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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark :#W>SO 译:讯技科技股份有限公司 \HP,LH[P: 校:讯技科技股份有限公司 g]@R'2:1 T`w};]z^d2 书籍概况: .2{C29g Y9H *S*n Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 bKt3x+x( 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 kq1M<lk 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 lc$@Jjg9 /nMqEHCyg 书籍目录 #Zavdkw=d e/HX,sf_g 1 引言 k+Ma_H` 2 光学薄膜基础 C1Pt3 2.1 一般规则 qLW-3W;WUH 2.2 正入射规则 y/sWy1P7 2.3 斜入射规则 {z[HNSyRs 2.4 精确计算 Am=PUQF$ 2.5 相干性 ?j4,^K3 3 Essential Macleod的快速预览 l&^[cR 4 Essential Macleod的特点 jXDzjt94J 4.1 容量和局限性 "$:y03V 4.2 程序在哪? 4Tzu"y 4.3 数据文件 C@?e`=9( 4.4 设计规则 #:\+7mCF 4.5 材料数据库和目录库 H;7H6fyZ 4.5.1 材料数据库及导入材料 #u=O 5%. 4.5.2 材料目录库 CQuvbAo 4.5.3 导出材料数据 -_4jJxh=OB 4.6 常用单位 k#=leu"I 4.7 插值 ;,B@84' 4.8 材料数据的平滑 l& ^B 4.9 一般文档编辑规则 Y`O}]*{>8R 4.10 设计文档 A_q3p\b 4.10.1 公式 %k;FxUKi 4.10.2 更多关于膜层厚度 M"$RtS|h 4.10.3 沉积密度 "RJk7]p`* 4.10.4 性能计算 z#E,96R 4.10.5 保存设计和性能 O"-PNF,J 4.10.6 默认设计 |xgCV@ 4.11 图表 c{4nW|/W 4.11.1 合并曲线图 Boj{+rE0 4.11.2 自适应绘制 LYq2A,wm$ 4.11.3 动态参数图 <$3nD b- 4.11.4 3D绘图 xo_k"'f+ 4.12导入和导出 fm:{&( 4.12.1 剪贴板 ?oDfI 4.12.2 不通过剪贴板导入 -K'84 bZ 4.12.3 不通过剪贴板导出 n_Hnk4 4.13 背景(Context) 3^-)gK 4.14 扩展公式 - 生成设计 O>F.Wf5g 4.15 生成Rugate <sFf'W_3{ 4.16 参考文献 ; o@`l$O 5 在Essential Macleod中建立一个Job .-26 N6S 5.1 Jobs nT.2jk+ 5.2 创建一个新的Job }]GK@nn7 5.3 输入材料 |2&mvjk@H 5.4 设计数据文件夹 z`:^e1vG
5.5 默认设计 wG[l9)lz 6 细化和合成 KeOBbe 6.1 最优化导论 Jsnmn$C 6.2 细化 ! tPK"k 6.3 合成 IguG03:.N 6.4 目标和评价函数 qlT:9*&g 6.4.1 目标输入 `IRT w" 6.4.2 目标关联 9* Twx& 6.4.3 特殊的评价函数 6)<o O( 6.5 膜层锁定和关联 dZYJ(7% 6.6 优化技术 VM|)\?Q 6.6.1 单纯形 z'K7J'(R 6.6.1.1单纯形参数 td$6:) 6.6.2 Optimac EGr5xR- 6.6.2.1 Optimac参数 3K:Xxkk 6.6.3 模拟退火算法 h?tV>x/Fu 6.6.3.1退火参数 61wG: 6.6.4 共轭梯度 0 S8{VZpy 6.6.4.1共轭梯度参数 |wn LxI 6.6.5 拟牛顿法 (y4Eq*n%! 6.6.5.1 拟牛顿法参数: 4i&!V9@: 6.6.6 针形合成 CMjPp`rA 6.7 我应该使用哪种技术? ^O:RS
g9 6.7.1 细化 +Ws}a 6.7.2 合成 l>P~M50D?{ 6.8 参考文献 Jpnp' 7 导纳图和其他工具 DYk->)
7.1 介绍 iZ;jn8 7.2 导纳变换 (X'K)*G# 7.2.1 四分之一波长规则 (8F?yBu 7.2.2 导纳轨迹图 cJ{P,K 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 -*j; 7.4 全介质抗反射膜的应用 a2)*tbM9\ 7.5 对称周期结构 EHJc*WFPU- 7.6 参考文献 ^w}Ib']X 8.典型的镀膜实例 T js{
)r9 8.1 单层抗反射膜 ArKrsI#H- 8.2 1/4-1/4抗反射膜 n{* [Y
8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 yG_.|%e 8.4 W-膜层 ;G&O"S><]c 8.5 V-膜层 UM^hF% 8.6 高折射基底V-膜层 l%w|f`B: 8.7 高折射率基底b V-膜层 L7'n<$F 8.8 1/4-1/4高折射率基底 n9yv.p] 8.9 四层抗反射膜 3CL:VwoW 8.10 Reichert抗反射膜 uB! P>v6 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 qo![#s 8.12 宽波段6层抗反射膜 M/ \~ 8.13 宽波段8层抗反射膜 ~$Yuxo 8.14 宽波段25层抗反射膜 "q8'tN>< |