光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 e2k!5OS  
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培训大纲 *+lnAxRa?  

'+Ts IJh   01 OpticStudio 软件功能介绍; Xq+7l5LP   02 材料库、镜头库介绍； =}u;>[3   03 如何定义新材料； o7&Z4(V   04 如何使用镜头库；	h$4V5V   23 柯勒照明综合设计实例； y @h^   24 投影系统设计 9{?<.%   25 集光系统设计； ^L<1S/~)   ps_CQh0   26 暗盒系统介绍；
l4v)tV~   05 像差理论介绍； yV=hi?f-[V   06 Zemax 里像差分析图谱； ^7~=+0cF]   07 优化; -P@o>#Em   08 局部优化	?(;ygjyx   27 分析工具应用； l{_>?]S5   28 寻找最佳非球面 VOp8 ,!   29 曲率套样板； 73Tg{~   wF$8#=   30 镜头匹配工具；
/,$6`V   09 全局优化； ]J?5qR:xCy   10 锤形优化； (gs"2   11 优化函数架构技巧； ,t(y~Z wJ   12 单透镜优化实例	nRb#M   31 Zemax 公差分析功能介绍; 64hr|v   32 加工误差、装配误差； 2p(K0PtX   33 灵敏度分析; \[+ZKj:   34 反灵敏度分析;
2pxl!   13 双胶合优化实例； ~KHp~Xs`   14 热分析及衍射光学元件的使用; oRmN|d ~4   15 实例设计及分析； b6R0za   16 MTF	z^ KrR   35 蒙特卡罗分析; w!8h4U. ;   X];a(7+2   36 公差评价标准； #eR*|W7o   37 公差操作数； D. )R8X   38 补偿变量的使用；
8{epy   17 双高斯镜头设计及优化； &yp_wW-   18 像质评价与图像模拟； "a>%tsl$K   19 坐标变换； |A[Le ;,   20 坐标断点面的使用技巧	q#c\   39 单透镜公差分析； *-ZJF6   QU8?/   40 库克镜头公差分析； ZYc)_Og   41 分析报告查看说明； li$(oA2   42 公差脚本的使用；
,^`+mP   21 序列模式棱镜建模； eiJ $}\qJL   6]CY[qEaR$   22 扫描反射镜设计实例；	1 g^N7YF   43 镜头出图、CAD 出图； AL3zE=BL   44 小结及答疑

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培训信息 ?.,..p  

• o3qBRT0[R  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• vqJiMa j@Z  
  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 p*8=($j4  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。