光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 =/!{<^0  
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培训大纲 9;xL!cy  

g:uaI   01 OpticStudio 软件功能介绍; \( Gf+   02 材料库、镜头库介绍； b_K?ocq   03 如何定义新材料； f:JYG]E&   04 如何使用镜头库；	P?3YHa^up   23 柯勒照明综合设计实例； $2 +$,:   24 投影系统设计 .zSimEOF   25 集光系统设计； jl 30\M7   5{!a+   26 暗盒系统介绍；
#1,>Qnl   05 像差理论介绍； =ihoVA:|   06 Zemax 里像差分析图谱； Y9 I #Q   07 优化; Ztpm_P6   08 局部优化	uP%;QBb   27 分析工具应用； 21)-:rS   28 寻找最佳非球面 !Xv2PdP   29 曲率套样板； `Q(]AGI2   bdsHA2r`s   30 镜头匹配工具；
7zJh;f/   09 全局优化； xTksF?u)   10 锤形优化； @88 z{   11 优化函数架构技巧； J*6n6   12 单透镜优化实例	]B-$p p   31 Zemax 公差分析功能介绍; F~d7;x=g   32 加工误差、装配误差； 4 L~;>]7   33 灵敏度分析; DbNi;m   34 反灵敏度分析;
J:TI>*tn   13 双胶合优化实例； w7*b}D@65\   14 热分析及衍射光学元件的使用; Z%HEn$t   15 实例设计及分析； ^ &Rxui   16 MTF	)2 ^/?jK   35 蒙特卡罗分析; Oa_o"p <Lr   LPm# 3U   36 公差评价标准； }:c,SO!   37 公差操作数； MTFVnoZMQ_   38 补偿变量的使用；
:v WYII7   17 双高斯镜头设计及优化； p#8LQP~0$   18 像质评价与图像模拟； a@a1TpLQ   19 坐标变换； &Ow?Hd0   20 坐标断点面的使用技巧	:x*|lz[   39 单透镜公差分析； -R8!"~o   $=QGua V   40 库克镜头公差分析； E 4$h%5   41 分析报告查看说明； /cg]wG!n8   42 公差脚本的使用；
SUnmp   21 序列模式棱镜建模； gkq RO19   T~ q'y~9o   22 扫描反射镜设计实例；	glKs8^W   43 镜头出图、CAD 出图； :+dWJNY:   44 小结及答疑

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培训信息 z1@sEfk>  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 g2b4 ia!L  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。