光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 t V:oBT*  
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培训大纲 z/Kjz$l!  

{=q$k=ib   01 OpticStudio 软件功能介绍; ~*-%tFSv   02 材料库、镜头库介绍； @'ln)RT,   03 如何定义新材料； Tx|}ke ~   04 如何使用镜头库；	Ug1[pONk   23 柯勒照明综合设计实例； iYE7BUH=   24 投影系统设计 1yg5d9   25 集光系统设计； R'Y=- yF   1vG]-T3VC   26 暗盒系统介绍；
rRK^vfoJ`   05 像差理论介绍； YO3$I!(   06 Zemax 里像差分析图谱； {Iu9%uR>@   07 优化; ]JUb;B;Z   08 局部优化	jr=>L:   27 分析工具应用； iax6o+OG|   28 寻找最佳非球面 YM(`E9{h   29 曲率套样板； ,];4+&|8kW   3SU:Xd(\o   30 镜头匹配工具；
`Qg#`   09 全局优化； Y2B",v"   10 锤形优化； u]Eyb),Gy   11 优化函数架构技巧； i]L4kh5   12 单透镜优化实例	+I9+L6>UR   31 Zemax 公差分析功能介绍; UyWKE<   32 加工误差、装配误差； >@T(^=Q   33 灵敏度分析; ^UJ#YRzi   34 反灵敏度分析;
JBCJVWUt   13 双胶合优化实例； "\:ZH[j   14 热分析及衍射光学元件的使用; NETji:d   15 实例设计及分析； +~H mP Q   16 MTF	.AzGPcJY   35 蒙特卡罗分析; FX6*`   jcuC2t   36 公差评价标准； q7VpKfA:M   37 公差操作数； R'.YE;leBG   38 补偿变量的使用；
] SErM#$*   17 双高斯镜头设计及优化； yVP 1=pz_[   18 像质评价与图像模拟； U_/<tWl\[3   19 坐标变换； 'g$a.75/-   20 坐标断点面的使用技巧	:M%s:,]R   39 单透镜公差分析； Ijs"KAW ?   sHr!GF   40 库克镜头公差分析； &7gE=E(M   41 分析报告查看说明； n5yPUJK2L6   42 公差脚本的使用；
/JOEnQ5X\!   21 序列模式棱镜建模； N-+`[8@(P<   ST^@7f_   22 扫描反射镜设计实例；	f7Dx.-   43 镜头出图、CAD 出图； 3cp"UU}.   44 小结及答疑

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培训信息 ?_NhR  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。