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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark ASU\O3%% 译:讯技科技股份有限公司 QYb?;Z 校:讯技科技股份有限公司 Oydmq,sVe( D;n%sRq(Z 书籍概况: ? UDvFQ& 1@dx(_ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 y5D?Bg|M 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 0qUap*fvC 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ~ b_gwJ' bbkI}d%(Ng 书籍目录 TAoR6aE 'U0I.x( 1 引言 ,#O8:s 2 光学薄膜基础 MW>28 2.1 一般规则 -d)n0)9 2.2 正入射规则 4^^rOi0 2.3 斜入射规则 GLF"`M /g 2.4 精确计算 `R?W @,@' 2.5 相干性 ghj~r 3 Essential Macleod的快速预览 .u?$h0u5 4 Essential Macleod的特点 GP'Y!cl 4.1 容量和局限性 ?zu{&aOX| 4.2 程序在哪? {f3fc8(p 4.3 数据文件 l!` 0I] } 4.4 设计规则 Y@Y(;C"SW 4.5 材料数据库和目录库 (32nI?)a 4.5.1 材料数据库及导入材料 9v2 ; 4.5.2 材料目录库 r2'rfpQ 4.5.3 导出材料数据 c3t8yifQ 4.6 常用单位 v|2j~ 4.7 插值 <~+ 4.8 材料数据的平滑 ZHasDZ8 4.9 一般文档编辑规则 Lc?O K"[m 4.10 设计文档 .U%"oD 4.10.1 公式 elB 8 4.10.2 更多关于膜层厚度 WfNMyI 4.10.3 沉积密度 74(J7 4.10.4 性能计算 PlUjjJU 4.10.5 保存设计和性能 -"H4brj;G 4.10.6 默认设计 d]`,}vi#E9 4.11 图表 x&vD,|V! 4.11.1 合并曲线图 `aycYoD 4.11.2 自适应绘制 j #YFwX4. 4.11.3 动态参数图 i8.[d5 4.11.4 3D绘图 b{Ss+F 4.12导入和导出 ]l%.X7M9 4.12.1 剪贴板 oy: MM 4.12.2 不通过剪贴板导入 Yk?q7xuT 4.12.3 不通过剪贴板导出 cvfAa#tq> 4.13 背景(Context) j}l8k@f 4.14 扩展公式 - 生成设计 7k|(5P; 4.15 生成Rugate AoeW<}MO 4.16 参考文献 efR$s{n! 5 在Essential Macleod中建立一个Job /)TEx}wk 5.1 Jobs 7`!( 8 5.2 创建一个新的Job k;7.qhe: 5.3 输入材料 Y_sVe 5.4 设计数据文件夹 7bS[\5 5.5 默认设计 hM w`e 6 细化和合成 ;$< ek(i7 6.1 最优化导论 Z+(V \ 6.2 细化 K67 ?
d 6.3 合成 {[*_HAy7 6.4 目标和评价函数 zK?[dO 6.4.1 目标输入 ]E^f8s0#V 6.4.2 目标关联 DA~ELje^j 6.4.3 特殊的评价函数 I_7EfAqg( 6.5 膜层锁定和关联 wP"|$HN 6.6 优化技术 w-Fk&dC69 6.6.1 单纯形 A!yLwkc:5 6.6.1.1单纯形参数 lJ#>Y5Qg 6.6.2 Optimac 8$Yf#;m[ 6.6.2.1 Optimac参数 ze N!*VG 6.6.3 模拟退火算法 /|AuI qW 6.6.3.1退火参数 IIiN1
Lu,5 6.6.4 共轭梯度 F-0PmO~3+W 6.6.4.1共轭梯度参数 5V!XD9P' 6.6.5 拟牛顿法 _xt(II 6.6.5.1 拟牛顿法参数: i]pG}SJ 6.6.6 针形合成 |pSoBA9U 6.7 我应该使用哪种技术? MGDv4cFE. 6.7.1 细化 G[j79o 6.7.2 合成 BxYA[#fd} 6.8 参考文献 V}+;bbUc- 7 导纳图和其他工具 |>GIPfVT 7.1 介绍 ^iS:mt 7.2 导纳变换 FoCkTp+/ 7.2.1 四分之一波长规则 DjvgKy=Jr_ 7.2.2 导纳轨迹图 I=a$1%BzEX 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 #HYkzjb 7.4 全介质抗反射膜的应用 1s[-2^D+EM 7.5 对称周期结构 yVzg<%CR^ 7.6 参考文献 `wd* &vl |