光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 ]6VUqFO)  
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培训大纲 v20
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R&=GB\`:a   01 OpticStudio 软件功能介绍; 4Jk}/_   02 材料库、镜头库介绍； 7f\^VG   03 如何定义新材料； Qqhb]<z   04 如何使用镜头库；	> ^v8 N   23 柯勒照明综合设计实例； 0rm;)[SjF   24 投影系统设计 \]`(xxt1   25 集光系统设计； (Y.$wMB   j3[OY   26 暗盒系统介绍；
B]KLn?zt5   05 像差理论介绍； >ya-   06 Zemax 里像差分析图谱； r4NT`&`g?   07 优化; 1uge>o&   08 局部优化	Ze sD(   27 分析工具应用； 4Ig{#}<   28 寻找最佳非球面 ~"rwP=<}   29 曲率套样板； 5WNg+   ah Xq{>   30 镜头匹配工具；
Ah>krE0t   09 全局优化； iBiA0 W   10 锤形优化； Z8dN0AqZ   11 优化函数架构技巧； JdYF&~   12 单透镜优化实例	?a0}^:6   31 Zemax 公差分析功能介绍; ]ifHA# z`~   32 加工误差、装配误差； 6-X?uaY)os   33 灵敏度分析; Dw ;vDK   34 反灵敏度分析;
4e#K.HU_   13 双胶合优化实例； WfbN ar[   14 热分析及衍射光学元件的使用; -Lf6]5$2'   15 实例设计及分析； Sd{"A0[A|   16 MTF	gcCYXPZp   35 蒙特卡罗分析; ^%X \ }><   VaIP   36 公差评价标准； Q fyERa\rb   37 公差操作数； 'sQO0611S   38 补偿变量的使用；
^oB1 &G   17 双高斯镜头设计及优化； x0;}b -f   18 像质评价与图像模拟； pVa|o&,   19 坐标变换； wG?kcfu   20 坐标断点面的使用技巧	XXwhs-:o   39 单透镜公差分析； Mh.eAM8_   U1|4vd9   40 库克镜头公差分析； gwz _b   41 分析报告查看说明； xAz4ZXj=q   42 公差脚本的使用；
tWOze, N   21 序列模式棱镜建模； RMt vEa   E0Y/N?   22 扫描反射镜设计实例；	nN\XVGP,t   43 镜头出图、CAD 出图； t RyGxqiG   44 小结及答疑

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培训信息 jTgh+j]AP  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

【备注】 d>98 E9  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。