光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 K*TnUQ  
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培训大纲 J0&zb'1  

3(MoXA*   01 OpticStudio 软件功能介绍; 6euR'd^Qi   02 材料库、镜头库介绍； cLn;,u4   03 如何定义新材料； 9*BoYFw92*   04 如何使用镜头库；	jMTRcj];(   23 柯勒照明综合设计实例； D% oueW   24 投影系统设计 NAJ '> <2   25 集光系统设计； <}<#W/   TViBCed40   26 暗盒系统介绍；
v hRu`Yb   05 像差理论介绍； 7F,07\c   06 Zemax 里像差分析图谱； ${wU+E*   07 优化; cR,'o'V/   08 局部优化	Lc58lV=   27 分析工具应用； 8w03{H 0   28 寻找最佳非球面 E7V38Z   29 曲率套样板； qsD?dHi7   G%xb0%oi]%   30 镜头匹配工具；
\El|U#$u'   09 全局优化； d&/^34gn   10 锤形优化； =AWX +znP   11 优化函数架构技巧； UAnB=L,.\   12 单透镜优化实例	]\[m=0K   31 Zemax 公差分析功能介绍; E~'q?LJOB   32 加工误差、装配误差； 98X! uh'   33 灵敏度分析; oxUE79   34 反灵敏度分析;
i6-wf Gs;   13 双胶合优化实例； X(4s;i   14 热分析及衍射光学元件的使用; J@oEV=L   15 实例设计及分析； 7xX;MB&   16 MTF	"2*G$\   35 蒙特卡罗分析; :&xz5c`"04   T+`xr0   36 公差评价标准； Hlz'a1\:O]   37 公差操作数； ;M%oQ>].[   38 补偿变量的使用；
D2Vb{%(4.   17 双高斯镜头设计及优化； C4&U:y<ju   18 像质评价与图像模拟； @WhZx*1   19 坐标变换； x, G6\QmA   20 坐标断点面的使用技巧	szf"|k!   39 单透镜公差分析； Xg|8".B)A   ZC3tb hV   40 库克镜头公差分析； 9V|E1-")E   41 分析报告查看说明； LXBbz;vYl   42 公差脚本的使用；
hB|H9+   21 序列模式棱镜建模； :iP>z}h   G3Idxs   22 扫描反射镜设计实例；	^L>MZA ?   43 镜头出图、CAD 出图； . .vSL   44 小结及答疑

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培训信息 ]jHh7> D  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。