光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 8@}R_GZc  
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培训大纲 D)]U+Qk  

'R{X qHP   01 OpticStudio 软件功能介绍; )t$<FP   02 材料库、镜头库介绍； o:p6[SGd   03 如何定义新材料； tiTJ.uz6   04 如何使用镜头库；	M<AjtDF%   23 柯勒照明综合设计实例； WeqE9@V   24 投影系统设计 7jj .maK   25 集光系统设计； :Z}d#Rbl   [YGPcGw   26 暗盒系统介绍；
gH0' Ok'   05 像差理论介绍； DaA9fJ7a    06 Zemax 里像差分析图谱； FuWMVT`Y   07 优化; ']bpsn   08 局部优化	z vM=k-Ec   27 分析工具应用； 86bRfW'   28 寻找最佳非球面  ?^8CD.|   29 曲率套样板； ,C=Lu9   g}cb>'=={   30 镜头匹配工具；
JTw< 4]   09 全局优化； 0`LR!X   10 锤形优化； 8RA]h?$$J   11 优化函数架构技巧； vxey$Ir   12 单透镜优化实例	n!Ic.T3PA   31 Zemax 公差分析功能介绍; yFD3:;}   32 加工误差、装配误差； #|ppW fZQ   33 灵敏度分析; 4*)a3jI?   34 反灵敏度分析;
d4 Hpe>   13 双胶合优化实例；  1\[En/6   14 热分析及衍射光学元件的使用; lj U|9|v   15 实例设计及分析； N=JZtf/i   16 MTF	oPqWL9]   35 蒙特卡罗分析; E`"<t:RzF   CTNeh%K;   36 公差评价标准； RS8tE(   37 公差操作数； a/k0(   38 补偿变量的使用；
xw>\6VNt   17 双高斯镜头设计及优化； (oftq!X2   18 像质评价与图像模拟； ]12ypcf   19 坐标变换； _3;vir%)   20 坐标断点面的使用技巧	hk +@ngh%   39 单透镜公差分析； (i 3=XfZ!C   &=KNKE`   40 库克镜头公差分析； -msfiO   41 分析报告查看说明； ;Nd,K C0k   42 公差脚本的使用；
<kmH^viX   21 序列模式棱镜建模； T3JM8   3eg)O34   22 扫描反射镜设计实例；	,?3)L    43 镜头出图、CAD 出图； 37F&s   44 小结及答疑

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培训信息 e hgUp =  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。