光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 dbkkx1{>Y  
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培训大纲 cxTP4\T\E  

8{5Y%InL   01 OpticStudio 软件功能介绍; n7RswX   02 材料库、镜头库介绍； apxZ}   03 如何定义新材料； `<Z5/;a5W   04 如何使用镜头库；	Bi"7FF(z   23 柯勒照明综合设计实例； Ni5~Buf   24 投影系统设计 `.z;.&x   25 集光系统设计； yZ[H&>   Y[A L!h   26 暗盒系统介绍；
."R,j|o6   05 像差理论介绍； ,}!OJyT   06 Zemax 里像差分析图谱； |Ire#0Nwx   07 优化; &qki NS   08 局部优化	SxMrX C*   27 分析工具应用； D?w?0b Eu   28 寻找最佳非球面 `}1IQ.3   29 曲率套样板； #zC_;u$   $_-f}E   30 镜头匹配工具；
k zhek >   09 全局优化； .+<Ul]e/   10 锤形优化； iH& Izv   11 优化函数架构技巧； <|~8Ezd   12 单透镜优化实例	QN_Zd@K*A   31 Zemax 公差分析功能介绍; @O}%sjC1   32 加工误差、装配误差； >]q{vKCAP   33 灵敏度分析; )v1n#m,W   34 反灵敏度分析;
':8yp|A|   13 双胶合优化实例； Cf`s:A5<J   14 热分析及衍射光学元件的使用; 5qkG~YO-   15 实例设计及分析； }EmNSs`$r   16 MTF	Vx@JP93|   35 蒙特卡罗分析; ^)&d7cSc   _tZT   36 公差评价标准； 'rJkxU{   37 公差操作数； :ND5po#(   38 补偿变量的使用；
"?|sC{'C4j   17 双高斯镜头设计及优化； vn@9Sqk   18 像质评价与图像模拟； ]}2+yK   19 坐标变换； F}P+3IaE   20 坐标断点面的使用技巧	dzMlfJp   39 单透镜公差分析； umrfA   q/,>UtRr   40 库克镜头公差分析； xJ>U_Gd   41 分析报告查看说明； 6q ._8%   42 公差脚本的使用；
Xc;W9e(U   21 序列模式棱镜建模； x@3Ix,b'   )Xxu-/-   22 扫描反射镜设计实例；	<zE,T@c   43 镜头出图、CAD 出图； smQ<lwA   44 小结及答疑

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培训信息 8%]o6'd4  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 uc]]zI6  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。