光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 E2|c;{c  
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培训大纲 cK2Us+h  

UyOoyyd.   01 OpticStudio 软件功能介绍; mr`EcO0   02 材料库、镜头库介绍； qo0]7m7|   03 如何定义新材料； 86f/R c   04 如何使用镜头库；	2aGK}sS6   23 柯勒照明综合设计实例； n]%yf9,w   24 投影系统设计 4N{^niq7   25 集光系统设计； 2a:JtJLl   ht^xcc   26 暗盒系统介绍；
Og<UW^VR   05 像差理论介绍； Y&`nB,'   06 Zemax 里像差分析图谱； n&}ILLc   07 优化; 6Vc&g   08 局部优化	U*Pi% J   27 分析工具应用； ~D\ V!   28 寻找最佳非球面 J9/}ZD^   29 曲率套样板； (:T\<   NpYzN|W:   30 镜头匹配工具；
9p<ZSh   09 全局优化； 5J<ghv>\P   10 锤形优化； Tg.}rNA4   11 优化函数架构技巧； 9!oNyqQ   12 单透镜优化实例	Zae$M0)   31 Zemax 公差分析功能介绍; -AxO1 qO   32 加工误差、装配误差； tsu Mt   33 灵敏度分析; = eDi8A*~   34 反灵敏度分析;
j]5bs*G   13 双胶合优化实例； =` 6 _{<&   14 热分析及衍射光学元件的使用; m%km@G$   15 实例设计及分析； Kdwt^8Umh   16 MTF	IPT\d^|f   35 蒙特卡罗分析; /__@a&9t   'rQ>Z A_8   36 公差评价标准； \`M8Mu9~w   37 公差操作数； uDpCW}   38 补偿变量的使用；
Grw|8xN0t   17 双高斯镜头设计及优化； `aW>h8$I)   18 像质评价与图像模拟； B#K{Y$!v   19 坐标变换； 3@/\j^U   20 坐标断点面的使用技巧	oMV<Yn_<   39 单透镜公差分析； N3J;_=<4   5J4'\M   40 库克镜头公差分析； kq kj.#u   41 分析报告查看说明； .`3O4]N[   42 公差脚本的使用；
89[5a   21 序列模式棱镜建模； ~SRK}5E   ?W(>Yefk   22 扫描反射镜设计实例；	TxD,A0   43 镜头出图、CAD 出图； x2bKFJ>e@   44 小结及答疑

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培训信息 -6OgM}  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• U\ Et  
  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
• yIL6Sb  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
• jLRh/pbz4  
  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 $-}a<UFE;  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。