光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 L>h|1ZK  
o! l Ykud  
培训大纲 =EYWiK77a  

L#",.x   01 OpticStudio 软件功能介绍; \h"U+Bv7   02 材料库、镜头库介绍； 6w=`0r3hy   03 如何定义新材料； kO5lLq E   04 如何使用镜头库；	%vv`Vx2   23 柯勒照明综合设计实例； }v's>Ae~p   24 投影系统设计 &+n9T?+b   25 集光系统设计； t/}NX[q   jU $G<G   26 暗盒系统介绍；
=?c""~7   05 像差理论介绍； 41x"Q?.bY   06 Zemax 里像差分析图谱； *a\6X( ~   07 优化; V2!0),]B   08 局部优化	Wqkb1~]#Y   27 分析工具应用； p- a{6<h   28 寻找最佳非球面 8IA1@0n&   29 曲率套样板； zXM,cV/s   gW,hI>   30 镜头匹配工具；
*E*oWb]H   09 全局优化； 9b/Dswxjx   10 锤形优化； 7o0zny3?   11 优化函数架构技巧； ^DN:.qQ   12 单透镜优化实例	)S 7+y6f&*   31 Zemax 公差分析功能介绍; c:.~%AJx   32 加工误差、装配误差； b8e\(Dww   33 灵敏度分析; Kv(R|d6Lp   34 反灵敏度分析;
V^,eW!   13 双胶合优化实例； 0'Si ^>bW   14 热分析及衍射光学元件的使用; .%s U)$bH   15 实例设计及分析； @zC6 `   16 MTF	Z4EmRa30 p   35 蒙特卡罗分析; 4Wp5[(bg   R0}1:1}$Sn   36 公差评价标准； K Ax=C}9   37 公差操作数； ni&|;"Nt-   38 补偿变量的使用；
+i!5<nn   17 双高斯镜头设计及优化； -?-XO<I   18 像质评价与图像模拟； ~\mh\a&   19 坐标变换； ~W[I   20 坐标断点面的使用技巧	dYwk P^KB   39 单透镜公差分析； odSPl{.>d   8f/KNh7#s   40 库克镜头公差分析； y-db CYMc   41 分析报告查看说明； v!8=B21   42 公差脚本的使用；
N(Ru/9!y"   21 序列模式棱镜建模； %\v8FCb   c3O/#*   22 扫描反射镜设计实例；	W;'fAohr   43 镜头出图、CAD 出图； 54CJ6"q   44 小结及答疑

;U|(rM;  
U\p`YZ  
培训信息 bAPMD  

• 0k5-S~_\  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• 4kjfYf@A  
  培训主题：Zemax 成像设计
• B=!!R]dxA  
  培训形式：线上培训
• J(l\VvK  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
• :YI5O/gsk?  
  培训费用：￥ 1980元 / 人

G
Ln=*Dh#  
三人及以上组团报名可享八折优惠

• N<9 c/V  
  报名方式：扫码报名

【备注】 <NMJkl-r8r  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。