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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark 5ppr;QaB 译:讯技科技股份有限公司 =m<b+@?T 校:讯技科技股份有限公司
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e 书籍概况: st??CX2 X:t?'41m\ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 C_3,|Zq?| 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Qu#[PDhb 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 h% >ZN-K) /w?zO,! 书籍目录 sI6*.nR ?o)?N8U 1 引言 Iep_,o.Sk 2 光学薄膜基础 aAqM)T83 2.1 一般规则 %>/&&(BE 2.2 正入射规则 7
2i&-`&4 2.3 斜入射规则 {|$kI`h,3- 2.4 精确计算 s Y4wdG 2.5 相干性 s5v}S'uO{ 3 Essential Macleod的快速预览 LRw-I.z 4 Essential Macleod的特点 qYoU\y7 4.1 容量和局限性 i<$?rB!i<1 4.2 程序在哪? @r<2]RXlc 4.3 数据文件 =,6X_m 4.4 设计规则 i{9.bpp/ 4.5 材料数据库和目录库 `_.:O,^n^ 4.5.1 材料数据库及导入材料 z(,j)". 4.5.2 材料目录库 -+i7T^@| 4.5.3 导出材料数据 mS}.?[d" 4.6 常用单位 "*HEXru#B 4.7 插值 $ r-rIW5\ 4.8 材料数据的平滑 6Ik
v}q_j 4.9 一般文档编辑规则 E3{kH
7_'\ 4.10 设计文档 A|PZ<WAY 4.10.1 公式 ajG_t 4.10.2 更多关于膜层厚度 14l6|a 4.10.3 沉积密度 #lik: ? 4.10.4 性能计算 A.yIl`'UP# 4.10.5 保存设计和性能 Ya~Th)'>q 4.10.6 默认设计 OZz/ip-!lc 4.11 图表 {|0YcL 4.11.1 合并曲线图 ci+ajON 4.11.2 自适应绘制 U:@tdH+A7 4.11.3 动态参数图 *Cp:<Mnd 4.11.4 3D绘图 DD 4.12导入和导出 'xG{q+jj' 4.12.1 剪贴板 ./zzuKO8XK 4.12.2 不通过剪贴板导入 ;FuST 4.12.3 不通过剪贴板导出 KbciRRf!k 4.13 背景(Context) 6)ysiAH? 4.14 扩展公式 - 生成设计 U)iBeYW: 4.15 生成Rugate zRgGSxn 4.16 参考文献 wmX(%5vY^ 5 在Essential Macleod中建立一个Job !K2QD[x 5.1 Jobs F_ -Xx" 5.2 创建一个新的Job ?b}e0C-a 5.3 输入材料 sUQ
Q/F6 5.4 设计数据文件夹 J0f!+]~G3 5.5 默认设计 f`rI]v|@ 6 细化和合成 LEN=pqGJ. 6.1 最优化导论 'ahZ*@kr 6.2 细化 u^i3 @JuX 6.3 合成 y"8,j m 6.4 目标和评价函数 `WMU'ezF 6.4.1 目标输入 A"qDc 6.4.2 目标关联 BhjDyB 6.4.3 特殊的评价函数 \|B\7a'4 6.5 膜层锁定和关联 NYKYj`K 6.6 优化技术 hpbi!g 6.6.1 单纯形 M(C$SB> 6.6.1.1单纯形参数 m$hkmD| 6.6.2 Optimac owyQFk 6.6.2.1 Optimac参数 "
o3Hd 6.6.3 模拟退火算法 0"GLgj:9 6.6.3.1退火参数 ^U*1_|Jh 6.6.4 共轭梯度 e%)MIAS0 6.6.4.1共轭梯度参数 |#BN!kc 6.6.5 拟牛顿法 *c%{b3T_ 6.6.5.1 拟牛顿法参数: ={]POL\ A 6.6.6 针形合成 0N]\f.=` 6.7 我应该使用哪种技术? RU/SJ1wM" 6.7.1 细化 ZP@NV|B 6.7.2 合成 Q.3:"dT 6.8 参考文献 2qV oe}F 7 导纳图和其他工具 +~P_o_M 7.1 介绍 /<-=1XJI
7.2 导纳变换 oxUBlye 7.2.1 四分之一波长规则 WCk. K 7.2.2 导纳轨迹图 rXBCM 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 c4Q9foE
7.4 全介质抗反射膜的应用 .kkhW8: 7.5 对称周期结构 !I&,!$ 7.6 参考文献 9&6P,ts%Q 8.典型的镀膜实例 U9Ea}aN 8.1 单层抗反射膜 ~J#Z7y]p!j 8.2 1/4-1/4抗反射膜 V[Sj+&e& 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 sX}#L 8.4 W-膜层 Wi,)a{ 8.5 V-膜层 O.\\)8xA 8.6 高折射基底V-膜层 Jf#-OlEQ 8.7 高折射率基底b V-膜层 8<ev5af 8.8 1/4-1/4高折射率基底 <c<!|<x 8.9 四层抗反射膜 sO(4F8cpU 8.10 Reichert抗反射膜 R>&8%%# 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 se]&)%p[ 8.12 宽波段6层抗反射膜 R[*n3
wB 8.13 宽波段8层抗反射膜 =&Tuh} 8.14 宽波段25层抗反射膜 ^
uwth 8.15 四层2-1 增透膜 jY=M{?h'' 8.16 1/4波长堆栈 %.'oY% 8.17 陷波滤光器 1;B&R89} 8.18 Rugate @o#Yq
n3Y 8.19 消偏振分光片1 L.JL4;U P 8.20 消偏振分光片2 @[f$MRp\ 8.21 消偏振立体分光片 >#gDk K 8.22 消偏振截止滤光片 Br{(sL0e 8.23 偏振立体分光片1 lF40n4} 8.24 偏振立体分光片2 ^j10
f$B 8.25 缓冲层 ZSD7%gE<D 8.26 红外截止滤光片 AGO"), 8.27 21层长波通过光片 )iK:BL*Nw 8.28 49层长波通滤光片 VeY&pPQ |