从20世纪30年代开始,光学薄膜逐渐被广泛应用于日常生活、工业、天文学、军事、宇航、光通信等领域,在国民经济和国防建设中起到了重大作用,因而得到了科学技术工作者的日益重视。而今新兴技术的发展对薄膜技术不断提出新的要求,又进一步促使了光学薄膜技术的蓬勃发展。所以近年来,对光学薄膜的研究及其应用一直是非常活跃的课题。 {{?[b^
D+.h*{gD
一、光学薄膜的制备方法 iraO/KhD*3
yH8
N 8
在光学薄膜发展的历程中,各种先进的薄膜制备技术不断应用到光学薄膜制备的技术中。这些技术不仅大大拓宽了光学薄膜可以利用的材料范围,而且极大地改进了光学薄膜的性能和功能,进而给光学薄膜提供了更为宽广深远的发展空间。下面介绍几种常见的光学薄膜制备方法。 1Yy5bg6+E
.`OdnLGy
1.物理气相沉积法 qd B@P
O0{M3-
物理气相沉积法简单地说,在真空条件下,采用物理方法,将材料源—固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 发展到目前,物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。之所以选择高真空环境是因为薄膜材料在沉积的过程中不会与空气中的活泼气体反应,以及蒸汽分子在真空环境中不会与气体分子碰撞,而是直接地到达基片。在实际薄膜沉积的过程中,需要控制的工艺参数非常多,通常涉及到真空技术、材料科学、精密机械制造、光电技术、计算机技术、自动控制技术等领域。 P!{
O<P
/2&