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在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。 `sPH7^R !;h`J:dN
2<33BBlWA ,%EGM+ 建模任务 vfPIC! ]iE)8X
_8'z"wF 结构和材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) &NB"[Mm:@ '7(oCab"_ 某一位置的Talbot图样 E
(bx/f Ze- MB0w
p{S#>JTr \YrvH 某一位置的Talbot图样 6BIr{SY [[gfR'79{
gq[`g=x |+r5D4]e 不同位置的Talbot图样 32Jl|@8,g 6*tbil_G+
WSV[)-=: cNvh2JI 不同位置的Talbot图样 fOkB|E] ?Y|*EH
F|&=\Q >C"QV`+ 沿Z轴的强度 V^ 5Z9! JTI 'W
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<o=Q 走进VirtualLab Fusion :MbD=sX -e(,>9Q
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B< 构建光栅结构 j+7ok 5J# - 用特殊介质构造光栅结构 [用例] _E< |