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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-04-25
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 _:z;j{@4  
    # T#FUI1p  
    gM/_:+bT>P  
    场景 FH@e:-*=  
    'aSORVq^e[  
    J+Y|# U  
    rEyMSLN  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 Y-9j2.{  
    cyn]>1ZM  
    系统构建块
    $7ME a"a  
    !{- 3:N7  
    S)1:*>@  
    Vf2! 0  
    组件求解器 1JY90l$ME  
    A7}|VV  
    ]5MR p7  
    )FiU1E  
    ?q8g<-?  
    qdnNapWnc  
    系统构建块 60gn`s,,  
    R}YryzV5  
    ]-]@=qYu  
    W;*vcbP  
    总结 1;sAt;/W8  
    j7%%/%$o[  
    2QD B'xs3  
    Nr7.BDA  
    几何光学仿真 9d|7#)a;  
    通过光线追迹 G&B}jj  
    T{kwy3  
    结果:光线追迹 @MVZy  
    Rf$6}F  
    `o-<,  
    { ^k,iTx   
    快速物理光学仿真 8i~'~/x  
    通过场追迹 Z%d4V<fn  
    (3S/"ZE  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 YtKX\q^.  
    3W00,f^9  
    >I ; #BE3  
    9Ei#t FMc  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 MO+0]uh:  
    .=<pU k 3G  
    /9gMcn9EB  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 /R?uxhV  
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    D*b|(Oi  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 -B! TA0=oJ  
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    总结 /v<8x?=  
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