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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark LG #^g6P 译:讯技科技股份有限公司 d#k(>+%=Q 校:讯技科技股份有限公司 !wAT`0<94F @~3-- 书籍概况: #36QO )t6]F6!_ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 8>Cr6m 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 XzUGlrp:Y# 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 __=H"UhWv k3~9;Z 书籍目录 2hh8G5IaQ 8bIP"!=*W 1 引言 {o=?@ $6C 2 光学薄膜基础 iI3:<j
l 2.1 一般规则 2]>O ZhS 2.2 正入射规则 v}B%:1P4 2.3 斜入射规则 S;|:ci<[= 2.4 精确计算 vQAFg G 2.5 相干性 ^h(wi`i 3 Essential Macleod的快速预览 sX>u. 4 Essential Macleod的特点 odRiCiMH 4.1 容量和局限性 2MkrVQQ9g 4.2 程序在哪? qQ@| Cj 4.3 数据文件 / f%mYL 4.4 设计规则 |V9[aa*c 4.5 材料数据库和目录库 *@U{[J 4.5.1 材料数据库及导入材料 ^ Ltho` 4.5.2 材料目录库 H;H=8' 4.5.3 导出材料数据 6{Wo5O{!\ 4.6 常用单位 -YRIe<}E - 4.7 插值 )2}R1K> 4.8 材料数据的平滑 |P|B"I<? 4.9 一般文档编辑规则 pLMt2G 4.10 设计文档 c_lHj#A(l 4.10.1 公式 0-2|(9
Kc 4.10.2 更多关于膜层厚度 *Gsj pNr- 4.10.3 沉积密度 Q&9yrx. 4.10.4 性能计算 $a(-r-_Fi] 4.10.5 保存设计和性能 BZR{}Aj4pa 4.10.6 默认设计 .3!Wr*o 4.11 图表 @^{Hq6_`
4.11.1 合并曲线图 rfXxg^ 4.11.2 自适应绘制 Fq9YhR 4.11.3 动态参数图 4S_ -9&z 4.11.4 3D绘图 8tY>%A~^z 4.12导入和导出 @AyteHK
4.12.1 剪贴板 a#oROb-*~ 4.12.2 不通过剪贴板导入 .;#T<S" 4.12.3 不通过剪贴板导出 G6SgVaM 4.13 背景(Context) TpjiKM 4.14 扩展公式 - 生成设计 Z6!Up1 4.15 生成Rugate |tXA$}"L8 4.16 参考文献 wxN)dB 5 在Essential Macleod中建立一个Job m|*B0GW 5.1 Jobs rhv~H"qzW 5.2 创建一个新的Job Di9RRHn&q 5.3 输入材料 mHD_cgKN 5.4 设计数据文件夹 %X}ZX|{ O 5.5 默认设计 $d?+\r:I{, 6 细化和合成 /:dLqyQ_V 6.1 最优化导论 BK$y>=
` 6.2 细化 j3-YZKpg 6.3 合成
#]#9Xq 6.4 目标和评价函数 b)wcGBS 6.4.1 目标输入 6FS%9.Ws 6.4.2 目标关联 !MbzFs~ 6.4.3 特殊的评价函数 Gnc`CyN:H 6.5 膜层锁定和关联 !_I1=yi 6.6 优化技术 (vXr2Z<l 6.6.1 单纯形 EF/d7 6.6.1.1单纯形参数 UG| /Px ] 6.6.2 Optimac PKm|?kn{0( 6.6.2.1 Optimac参数 W.wPy@yi 6.6.3 模拟退火算法 q0sf\|'<} 6.6.3.1退火参数 8}/DD^M 6.6.4 共轭梯度 Vk5Z[w a 6.6.4.1共轭梯度参数 #w$Y1bjn 6.6.5 拟牛顿法 ;(Yb9Mr)z 6.6.5.1 拟牛顿法参数: A40DbD\^ad 6.6.6 针形合成 -4Qub{Uym 6.7 我应该使用哪种技术? ^2+Ex+ 6.7.1 细化 ,H7X_KbFD4 6.7.2 合成 4pmeu:26 6.8 参考文献 oO}g~<fYG 7 导纳图和其他工具 r>mBe;[TX 7.1 介绍 _,3ljf?WQM 7.2 导纳变换 _H] \ 7.2.1 四分之一波长规则 !R{IEray 7.2.2 导纳轨迹图 DE13x*2 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 -@Ap;,= 7.4 全介质抗反射膜的应用 1]xk:u4LA 7.5 对称周期结构 5eAZfe%H 7.6 参考文献 .)E#*kLWR 8.典型的镀膜实例 r6<;bO( 8.1 单层抗反射膜 Bk8}K=%w 8.2 1/4-1/4抗反射膜 ct+F\:e 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 G?Et$r7:R 8.4 W-膜层 "1o{mvCkR 8.5 V-膜层 gC7!cn 8.6 高折射基底V-膜层 iUkUo x 8.7 高折射率基底b V-膜层 "M%R{pGA7 8.8 1/4-1/4高折射率基底 #*A'<Zm
8.9 四层抗反射膜 79DNNj~ 8.10 Reichert抗反射膜 VZ]iep 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 Z[O
hZ 9 8.12 宽波段6层抗反射膜 |3$Ew. 8.13 宽波段8层抗反射膜 4KPnV+h"b 8.14 宽波段25层抗反射膜 uYW4$6S3 8.15 四层2-1 增透膜
Omd; 8.16 1/4波长堆栈 3Tr,waV 8.17 陷波滤光器 W]4Z4& |