光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 W^Jh'^E  
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培训大纲 h<50jnH!  

09{B6l6P   01 OpticStudio 软件功能介绍; i-'rS/R   02 材料库、镜头库介绍； ZCZYgf@   03 如何定义新材料； 85<zl|ZD   04 如何使用镜头库；	IG1+_-H:   23 柯勒照明综合设计实例； %z&=A%'a   24 投影系统设计 4 |E`   25 集光系统设计； 4%TY` II   'mz _JM   26 暗盒系统介绍；
TixXA:Mf   05 像差理论介绍； -o\r]24   06 Zemax 里像差分析图谱； xe;1D'(    07 优化; 'G!w0yF   08 局部优化	_ FcfNF   27 分析工具应用； tc%?{W\   28 寻找最佳非球面 h[SuuW   29 曲率套样板； |RBgJkS;8   /XG4O   30 镜头匹配工具；
hVe@:1og#   09 全局优化； 5fK#*(x   10 锤形优化； d`U{-?N>   11 优化函数架构技巧； >W= 0N(   12 单透镜优化实例	2-9'zN0u   31 Zemax 公差分析功能介绍; ,[rh7_   32 加工误差、装配误差； H1H+TTZr   33 灵敏度分析; 15i8) 4h   34 反灵敏度分析;
T/#$44 ub   13 双胶合优化实例； kETu@la}   14 热分析及衍射光学元件的使用; 0^VA,QkQ\   15 实例设计及分析； jFBLElE   16 MTF	ssv4#8p3   35 蒙特卡罗分析; xeqAFq=9?   S.bB.<   36 公差评价标准； MXWCYi   37 公差操作数； )]"aa_20]   38 补偿变量的使用；
>qjQ;z[   17 双高斯镜头设计及优化； Zk*/~f|\   18 像质评价与图像模拟； ~l~ai>/   19 坐标变换； /F;b<kIy8   20 坐标断点面的使用技巧	Y]ML-smN   39 单透镜公差分析； &[*F!=%8   H]5%"(h   40 库克镜头公差分析； P%hi*0pwZ   41 分析报告查看说明； zK`z*\   42 公差脚本的使用；
*xxG@h|5n   21 序列模式棱镜建模； i?uJ<BdU[   Omkl|l9   22 扫描反射镜设计实例；	Z!Njfq5   43 镜头出图、CAD 出图； ^lCys   44 小结及答疑

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培训信息 Jrp{e("9  

• T!.6@g`x>  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 l][{ #>V  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。