光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 9<|nJt  
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培训大纲 %W8*vSbx  

4}r.g0L   01 OpticStudio 软件功能介绍; j9d^8)O,   02 材料库、镜头库介绍； Y(<(!TJ-   03 如何定义新材料；  oB8LJZ;   04 如何使用镜头库；	3P|z`}Ka   23 柯勒照明综合设计实例； UfNcI[xr   24 投影系统设计 "<$JU@P   25 集光系统设计； +Y_]<   uE ^uP@d   26 暗盒系统介绍；
*v:o`{vM[   05 像差理论介绍； f{w[H S,z   06 Zemax 里像差分析图谱； @#>YU    07 优化; peZ'sZ6   08 局部优化	*JA0Vs5   27 分析工具应用； G@4n]c_   28 寻找最佳非球面 zLSha\X   29 曲率套样板； ]^6r7nfR6|   ai]KH7   30 镜头匹配工具；
,R7RXpP7t   09 全局优化； eAK=ylF;   10 锤形优化； !E~czC\p6   11 优化函数架构技巧； 87-z=>IU   12 单透镜优化实例	l H{~?x   31 Zemax 公差分析功能介绍; El^V[s'3   32 加工误差、装配误差； 5,#aN}v#?   33 灵敏度分析; b~C^cM   34 反灵敏度分析;
N+zR7`AG8   13 双胶合优化实例； c9ea%7o{0a   14 热分析及衍射光学元件的使用; BMH?BRi   15 实例设计及分析； !a7YM4D   16 MTF	}PX8#C_P   35 蒙特卡罗分析; e8U6D+jY   swfjKBfw+g   36 公差评价标准； H03R?S9AQ   37 公差操作数； &9khIJIn   38 补偿变量的使用；
 'EO"0,   17 双高斯镜头设计及优化； o<L=l Q   18 像质评价与图像模拟； k&pV`.Imi   19 坐标变换； C[[:/X(c   20 坐标断点面的使用技巧	z]R% A:6K   39 单透镜公差分析； Id?2(Tg   1$nuh@-ys   40 库克镜头公差分析； ~kOXMLRg   41 分析报告查看说明； |5(un/-C   42 公差脚本的使用；
F @uOXNz)   21 序列模式棱镜建模； .GiQC{@9w   p&lT! 5P!A   22 扫描反射镜设计实例；	`C)|}qcC   43 镜头出图、CAD 出图； feT.d +Fd   44 小结及答疑

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培训信息 '=(@3ggA:  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。