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国产光刻机迈出重要一步 国产光刻机传来好消息，迈出重要一步。得益于芯片制造产业的快速发展，光刻机成为了许多芯片制造商们争抢的半导体设备。作为造芯片必不可少的设备工具，越顶级的光刻机能够曝光更多的晶圆，并且在极致光源波长的作用下，光刻出数量越多的晶体管。目前全球最顶级的光刻机是EUV极紫外光源，它的生产制造能力掌握在荷兰ASML公司手中。短时间内国产光刻机还达不到这样的成就，可是也不需要气馁，因为国产光刻机也在不断传来好消息，说明并未停止脚步。 只要不断前进，就能迎来破局的曙光。这一次国产光刻机在曝光光学系统上传来好消息，迈出重要一步。消息事件的主角是北京国望光学科技有限公司，根据该公司公布的公告显示，投影光刻机曝光光学系统研发及批量生产基地项目有三家候选人中标，这三家候选人主要负责曝光光学系统该项目的生产厂商洁净工程。 国望光学在光刻机产业链的定位是物镜系统供应商，这次展开的曝光光学系统研发及生产建设项目，可以说是让国产光刻机迈出了重要一步。因为国望光学这一生产建设项目的布局规划几乎涉及到从成熟工艺到先进工艺的覆盖，满足350/280nm 节点到28nm工艺节点及以下的光刻机曝光光学系统产品IDM模式能力，实现集设计研发，生产制造和供货交付的能力。 不出意外，国望光学这次是实现了光刻机四大件之一的物镜系统进步了。顶级光刻机有10万个零部件，这点相信大家都清楚。但光刻机最主要的四大件才是重中之重的关键，包括双工件台、光学系统、控制软件、物镜系统。这四大件当中国内都有各自的供应商巨头传来好消息，双工件台可以由华卓精科负责，科益虹源负责光源系统，国望光学参与物镜系统的打造，至于控制软件还有待完善产业链。 虽然距离国外EUV光刻机的水准还有路要走，可经过日积月累的进步后，一定能迎来转机。北京国望光学正在开展的曝光光学系统研发生产建设项目已经进入到关键阶段，从公布厂房洁净工程候选人时就知道，国产光刻机已经迈出了重要一步。一旦生产基地如期在2023年投入使用，势必实现国产光刻机产业链的核心项目突破。作为光刻机的四大件之一，解决了一个再去解决第二个难题，一步步向前，直至目标。 迈出这一步有何意义？国内并非没有自己的光刻机产业链，大家只看到了ASML有何种光刻机制造实力，其实只要有去了解国产光刻机的产业链结构，会发现很多关键的零部件生产商都是有的。 而这些产业链技术最终组装成整机光刻机，上海微电子参与最终的设备制造，出厂销售。所以造光刻机不是一家公司的事，而是需要整个产业链的一起努力。有人说ASML最强的实力是整合产业链而不是造光刻机，这句话是有一定道理的。ASML对外进口了大量先进零部件，国外技术占比90%，若不是得到来自世界各国供应商的支持，ASML也走不到这一步。这也告诉我们不积跬步，无以至千里，不积小流，无以成江海。意思就是不去积累每一步的路程，怎么能到达千里之外。江河入海的过程中持续凝聚力量，最终厚积薄发。 所以国望光学为国产光刻机迈出这一步，意义是十分重大的。不仅为国产光刻机补齐了一大供应链缺口，而且有望实现在28nm及以下的工艺突破。外界可能意识不到突破28nm及以下工艺节点的重要性，目前国产芯片制造技术已经可以实现14nm工艺的量产，中芯国际参与芯片制造。可是掌握技术是一回事，有没有国产供应链的参与又是另外一回事了。 写在最后。中芯国际实现14nm芯片量产，靠的是进口ASML的DUV光刻机，可如果国产光刻机能够实现28nm以下节点的突破，很有可能触及到DUV光刻机的工艺程度。那么距离最高的EUV光刻机技术就不会太过于遥远了。当然，现在的目标是走好每一步，不需要过于着急，稳扎稳打最重要。 关键词： 光刻机
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