光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 (0zYS_mA  
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培训大纲 ib~EQ?u{  

NucLf6   01 OpticStudio 软件功能介绍; =}[m_rp&   02 材料库、镜头库介绍； >~@ABLp6   03 如何定义新材料； |=EwZmj-c   04 如何使用镜头库；	u1/q8'RW   23 柯勒照明综合设计实例； ". wG~H   24 投影系统设计 Hu$JCB-%   25 集光系统设计； qX*Xo[Xp   ?f=7F %   26 暗盒系统介绍；
CpC6vA.R   05 像差理论介绍； 10$:^   06 Zemax 里像差分析图谱； wbh^ZMQ   07 优化; yb'v*B]   08 局部优化	1:Xg&4s   27 分析工具应用； =B ts   28 寻找最佳非球面 8iN@n8O   29 曲率套样板； $kn"S>jV   SNtOHTQ   30 镜头匹配工具；
anFl:=   09 全局优化； r }Nq"s<   10 锤形优化； P!~B07y   11 优化函数架构技巧； 3E:+DF-Z\   12 单透镜优化实例	)-S;j)(+   31 Zemax 公差分析功能介绍; 8Tm/gzx   32 加工误差、装配误差； %YI!{   33 灵敏度分析; B \>W   34 反灵敏度分析;
Y~I6ee,\   13 双胶合优化实例； t2&}   14 热分析及衍射光学元件的使用; 30L/-+r1   15 实例设计及分析；  h]?[}&   16 MTF	mbZg2TTy   35 蒙特卡罗分析; -/J2;AkGH   Oa-~}hN   36 公差评价标准； {aWfD XB1   37 公差操作数； sys;Rz2   38 补偿变量的使用；
Axx{G~n![   17 双高斯镜头设计及优化； Zz56=ZX*_   18 像质评价与图像模拟； c eNJXK   19 坐标变换； (r$QQO)/   20 坐标断点面的使用技巧	o@:u:n+.   39 单透镜公差分析； DP4l %2m0   K@;ls   40 库克镜头公差分析； &}vc^ io   41 分析报告查看说明； cUZ^,)8 Z   42 公差脚本的使用；
d15E$?ZLH   21 序列模式棱镜建模； gj1l9>f>]a   /lN09j   22 扫描反射镜设计实例；	KS(Ms*k;'   43 镜头出图、CAD 出图； O<6!?1|KP   44 小结及答疑

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培训信息 C~:!WRCz  

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  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。