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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark
DN2 ]Y' 译:讯技科技股份有限公司 xvTtA61Vp 校:讯技科技股份有限公司 N1'`^a y$ eGEwXza 4 书籍概况: eft=k} f-F=!^. Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 %%NoXW 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 D:@W*, 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 _5p$#U` Vh\_Ko\V5 书籍目录 doanTF4Da 1ubu~6 1 引言 x$LCLP#$H 2 光学薄膜基础 KtQs uL% 2.1 一般规则 i<ES/U\ 2.2 正入射规则 ^OV; P[ 2.3 斜入射规则 iE'_x$i 2.4 精确计算 %],BgLhS. 2.5 相干性 S F)$b 3 Essential Macleod的快速预览 gNZwD6GMe? 4 Essential Macleod的特点 kZ%
AGc 4.1 容量和局限性 Z[@ i/. I 4.2 程序在哪? oKn$g[,SJh 4.3 数据文件 *Dg@fxCQ 4.4 设计规则 tb&?BCp 4.5 材料数据库和目录库 7\UHADr 4.5.1 材料数据库及导入材料 6{+yAsI 4.5.2 材料目录库 @)b'3~D 4.5.3 导出材料数据 0fqcPi 4.6 常用单位 p\[!=ZXFr\ 4.7 插值 Z|qI[ui O 4.8 材料数据的平滑 u#ya
8 4.9 一般文档编辑规则 8-G )lyfj 4.10 设计文档 =zn'0g,J4 4.10.1 公式 gN/!w: 4.10.2 更多关于膜层厚度 Y][12{I{ 4.10.3 沉积密度 =i)%AnZ^9 4.10.4 性能计算 VN)WBv
4.10.5 保存设计和性能 gclj:7U 4.10.6 默认设计 u$JAjA 4.11 图表 sV"tN2W@ 4.11.1 合并曲线图 4u5j
7`O 4.11.2 自适应绘制 (XOz_K6c%K 4.11.3 动态参数图 }%XB*pzQ 4.11.4 3D绘图 g]f<k2 4.12导入和导出 &eV5#Ph 4.12.1 剪贴板 [+WsVwyf? 4.12.2 不通过剪贴板导入 Pim 4.12.3 不通过剪贴板导出 _f!ko<52 4.13 背景(Context) a#1r'z~]} 4.14 扩展公式 - 生成设计 'fn}I0Vc 4.15 生成Rugate G!FdTvx$ 4.16 参考文献 H
r:*p6 5 在Essential Macleod中建立一个Job A ON
|b\? 5.1 Jobs }d5]N 5.2 创建一个新的Job qK'mF#n0# 5.3 输入材料 j"jssbu} 5.4 设计数据文件夹 ewcFzlA@ 5.5 默认设计 0j$=KA 6 细化和合成 ]:f.=" 6.1 最优化导论 $@VJ@JAe 6.2 细化 fS}Eu4Xe 6.3 合成 Uv59 XF$ 6.4 目标和评价函数 $l,U) 6.4.1 目标输入 q;AD#A|\ 6.4.2 目标关联 %ZRv+}z 6.4.3 特殊的评价函数 }e7/F[c.U 6.5 膜层锁定和关联 0-p^ oA 6.6 优化技术 3JD62wtx 6.6.1 单纯形 _CNXyFw.7 6.6.1.1单纯形参数 (lwV(M 6.6.2 Optimac ,q*|R
O 6.6.2.1 Optimac参数 (U5XB
[r_P 6.6.3 模拟退火算法 }'<Z&NW6 6.6.3.1退火参数 (B\Kb4m 6.6.4 共轭梯度 3+>R%TX6i< 6.6.4.1共轭梯度参数 bN?*p($/ 6.6.5 拟牛顿法 7NEOaX(J9 6.6.5.1 拟牛顿法参数: Q8HNST($? 6.6.6 针形合成 )-+tN>Bb 6.7 我应该使用哪种技术? '0f!o&?g 6.7.1 细化 G$zY& 6.7.2 合成 1N),k5I 6.8 参考文献 oxFd@WV5 7 导纳图和其他工具 K;/f?3q 7.1 介绍 FBNi (D 7.2 导纳变换 O#tmB?n* 7.2.1 四分之一波长规则 a3A-N] ;f 7.2.2 导纳轨迹图 8k{XUn 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 Q-,
4 7.4 全介质抗反射膜的应用 '5$: #|- 7.5 对称周期结构 1mgw0QO 7.6 参考文献 <> =(BAw 8.典型的镀膜实例 g?1bEOA! 8.1 单层抗反射膜 (6[< |