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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark qvYYKu 译:讯技科技股份有限公司 1a4QWGpq 校:讯技科技股份有限公司 r=L9x/r >Fx$Rty 书籍概况: cw"x0 RS Z
mi<Z Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Kz3u 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 T,7Y7MzF 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 a4`@z:l .&@|)u 书籍目录 .2xypL8( |,sUD/rt 1 引言 >+vWtO2 2 光学薄膜基础 A$XjzTR 2.1 一般规则 ~g|e?$j 2.2 正入射规则 U"m!f*a 2.3 斜入射规则 jcq(=7j 2.4 精确计算 `t!iknOQ$ 2.5 相干性 Mh+'f 93 3 Essential Macleod的快速预览 #Z$6>
Xt 4 Essential Macleod的特点 ` V^#Sb 4.1 容量和局限性 _&(ij(H 4.2 程序在哪? Go`omh
b 4.3 数据文件 x;Gyo 4.4 设计规则 #mkr]K8A4 4.5 材料数据库和目录库 Ac7`nvI= 4.5.1 材料数据库及导入材料 X'?v8\mPK 4.5.2 材料目录库 ejr"(m(Xe 4.5.3 导出材料数据 GE5@XT 4.6 常用单位 lh#GD"^(w& 4.7 插值 ^G2vA8% 4.8 材料数据的平滑 -S,dG| 4.9 一般文档编辑规则 /$eEj 4.10 设计文档 Qgx~'9 4.10.1 公式 e/Q[%y.X 4.10.2 更多关于膜层厚度 Q.yKbO<[ 4.10.3 沉积密度 2{V| 4.10.4 性能计算 c(Ha"tBJ 4.10.5 保存设计和性能 l?FNYvL 4.10.6 默认设计 --^D)n 4.11 图表 b$$XriD] 4.11.1 合并曲线图 \~?s= LT 4.11.2 自适应绘制 KFfwZkj{ 4.11.3 动态参数图 /pk;E$qv 4.11.4 3D绘图 vq5I 2 4.12导入和导出 @nT8[v 4.12.1 剪贴板 OT *W]f 4.12.2 不通过剪贴板导入 w5*18L=O\ 4.12.3 不通过剪贴板导出 $Ilr.6'; 4.13 背景(Context) &9ZIf#R 4.14 扩展公式 - 生成设计 ,@!d%rL:4] 4.15 生成Rugate I9Sh~vTm=u 4.16 参考文献 {VNeh 5 在Essential Macleod中建立一个Job F
5JgR-P 5.1 Jobs {a_L
/"7 5.2 创建一个新的Job ncA2en? 5.3 输入材料 @<6-uk3S 5.4 设计数据文件夹 zp9 ?Ia 5.5 默认设计 Wey\GQ`"8 6 细化和合成 A!Yqj~ 6.1 最优化导论 3+$O#> 6.2 细化 d:wAI| 6.3 合成 5-3gsy/Mo 6.4 目标和评价函数 $U0(%lIU 6.4.1 目标输入 A+}4N%kh 6.4.2 目标关联 _0f[.vN 6.4.3 特殊的评价函数 ;C{_T:LS 6.5 膜层锁定和关联 N-Z 9
6.6 优化技术 Grub1=6l 6.6.1 单纯形 vOj$-A--qU 6.6.1.1单纯形参数 Hb$q}1+y 6.6.2 Optimac <qy+@t 6.6.2.1 Optimac参数 Rd$<R 6.6.3 模拟退火算法 .o8Gi*PEY 6.6.3.1退火参数 n$?oZ*; 6.6.4 共轭梯度 bc"N 6.6.4.1共轭梯度参数 ;8v5 qz 6.6.5 拟牛顿法 "D/ fB%h` 6.6.5.1 拟牛顿法参数: fE:2MW!)* 6.6.6 针形合成 x('yBf 6.7 我应该使用哪种技术? (j/O=$mJ 6.7.1 细化 S- H3UND" 6.7.2 合成 pqr"x2=. 6.8 参考文献 #.='dSj 7 导纳图和其他工具 MDq @:t 7.1 介绍 /PCQv_Y&,/ 7.2 导纳变换 [y:LA~q 7.2.1 四分之一波长规则 fI|1@e1 7.2.2 导纳轨迹图 p[eRK .$! 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 xle29:?l 7.4 全介质抗反射膜的应用 X<{m;T ` 7.5 对称周期结构 Cnr48ukq 7.6 参考文献 ~;W%s 8.典型的镀膜实例 b1OB'P8
8.1 单层抗反射膜 D5p22WY 8.2 1/4-1/4抗反射膜 <f6Oj`{f4 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 cjW]Nw 8.4 W-膜层 r__M1
!3 8.5 V-膜层 f,#xicSB* 8.6 高折射基底V-膜层 a=O!\J 8.7 高折射率基底b V-膜层 Pla EI p 8.8 1/4-1/4高折射率基底 >xjy
P!bca 8.9 四层抗反射膜 >']H)c'2 8.10 Reichert抗反射膜 /$=^0v+ 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 tFQFpbI 8.12 宽波段6层抗反射膜 R[c_L= 8.13 宽波段8层抗反射膜 `jHGNi 8.14 宽波段25层抗反射膜 Vh8uE 8.15 四层2-1 增透膜 &M!:,B 8.16 1/4波长堆栈 I}WJ0}R 8.17 陷波滤光器 +=_Pl7? 8.18 Rugate ;D1IhDC 8.19 消偏振分光片1 O2e"TH3 8.20 消偏振分光片2 ^bG!k]U!2 8.21 消偏振立体分光片 SMyg=B\x?7 8.22 消偏振截止滤光片 LcXMOT)s 8.23 偏振立体分光片1 #O
WSy'Qnt 8.24 偏振立体分光片2 "J#:PfJ% 8.25 缓冲层 d#\n)eGr 8.26 红外截止滤光片 7'S] 8.27 21层长波通过光片 ~-+Zu< 8.28 49层长波通滤光片 7yp*I[1Qf> 8.29 55层长波通滤光片 ^XM;D/Gp~ 8.30 宽带通滤光片 TRZ^$<AG 8.31 诱导透射滤光片 hqPn~Tq 8.32 诱导透射滤光片2 lu_Gr=#O 8.33 简易密集型光波复用(DWDM)滤光片 '}u31V"SS 8.34 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤光片 pA'A<|)K0 8.35 增益平坦滤光片 F?=u: 8.36 啁啾反射镜1 (=j!P* 8.37 啁啾反射镜2 p2G8Qls 8.38 啁啾反射镜3 z"3c+?2 8.39 铝保护膜 5qy}~dQ 8.40 铝反射增强膜 R=PzR;8 8.41 参考文献 |BW,pT 9 多层膜 B]7jg9/ 9.1 多层膜基本原理—堆栈 jGn^<T\ 9.2 内透过率 ^&iV |