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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark 9%"`9j~H> 译:讯技科技股份有限公司 3HW&\:q5'M 校:讯技科技股份有限公司 >(wQx05^D C&R U 书籍概况: (DS"*4ty R!lug;u# Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 VX>j2Z' 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 G%AO%II 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 9I;~P & :K"~PrHm 书籍目录 c))?9H
,e) mfS}+_ C 1 引言 pek=!nZ 2 光学薄膜基础 OP" _I!t 2.1 一般规则 cofdDHXfQI 2.2 正入射规则 +^&i(7a[? 2.3 斜入射规则 9V[}#(f$ 2.4 精确计算 i3Bpim. 2.5 相干性 ",J&UTUh 3 Essential Macleod的快速预览 k0#s{<I]E 4 Essential Macleod的特点 'bz&m( ! 4.1 容量和局限性 pe2:~}WB 4.2 程序在哪? H(P]Z~et 4.3 数据文件 p<#aXs jy 4.4 设计规则 kh:_,g 4.5 材料数据库和目录库 0I<L<^s3^U 4.5.1 材料数据库及导入材料 _cj=}!I 4.5.2 材料目录库 <\O8D0.d 4.5.3 导出材料数据 bt_c$TN 4.6 常用单位 NsSZ?ky 4.7 插值 bgKC^Q/F 4.8 材料数据的平滑 }+G5i_a 4.9 一般文档编辑规则 9==4T$nM[ 4.10 设计文档 x<Gjr} 4.10.1 公式 >u(^v@Ejf 4.10.2 更多关于膜层厚度 qNP)oU92 4.10.3 沉积密度 O(!;7v} 4.10.4 性能计算 L8!yP.3 4.10.5 保存设计和性能 i*m;kWu, 4.10.6 默认设计 V,0$mBYa 4.11 图表 kGo2R]Dd[ 4.11.1 合并曲线图 H.E=m0np 4.11.2 自适应绘制 /4 OmnE; 4.11.3 动态参数图 C;K+ITlJ 4.11.4 3D绘图 4%w<Ekd 4.12导入和导出 vmrs(k "d# 4.12.1 剪贴板 unew
XHA 4.12.2 不通过剪贴板导入 Z`MpH 4.12.3 不通过剪贴板导出 9d-'%Q>+ 4.13 背景(Context) }2"W0ZdWD 4.14 扩展公式 - 生成设计 SZ9DT 4.15 生成Rugate _ahp7-O 4.16 参考文献 AWx@Z7\z"g 5 在Essential Macleod中建立一个Job Xq03o#-p+ 5.1 Jobs 58HA*w 5.2 创建一个新的Job 6w;`A9G[YI 5.3 输入材料 =E%@8ZbK 5.4 设计数据文件夹 zIu/!aw 5.5 默认设计 Qg~w 3~ 6 细化和合成 zGyRzxFN 6.1 最优化导论 fRLA;1va 6.2 细化 <N$ Hb2b 6.3 合成 !#W>x49} 6.4 目标和评价函数 f^lcw 6.4.1 目标输入 )UF'y{K} 6.4.2 目标关联 5X+`aB 6.4.3 特殊的评价函数 wv." 6.5 膜层锁定和关联 %_4#WI 6.6 优化技术 ,52 IR[I<T 6.6.1 单纯形 ~mXzQbe
p 6.6.1.1单纯形参数 GdNhEv 6.6.2 Optimac ?HZ^V 6.6.2.1 Optimac参数 'uDx$AkY 6.6.3 模拟退火算法 `N.:3]B
t 6.6.3.1退火参数 Z'y &11 6.6.4 共轭梯度 =<p=?16
x 6.6.4.1共轭梯度参数 R2a99# J 6.6.5 拟牛顿法 XX%K_p`&Z 6.6.5.1 拟牛顿法参数: 43B0ynagN 6.6.6 针形合成 E
z}1Xse 6.7 我应该使用哪种技术? ^@RvCJ+ 6.7.1 细化 U'(zKqC 6.7.2 合成 %sOY:>
6.8 参考文献 ,3T"fT-( 7 导纳图和其他工具 w)zJ $l 7.1 介绍 rDbtT*vN 7.2 导纳变换 {cOx0= 7.2.1 四分之一波长规则 df@N V Ld 7.2.2 导纳轨迹图 v+ in:\Dv 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 k89N}MA 7.4 全介质抗反射膜的应用 {G x=QNd 7.5 对称周期结构 6Yodx$ 7.6 参考文献 s9CmR]C 8.典型的镀膜实例 Z^%a 1>` 8.1 单层抗反射膜 nCWoco.xy 8.2 1/4-1/4抗反射膜 6d;}mhH 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 "IzAvKPM 8.4 W-膜层 p{LbTjdNc 8.5 V-膜层 P4_B.5rrJ 8.6 高折射基底V-膜层 l+P!I{n 8.7 高折射率基底b V-膜层 9GCK3 8.8 1/4-1/4高折射率基底 UH%H9;
,$] 8.9 四层抗反射膜 ,m?V3xvq 8.10 Reichert抗反射膜 xO>z
)3A 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 Gkem _Z 8.12 宽波段6层抗反射膜 nng|m 8.13 宽波段8层抗反射膜 )M+po-6$1 8.14 宽波段25层抗反射膜 a<\n$E#q 8.15 四层2-1 增透膜 _xePh 8.16 1/4波长堆栈 [.xY>\e 8.17 陷波滤光器 \UZGXk 8.18 Rugate }vU/]0@,E 8.19 消偏振分光片1 ;xz_H$g 8.20 消偏振分光片2 '=Zm[P, 8.21 消偏振立体分光片
q#mL-3OQ 8.22 消偏振截止滤光片 Z8bg5% 8.23 偏振立体分光片1 "kFH*I+v 8.24 偏振立体分光片2 o^X3YaS)
8.25 缓冲层 :E6*m\X!3 8.26 红外截止滤光片 d;l%XZe 8.27 21层长波通过光片 f< |