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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark Bc"}nSjH 译:讯技科技股份有限公司 IM&7h!
l"| 校:讯技科技股份有限公司 p$!+2=)gY OXCml(>{ 书籍概况: *$Wx*Jo )eGu4iEPM Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 /dvnQW4}8 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 @.]K6qC 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 kFZu/HRI !vo '8r?& 书籍目录 +mQC:B7> . eag84_ 1 引言 2D_Vo ])l/ 2 光学薄膜基础 DBh/V#* D 2.1 一般规则 d~f0]O 2.2 正入射规则 QO`Sn N} 2.3 斜入射规则 '*{Rn7B5 2.4 精确计算 0~L8yMM 2.5 相干性 ppo$&W
&z 3 Essential Macleod的快速预览 A5H8+gATK 4 Essential Macleod的特点 Wes"t}[25 4.1 容量和局限性 #Uk6Fmu] 4.2 程序在哪? ]=XL9MI 4.3 数据文件 ]~x/8%e76 4.4 设计规则 28qWC~/9 4.5 材料数据库和目录库 exMPw;8 4.5.1 材料数据库及导入材料 WMRgf~TY=2 4.5.2 材料目录库 U,3K6AZA 7 4.5.3 导出材料数据 C]cT*B^ 4.6 常用单位 LFM5W&? 4.7 插值 (=/L#Yg_ 4.8 材料数据的平滑 bzL;)H4Eo 4.9 一般文档编辑规则 52R.L9Ai 4.10 设计文档 6!PX!
UkF 4.10.1 公式 v@1Jhns 4.10.2 更多关于膜层厚度 .?)oiPW# 4.10.3 沉积密度 4)Wzj4qW 4.10.4 性能计算 XlcDF|?{. 4.10.5 保存设计和性能 l8Iy03H 4.10.6 默认设计 ~=gH7V 4.11 图表 0lq4 4.11.1 合并曲线图 aZ0iwMK 4.11.2 自适应绘制 Q2WrB+/ 4.11.3 动态参数图 FJH8O7 4.11.4 3D绘图 TZ_'nB~ 4.12导入和导出 mztq7[&- 4.12.1 剪贴板 %iFIY=W 4.12.2 不通过剪贴板导入 4!W?z2ly~R 4.12.3 不通过剪贴板导出 QF6JZQh< 4.13 背景(Context) |y=F (6Z 4.14 扩展公式 - 生成设计 Jy
NY * 4.15 生成Rugate &y wY?ox 4.16 参考文献 -^yc yZ 5 在Essential Macleod中建立一个Job XQ y|t"Vq> 5.1 Jobs 5Kxk9{\8 5.2 创建一个新的Job siZ_JJW 5.3 输入材料 #EK8Qe_ 5.4 设计数据文件夹 >V=@[B(0 5.5 默认设计 }n8;A;axi 6 细化和合成 dV*rnpN 6.1 最优化导论 eC:Q)%$%l 6.2 细化 &8L\FAY0%9 6.3 合成 m|gd9m$,? 6.4 目标和评价函数 4^9_E&Fa 6.4.1 目标输入 Eu~wbU"% 6.4.2 目标关联 q)y8Bv| 6.4.3 特殊的评价函数 {/!"}{G1e 6.5 膜层锁定和关联 7}85o
J 6.6 优化技术 J~`%Nj5> 6.6.1 单纯形 @n'ss!h 6.6.1.1单纯形参数 UwT$IKR 6.6.2 Optimac [m&ZAq 6.6.2.1 Optimac参数 Upen/1 bA 6.6.3 模拟退火算法 .[s82c]]6 6.6.3.1退火参数 Av4E?@R 6.6.4 共轭梯度 .Q@'O b` 6.6.4.1共轭梯度参数 @y&,e,3! 6.6.5 拟牛顿法 5W-M8dc6 6.6.5.1 拟牛顿法参数: &h[}5 6.6.6 针形合成 eZ$1|Sj]j 6.7 我应该使用哪种技术? >7Q7H#~w 6.7.1 细化 }-iOYSn 6.7.2 合成
!}48;P l 6.8 参考文献 ^C
T}i' 7 导纳图和其他工具 2 ZXF_ o 7.1 介绍 d'D\#+%>= 7.2 导纳变换 {627*6, 7.2.1 四分之一波长规则 rJj~cPwL" 7.2.2 导纳轨迹图 vH8%a8V 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 !qv;F?2
<g 7.4 全介质抗反射膜的应用 nmrk-#._@9 7.5 对称周期结构 j)*nE./3 7.6 参考文献 )uWNN" 8.典型的镀膜实例 T+!kRigN~P 8.1 单层抗反射膜 ?QVI'R:Z? 8.2 1/4-1/4抗反射膜 pSUp"wch 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 OUMr}~/ 8.4 W-膜层 JFdzA 8.5 V-膜层 M lwQ_5O 8.6 高折射基底V-膜层 ! .}{
f;Ls 8.7 高折射率基底b V-膜层 4tWI)}+ak 8.8 1/4-1/4高折射率基底 Fowh3go 8.9 四层抗反射膜 v21? 8.10 Reichert抗反射膜 Ry3 f'gx 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 +06j+I 8.12 宽波段6层抗反射膜 -C<aB750O) 8.13 宽波段8层抗反射膜 s50ln&2 8.14 宽波段25层抗反射膜 KR0
x[#.* 8.15 四层2-1 增透膜 D3ad2vH 8.16 1/4波长堆栈 ^Yz05\ 8.17 陷波滤光器 {*Pp^r 8.18 Rugate R0'EoX 8.19 消偏振分光片1 cIjsUqKa 8.20 消偏振分光片2 ObzlZP
r@ 8.21 消偏振立体分光片 TaG-^bX8B 8.22 消偏振截止滤光片 CVp<SS( 8.23 偏振立体分光片1 ?Pc3*. 8.24 偏振立体分光片2 k6S<46}h| 8.25 缓冲层 Y?cw9uYB 8.26 红外截止滤光片 Q8i6kf! 8.27 21层长波通过光片 2=EKAg=S 8.28 49层长波通滤光片 <X*8Xzmv 8.29 55层长波通滤光片 <^{: K` 8.30 宽带通滤光片 gZv<_0N 8.31 诱导透射滤光片 ;"z>p25=T 8.32 诱导透射滤光片2 X3yr6J[ ^ 8.33 简易密集型光波复用(DWDM)滤光片 (=9&"UH 8.34 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤光片 B?Skw{& 8.35 增益平坦滤光片 g!ww;_ 8.36 啁啾反射镜1 1O4"MeF 8.37 啁啾反射镜2 wP*Z/}Uum+ 8.38 啁啾反射镜3 Pa< |