光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 0Ju{6x(|  

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培训大纲 '};Xb|msU  

O_ cK4   01 OpticStudio 软件功能介绍; uD"Voh|]=   02 材料库、镜头库介绍； /%)J+K)   03 如何定义新材料； };*5+XY^   04 如何使用镜头库；	bpzA ' g>   23 柯勒照明综合设计实例； KR*/yeG!E   24 投影系统设计 ,<BTv;4p   25 集光系统设计； P1kd6]s   w%ForDB>P   26 暗盒系统介绍；
Dz?F,g_   05 像差理论介绍； ktCh*R[`   06 Zemax 里像差分析图谱； L2$%h1   07 优化; 1\McsX4   08 局部优化	6T-(GHzfHJ   27 分析工具应用； Wg[`H=)Q   28 寻找最佳非球面 ]mp.KvB   29 曲率套样板； 7Q `4*H6   a4 wh-35/   30 镜头匹配工具；
k`-L5# `   09 全局优化； X7G6y|4;w   10 锤形优化； ?}y7S]B FI   11 优化函数架构技巧； P|\,kw>l   12 单透镜优化实例	V;m3=k0U   31 Zemax 公差分析功能介绍; (<ejJPWT   32 加工误差、装配误差； W`Soa&9   33 灵敏度分析; TzOf&cs/r   34 反灵敏度分析;
((y+FJH   13 双胶合优化实例； jkbz8.K   14 热分析及衍射光学元件的使用; . &e,8   15 实例设计及分析； D526X0   16 MTF	eRGip2^cq+   35 蒙特卡罗分析; Zy'bX* s|   G -;Yua2\   36 公差评价标准； SbB5J> >7J   37 公差操作数； 0iYe>u   38 补偿变量的使用；
K46\Rm_:B;   17 双高斯镜头设计及优化； sB6UlX;b:   18 像质评价与图像模拟； GB-=DC6   19 坐标变换； a^2?W   20 坐标断点面的使用技巧	<Z vG&   39 单透镜公差分析；  I{E10;   {DpZg",H-   40 库克镜头公差分析； znM"P|A   41 分析报告查看说明； 9+L! A   42 公差脚本的使用；
os>|LPv4   21 序列模式棱镜建模； d.{RZq2cp   A81kb   22 扫描反射镜设计实例；	X1+Wb9P   43 镜头出图、CAD 出图； SO}Hc;Q1`   44 小结及答疑

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培训信息 0s4%22  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。