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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark r NqJL_! 译:讯技科技股份有限公司 zV4%F"- 校:讯技科技股份有限公司 \h :Rw| %g0"Kj5 书籍概况: /,/T{V[ +yS"pOT Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 nPfVZGt 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 /pFg<
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 LZM[Wg# /+sn-$/"i 书籍目录 FD#?pVyPn^ xh@H@Q\ 1 引言 >('L2]4\v 2 光学薄膜基础 =@binTC4 2.1 一般规则 ~0|~Fg 2.2 正入射规则 }9:\# 2.3 斜入射规则 =9YyUAJZ 2.4 精确计算 l8GziM{lp 2.5 相干性 M$%aX,nk' 3 Essential Macleod的快速预览 2j4VW0: 4 Essential Macleod的特点 Rr4r[g# 4.1 容量和局限性 0FjSa\ZH 4.2 程序在哪? 1<<`T%& 4.3 数据文件 20zIO.&o 4.4 设计规则 /I$g .f/# 4.5 材料数据库和目录库 -CT?JB 4.5.1 材料数据库及导入材料 /%Rz`} 4.5.2 材料目录库 ]J;^< 4l
4.5.3 导出材料数据 )`-9WCd& 4.6 常用单位 &]pW## 4.7 插值 # u^F B 4.8 材料数据的平滑 6N~~:Gt 4.9 一般文档编辑规则 R7x4v 4.10 设计文档 U&wVe$ 4.10.1 公式 \KLWOj% 4.10.2 更多关于膜层厚度 #R305 4.10.3 沉积密度 }3lM+]pf 4.10.4 性能计算 #?!)-Q% 4.10.5 保存设计和性能 vj[
.`fY 4.10.6 默认设计 d|j3E 4.11 图表 c(ZkK 4.11.1 合并曲线图 uzho>p[ae 4.11.2 自适应绘制 twNZ^=S Gr 4.11.3 动态参数图 }n:'@} 4.11.4 3D绘图 l]T|QhiVd 4.12导入和导出 <z %zzc1s 4.12.1 剪贴板
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z$ 4.12.2 不通过剪贴板导入 N:d`L+tcc 4.12.3 不通过剪贴板导出 cEve70MV 4.13 背景(Context) bH3-#mw5w 4.14 扩展公式 - 生成设计 mZ7.#R*} 4.15 生成Rugate ]#j]yGV 4.16 参考文献 *1ku2e]z 5 在Essential Macleod中建立一个Job 2P!Pbl< 5.1 Jobs ;8|uY%ab 5.2 创建一个新的Job Z7K;~* 5.3 输入材料 Ga.a"\F.V 5.4 设计数据文件夹 N=zrY`Vd 5.5 默认设计 _;v4]MU 6 细化和合成 =MB[v/M59w 6.1 最优化导论 #&1mc_`/ 6.2 细化 V. =! ^0'A 6.3 合成 EXS
1.3> 6.4 目标和评价函数 BtVuI5*h 6.4.1 目标输入 IObGmc 6.4.2 目标关联 zK k;&y|{ 6.4.3 特殊的评价函数 db@i*Bf 6.5 膜层锁定和关联 8nt:peJ$+ 6.6 优化技术 DFVaZN?~
6.6.1 单纯形 $;@^coz9U 6.6.1.1单纯形参数 Dx 4?6 6.6.2 Optimac (](:0H 6.6.2.1 Optimac参数 hG
uRV|` 6.6.3 模拟退火算法 la</IpC 6.6.3.1退火参数 v'`C16&^] 6.6.4 共轭梯度 9Fv1D 6.6.4.1共轭梯度参数 )f*&}SV 6.6.5 拟牛顿法
3RXq/E 6.6.5.1 拟牛顿法参数: %gkRG66 6.6.6 针形合成 a+uSCs[C 6.7 我应该使用哪种技术? 9K@`n:Rw 6.7.1 细化 FU;Tv). 6.7.2 合成 P"XF|*^U 6.8 参考文献 "n}J6 7 导纳图和其他工具 Al5E 7.1 介绍 eL0U5># 7.2 导纳变换 vfK^^S 7.2.1 四分之一波长规则 SBzJQt@Hs 7.2.2 导纳轨迹图 ltwX- 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 #:3ca] k 7.4 全介质抗反射膜的应用 i!*w'[G->Y 7.5 对称周期结构 u+&BR1)C 7.6 参考文献 i'H{cN6 8.典型的镀膜实例 5 qt]~v%y 8.1 单层抗反射膜 \v)Dy)Vhg2 8.2 1/4-1/4抗反射膜 J LT10c3 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 r.lH@}i%n 8.4 W-膜层 <ZSH1~<{6 8.5 V-膜层 |j^^*z@ 8.6 高折射基底V-膜层 Zz!XH8sH 8.7 高折射率基底b V-膜层
WUvrC 8.8 1/4-1/4高折射率基底 ~4"adOv 8.9 四层抗反射膜 ylUxK{ 8.10 Reichert抗反射膜 P6u9Ngay 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 fINF;TK 8.12 宽波段6层抗反射膜 07[A& |