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~k\Dde 内容简介 \~m\pf? Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 m:B9~lbT+ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 F]e`-; 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 yJQ>u 此书也是Macleod先生生前的最后一部作品,非常有纪念收藏价值!有兴趣的可以联系我 2?P H|| `ppyCUX
-fpe 目录 k%uR!cL Preface 1 ,1/O2aQ%\0 内容简介 2 W[c[ulY& 目录 i g>G+?PY 1 引言 1 [NE|ZL~ 2 光学薄膜基础 2 g)$/'RB 2.1 一般规则 2 6&|hpp#[ 2.2 正交入射规则 3 XSk*w'xO 2.3 斜入射规则 6 b S-o86u 2.4 精确计算 7 q9Zp8&<EqH 2.5 相干性 8 )X
|[jP 2.6 参考文献 10 A0hKzj 3 Essential Macleod的快速预览 10 QN47+)cVt" 4 Essential Macleod的特点 32 }uZ/^_U. 4.1 容量和局限性 33 GuK3EM*_ 4.2 程序在哪里? 33 `%QXaKO- 4.3 数据文件 35 Q^\m@7O
: 4.4 设计规则 35 #($~e| 4.5 材料数据库和资料库 37 '8J!(+ 4.5.1材料损失 38 $ UNC0(4 4.5.1材料数据库和导入材料 39 :eIi^K z[ 4.5.2 材料库 41 )
>;7"v 4.5.3导出材料数据 43 U!d|5W.{Q 4.6 常用单位 43 4)"S/u 4.7 插值和外推法 46 E7' 4.8 材料数据的平滑 50 %k%%3L, 4.9 更多光学常数模型 54 -pmb-#`M 4.10 文档的一般编辑规则 55 5{/uHscwLa 4.11 撤销和重做 56 )]}G8A 4.12 设计文档 57 !3F3E8% 4.10.1 公式 58 a\m_Q{: 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 6am
g*=] 4.10.3 沉积密度 59 ZnKjU ]m 4.10.4 平行和楔形介质 60 XHU\;TF 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 3rVfBz 4.10.4 性能 61 GP>\3@> 4.10.5 保存设计和性能 64 hrNB"W|?x 4.10.6 默认设计 64 c@3mfc{ 4.11 图表 64 :V3z`}Rl 4.11.1 合并曲线图 67 nw4I<Q 4.11.2 自适应绘制 68 l1bkhA b
4.11.3 动态绘图 68 :KmnwYm 4.11.4 3D绘图 69 44NMof8N 4.12 导入和导出 73 ho-#Xbq#g 4.12.1 剪贴板 73 SR$ 'JGfp 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 7}:+Yx 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 3CzF@t;5 4.13 背景 77 lihIPMU 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 NnH]c+ 4.15 生成Rugate 84 w73?E#8 4.16 参考文献 91 _tUh*"e& 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 _ amP:h 5.1 Jobs 92 6r|=^3{ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Y-UXr8 5.3 输入材料 94 rFUR9O.{E 5.4 设计数据文件夹 95 @Jx1n Q^ 5.5 默认设计 95 bwM?DY 6 细化和合成 97 [
*Dj7zt: 6.1 优化介绍 97 #f [}a 6.2 细化 (Refinement) 98 @U3:9~Q 6.3 合成 (Synthesis) 100 ph}%Ay$ 6.4 目标和评价函数 101 78 w 6.4.1 目标输入 102 dz?On\66 6.4.2 目标 103 |1GOm=GNK 6.4.3 特殊的评价函数 104 *`}
!{
Mb 6.5 层锁定和连接 104 FDFwx| 6.6 细化技术 104 Xp] jF^5 6.6.1 单纯形 105 B0U(B\~Y 6.6.1.1 单纯形参数 106 cZJ5L>ox 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 []v$QR&u#v 6.6.2.1 Optimac参数 108 hq&| 6.6.3 模拟退火算法 109 lb$_$+@Vr 6.6.3.1 模拟退火参数 109 RL:B.Lv/W 6.6.4 共轭梯度 111 eF]8Ar1 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 N>Ih2>8t 6.6.5 拟牛顿法 112 &?1O D5 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 06O_!"GD} 6.6.6 针合成 113 2"HTD|yy 6.6.6.1 针合成参数 114 ,-hbwd~M 6.6.7 差分进化 114 J%-4ZB" 6.6.8非局部细化 115 YA@MLZm 6.6.8.1非局部细化参数 115 "={* 0P 6.7 我应该使用哪种技术? 116 PtYG%/s 6.7.1 细化 116 Y)DAR83 6.7.2 合成 117 Pz34a@%" 6.8 参考文献 117 O/|))H?C 7 导纳图及其他工具 118 AT)b/ycC 7.1 简介 118 jz`3xFy *] 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 I?St}Tl 7.2.1 四分之一波长规则 119 k_{?{:X;y 7.2.2 导纳图 120 67hfv e 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ^*i0~_ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Q5ff&CE 7.5 斜入射导纳图 141 MT"&|Og 7.6 对称周期 141 5[g\.yi2_] 7.7 参考文献 142 pmUf*u- 8 典型的镀膜实例 143 J^`5L7CO 8.1 单层抗反射薄膜 145 ,#FP]$FK 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 PxgJ7d 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Rw%%
9 8.4 W-膜层 148 i^e8.zgywF 8.5 V-膜层 149 ~uH_y- 8.6 V-膜层高折射基底 150 2cUT bRm 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 F$(ak;v} 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 8 eK 8-R$ 8.9 四层抗反射薄膜 153 5L:-Xr{ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 'UUj(1
f 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 %s"&|32 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 -&sY |