 层锁定和连接 104 /s%I(iP4 6.6 细化技术 104 0;)6ZU 6.6.1 单纯形 105 /S;o2\ 6.6.1.1 单纯形参数 106 6,xoxNoPP3 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 (oxe\Qk 6.6.2.1 Optimac参数 108 xQ7n$.?y@ 6.6.3 模拟退火算法 109 3D~Fu8Hg1 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Yi[dS`,d 6.6.4 共轭梯度 111 l\^q7cXG 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Q;P ~' 6.6.5 拟牛顿法 112 O#7ldF( 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 [&*$!M 6.6.6 针合成 113 #{0DpSzE5 6.6.6.1 针合成参数 114 (Df<QC`0v 6.6.7 差分进化 114 bE>3D#V< 6.6.8非局部细化 115 L\og`L)5\ 6.6.8.1非局部细化参数 115 yj$S?B Ee 6.7 我应该使用哪种技术? 116 .Qh8I+Q% 6.7.1 细化 116 Hcd> \0 6.7.2 合成 117 7o
z(hO~ 6.8 参考文献 117 x#0C+cU 7 导纳图及其他工具 118 DuvP3(K 7.1 简介 118 ^@L[0Z` 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 <nsl`C~6g0 7.2.1 四分之一波长规则 119 5?kA)!|UB 7.2.2 导纳图 120 gE=~.P[ZX 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 )C2d)(baEJ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 `Ik}Xw 7.5 斜入射导纳图 141 savz>E& 7.6 对称周期 141 7IJb$af:; 7.7 参考文献 142 &SN$D5U' 8 典型的镀膜实例 143 /&j4I |