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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark }'"4q 译:讯技科技股份有限公司 AUan^Om 校:讯技科技股份有限公司 T|/B}srm h
rksPK"s2 书籍概况: n#NE.ap$&, ~ sC< V Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 VSxls 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 |X'Pa9u 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ]tu:V,q MPn
6sf9M 书籍目录 'K"7Tex lrE|>R 1 引言 5UTIGla 2 光学薄膜基础 HxH.=M8S_ 2.1 一般规则 9rCvnP= 2.2 正入射规则 #?V7kds] 2.3 斜入射规则 ]Uy
cT3A 2.4 精确计算 -f4>4@y 2.5 相干性 `X =2Ff 3 Essential Macleod的快速预览 `akbzHOM 4 Essential Macleod的特点 3hPj;-u 4.1 容量和局限性 AzfYw'^&9 4.2 程序在哪? DNh{J^S"}w 4.3 数据文件 #wvmVB. 5~ 4.4 设计规则 PGj?`y4 4.5 材料数据库和目录库 *1>zE>nlP 4.5.1 材料数据库及导入材料 =`
%iv|>r0 4.5.2 材料目录库 :.K#=ROP 4.5.3 导出材料数据 Py3Y*YP 4.6 常用单位 4;_<CB 4.7 插值 2".^Ma^D! 4.8 材料数据的平滑 6pKb!JJ 4.9 一般文档编辑规则 [xrM){ItW 4.10 设计文档 QIcg4\d%s 4.10.1 公式 _kJ?mTk 4.10.2 更多关于膜层厚度 qXb{A*J 4.10.3 沉积密度 ckZZ)lW`* 4.10.4 性能计算 m V U(b, 4.10.5 保存设计和性能 B F,rZZL 4.10.6 默认设计 +(*;F4> 4.11 图表 =N+Ou5D 4.11.1 合并曲线图 o
C5}[cYD` 4.11.2 自适应绘制 mp\`9j+{ 4.11.3 动态参数图 '%D$|) 4.11.4 3D绘图 }`SXUM_sD` 4.12导入和导出 @ZD/y%e 4.12.1 剪贴板 z@_9.n] 4.12.2 不通过剪贴板导入 #]BpTpRAe< 4.12.3 不通过剪贴板导出 w^.^XK4v. 4.13 背景(Context) TDMyZ!d 4.14 扩展公式 - 生成设计 Pdg %:aY 4.15 生成Rugate !JkH$~ 4.16 参考文献 H"_]Hq 5 在Essential Macleod中建立一个Job &)8-iO 5.1 Jobs Q]?Lg 5.2 创建一个新的Job ^J([w~& 5.3 输入材料 g.cD3N 5.4 设计数据文件夹 uMB|x,X I 5.5 默认设计 c04"d"$ x 6 细化和合成 @\!9dK-W 6.1 最优化导论 ?^# h|aUp. 6.2 细化 !A 6l\_ 6.3 合成 \[-z4Fxg|' 6.4 目标和评价函数 E2PMcT{)_ 6.4.1 目标输入 A(xCW+h@) 6.4.2 目标关联 Gob;dku 6.4.3 特殊的评价函数 `F#<qZSR 6.5 膜层锁定和关联 >/kwy2 6.6 优化技术 w'Kc#2 6.6.1 单纯形 Od>^yhn 6.6.1.1单纯形参数 4sVr]p` 6.6.2 Optimac Cw=wU/) 6.6.2.1 Optimac参数 PR&D67:Jy 6.6.3 模拟退火算法 Ul<'@A8 6.6.3.1退火参数 BBub' 6.6.4 共轭梯度 I& `>6=) 6.6.4.1共轭梯度参数 A5lP%&tu( 6.6.5 拟牛顿法 +UK". 6.6.5.1 拟牛顿法参数: <Wn"_Ud= 6.6.6 针形合成 gAx8r-` ` 6.7 我应该使用哪种技术? i>Cxi ZT 6.7.1 细化 S+i .@N.^ 6.7.2 合成 ^GXy:S$ 6.8 参考文献 a=55bEn 7 导纳图和其他工具 xr2ew%&o 7.1 介绍 u#+p6%?k 7.2 导纳变换 [":[\D' 7.2.1 四分之一波长规则 5X7kZ!r 7.2.2 导纳轨迹图 LNp%]*h 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 E0 nR Vg 7.4 全介质抗反射膜的应用 _HT*>-B 7.5 对称周期结构 /mB'Fn6) 7.6 参考文献 A2`QlhZ 8.典型的镀膜实例 0d-w<lg9 8.1 单层抗反射膜 2u[:3K-@, 8.2 1/4-1/4抗反射膜 ^6?NYHMr= 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 cx]O#b6B. 8.4 W-膜层 dYg}qad5: 8.5 V-膜层 ?kICYtY:_b 8.6 高折射基底V-膜层 2p( M`@ 8.7 高折射率基底b V-膜层 (8!#<$ 8.8 1/4-1/4高折射率基底
`ag7xd! 8.9 四层抗反射膜 ~3{C&c 8.10 Reichert抗反射膜 )e)@_0 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 /`iBv8! 8.12 宽波段6层抗反射膜 _v=@MOI/J 8.13 宽波段8层抗反射膜
\WM*2& 8.14 宽波段25层抗反射膜 Co2* -[R 8.15 四层2-1 增透膜 L3Leb%,! 8.16 1/4波长堆栈 (K$K;f$"r 8.17 陷波滤光器 B|IQ/g? 8.18 Rugate k'N `5M) 8.19 消偏振分光片1 ?VMj;+'tr 8.20 消偏振分光片2 p}KZ#"Q 8.21 消偏振立体分光片 _tR%7%3* 8.22 消偏振截止滤光片 &jg |