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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark {rs6"X^ 译:讯技科技股份有限公司 7L1\1E:! 校:讯技科技股份有限公司 bU:V%B?=] >\RDQ%z 书籍概况: /E;;j9 #*[,woNk Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 >aX:gN 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 _!|=AIX 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 @"jmI&hYn t%0r"bTi 书籍目录 Hf!9`R[ 2Zv,K- G 1 引言 zojuH8 2 光学薄膜基础 ;b{pzIe= F 2.1 一般规则 {hlT`K 2.2 正入射规则 pg5@lC]J 2.3 斜入射规则 *pDXcURw 2.4 精确计算 p)K9ZI 2.5 相干性 {yGZc3e1j 3 Essential Macleod的快速预览 ;bUJ+6f: 4 Essential Macleod的特点 tn(f rccy 4.1 容量和局限性 ,?P8m" 4.2 程序在哪? L3-<Kop 4.3 数据文件 e5]&1^+ 4.4 设计规则 _%AJmt} 4.5 材料数据库和目录库 hWl""66+5 4.5.1 材料数据库及导入材料 ;LwFbkOuU 4.5.2 材料目录库 fhVbJU 4.5.3 导出材料数据 =U)n`#6_j2 4.6 常用单位 h
v;n[ 4.7 插值 Dwm@E\^ihm 4.8 材料数据的平滑 5<'n 4.9 一般文档编辑规则 H>gWxJ
5 4.10 设计文档 <=B1"'\ 4.10.1 公式 o06A=4I 4.10.2 更多关于膜层厚度 vHZX9LQU0+ 4.10.3 沉积密度 XhJ P87A 4.10.4 性能计算 O>)n*OsS 4.10.5 保存设计和性能 !UUmy% 9 4.10.6 默认设计 PV5TG39qQ 4.11 图表 nR=2eBNf 4.11.1 合并曲线图 +An![1N, 4.11.2 自适应绘制 mcAH1k e 4.11.3 动态参数图 =B3!jir 4.11.4 3D绘图 Wwa41z 4.12导入和导出 $9j>VGf= 4.12.1 剪贴板 FJ3:}r6 " 4.12.2 不通过剪贴板导入 ovo? lE-a0 4.12.3 不通过剪贴板导出 #`YxoY ` 4.13 背景(Context) ZmYa.4'L 4.14 扩展公式 - 生成设计 Ivd[U`=Q 4.15 生成Rugate U|y;b+n` 4.16 参考文献 $=@9 D,R 5 在Essential Macleod中建立一个Job ;f\R$u- 5.1 Jobs Y_|K,T6Zj@ 5.2 创建一个新的Job cNuuzA 5.3 输入材料 gMoyy 5.4 设计数据文件夹 Q(!}t"u 5.5 默认设计 '.}6]l 6 细化和合成 Os]!B2j14 6.1 最优化导论 `E4!u=% 6.2 细化 eEg1- 6.3 合成 HNkZ1+P { 6.4 目标和评价函数 '<{oYXZW3 6.4.1 目标输入 LB64W ;#h 6.4.2 目标关联 a|]%/[G@ 6.4.3 特殊的评价函数 Aoy1<8WP%
6.5 膜层锁定和关联 %BKR} 6.6 优化技术 w#gU1yu 6.6.1 单纯形 Y9I #Q 6.6.1.1单纯形参数 x1 &b@u 6.6.2 Optimac JQ{zWJlt 6.6.2.1 Optimac参数 an[3vKb 6.6.3 模拟退火算法 edImrm1f 6.6.3.1退火参数 m_PrasZ> 6.6.4 共轭梯度 YiQeI|{oN 6.6.4.1共轭梯度参数 6S+K*/w 6.6.5 拟牛顿法 ;?HZ,"^I 6.6.5.1 拟牛顿法参数: 3ZJagJ\O 6.6.6 针形合成 V.P5v{ 6.7 我应该使用哪种技术? v|,[5IY 6.7.1 细化 8n. "5,P 6.7.2 合成 Y/eN) 6.8 参考文献 rz%[o,s 7 导纳图和其他工具 ,P; a/{U 7.1 介绍 sgb+@&}9n 7.2 导纳变换 Z%HEn$t 7.2.1 四分之一波长规则 ^&Rxui 7.2.2 导纳轨迹图 )2^/?jK 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 i1_>>49* 7.4 全介质抗反射膜的应用 LPm# 3U 7.5 对称周期结构 }:c,SO! 7.6 参考文献 MTFVnoZMQ_ 8.典型的镀膜实例 :v
WYII7 8.1 单层抗反射膜 }T1Xds8w)t 8.2 1/4-1/4抗反射膜 ]9yA0,z/ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 YK=#$,6 8.4 W-膜层 <DlanczziF 8.5 V-膜层 L_zmU_zD 8.6 高折射基底V-膜层 Zy+QA>d| 8.7 高折射率基底b V-膜层 i&s=!` 8.8 1/4-1/4高折射率基底 2I(@aB+ 8.9 四层抗反射膜 #3:'lGBIK 8.10 Reichert抗反射膜 ph&H |