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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark )JR& 译:讯技科技股份有限公司 ~<3J9\z1 校:讯技科技股份有限公司 {jEEAH) ByjgM` 书籍概况: edfb7prfTl :LTjV"f Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 GrM`\MIO 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 S@WT;Q2Z 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 (ZD~Q_O- p$,ZYF~ 书籍目录 *V@t]d$=# %Lfy!]Ru 1 引言 @`rC2-V 2 光学薄膜基础 " 8g\UR"[ 2.1 一般规则 g_(O7 2.2 正入射规则 }^*m0`H 2.3 斜入射规则 9G{#a#Z. 2.4 精确计算 kO v37c' 2.5 相干性 Pt7yYl&n7^ 3 Essential Macleod的快速预览 qo:t"x^ 4 Essential Macleod的特点 cg}lF9;d 4.1 容量和局限性 X[1w(d U[ 4.2 程序在哪? LcmZ"M6 4.3 数据文件 L&Pj0K-HT3 4.4 设计规则 D'"l%p 4.5 材料数据库和目录库 3\a VZx! 4.5.1 材料数据库及导入材料 0@}:`OynX 4.5.2 材料目录库 3^Z@fC 4.5.3 导出材料数据 2;ac&j1 4.6 常用单位 8AmB0W>e 4.7 插值 Ak,T{;rD 4.8 材料数据的平滑 v2f|%i;tq 4.9 一般文档编辑规则 tjcG^m} _ 4.10 设计文档 X->` ~-aj 4.10.1 公式 9&OhCrxW- 4.10.2 更多关于膜层厚度 [LKzH!
4.10.3 沉积密度 8:"s3xaO3 4.10.4 性能计算 c#8@>; 4.10.5 保存设计和性能 I\$?'q> 4.10.6 默认设计 'F Cmbry 4.11 图表 !+3nlG4cw 4.11.1 合并曲线图 _?;74VWA
4.11.2 自适应绘制 X"Q\MLy 4.11.3 动态参数图 kntULI$` 4.11.4 3D绘图 -@mcu{& 4.12导入和导出 /3qKsv# 4.12.1 剪贴板 \-{2E 4.12.2 不通过剪贴板导入 G5!!^p~ 4.12.3 不通过剪贴板导出 ic?(`6N8 4.13 背景(Context) !'kr:r}gg 4.14 扩展公式 - 生成设计 -}"nb-RR\ 4.15 生成Rugate He LW* 4.16 参考文献 {6HgKI 5 在Essential Macleod中建立一个Job *4[P$k$7 5.1 Jobs F)=*Ga 5.2 创建一个新的Job 7$Pf 5.3 输入材料 v)LSH;< 5.4 设计数据文件夹 T&]IPOH9 5.5 默认设计 UMlvu?u2p1 6 细化和合成 SBamgc 6.1 最优化导论 w,;ox2 6.2 细化 5ih5=qX 6.3 合成 QTjnXg?Ri 6.4 目标和评价函数 9Q&]5|x 6.4.1 目标输入 u Uh6/=y 6.4.2 目标关联 G-Zn-I 6.4.3 特殊的评价函数 agnEYdM_ 6.5 膜层锁定和关联 ^ARkjYt 6.6 优化技术 p}|<EL}Z9 6.6.1 单纯形 3PaMq6Ca 6.6.1.1单纯形参数 {R7m qzt 6.6.2 Optimac XPMvAZL 6.6.2.1 Optimac参数 d"}lh:L9 6.6.3 模拟退火算法 "VA'W/yv! 6.6.3.1退火参数 '2m"ocaf 6.6.4 共轭梯度 /_tN&[ 6.6.4.1共轭梯度参数 mN'sJ1L- 6.6.5 拟牛顿法 WM GiV 6.6.5.1 拟牛顿法参数: ~!'T!g%C 6.6.6 针形合成 @g1T??h 6.7 我应该使用哪种技术? ;tfGhHpQn 6.7.1 细化 hGo/Ve+@ 6.7.2 合成 X92I==-w 6.8 参考文献 N`7+]T 7 导纳图和其他工具 xm> y3WC 7.1 介绍 q`HK4~i, 7.2 导纳变换 z=qxZuFkDs 7.2.1 四分之一波长规则 14p{V}f3 7.2.2 导纳轨迹图 0D}k ^W 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 c)SQ@B@q 7.4 全介质抗反射膜的应用 A 1x
7.5 对称周期结构 N7Kkz
/ 7.6 参考文献 UX)QdT45Mh 8.典型的镀膜实例 NP$ D9#
8.1 单层抗反射膜 {/!Yavx 8.2 1/4-1/4抗反射膜 3IQ-2 X-- 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 >&)|fV&4 8.4 W-膜层 ky[ ^uQ>0 8.5 V-膜层 q5>!.v
8.6 高折射基底V-膜层 h{CyYsQ 8.7 高折射率基底b V-膜层 Dos';9Uq 8.8 1/4-1/4高折射率基底 Gvquv\ 8.9 四层抗反射膜 - 4B& |