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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark 9vJ'9Z2\ 译:讯技科技股份有限公司 nVv=smVOt 校:讯技科技股份有限公司 rWxQ;bb# ^Mi&2AvS 书籍概况: P> ilRb KU)~p"0[6] Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ~"i4"Op& 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Xjnv8{X 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 F;<cG`|Rx VVm8bl.q 书籍目录 FdMxw*} =aJb}X 1 引言 {igVuZ(>en 2 光学薄膜基础 4: S- 2.1 一般规则 G|.5.FK^ 2.2 正入射规则 9e'9$-z 2.3 斜入射规则 8@d,TjJDo 2.4 精确计算 O`Ge|4 2.5 相干性 Sz'JOBp 3 Essential Macleod的快速预览 7W `gN[* 4 Essential Macleod的特点 wU)vJsOq 4.1 容量和局限性 -KFozwr5/ 4.2 程序在哪? yfCdK-9+B 4.3 数据文件 }@avGt;v 4.4 设计规则 9ZXEy }q57 4.5 材料数据库和目录库 A]q"+Z] 4.5.1 材料数据库及导入材料
9ld'SB:# 4.5.2 材料目录库 4/ M~# 4.5.3 导出材料数据 <t)D`nY\ 4.6 常用单位 WR@TH
bU 4.7 插值 @G:aW\Z 4.8 材料数据的平滑 sU 5/c|& 4.9 一般文档编辑规则 =r1@?x 4.10 设计文档 =RH7 j 4.10.1 公式 Cz]NSG 5 4.10.2 更多关于膜层厚度 Hv.nO-c 4.10.3 沉积密度 MNZD-[ 4.10.4 性能计算 `]3A#y)v 4.10.5 保存设计和性能 D_)n\(3 4.10.6 默认设计 `dK%I
U 4.11 图表 E G3?C 4.11.1 合并曲线图 F)^:WWVc# 4.11.2 自适应绘制 i\z ,)xp 4.11.3 动态参数图 @h";gN 4.11.4 3D绘图 B0#JX
MX9 4.12导入和导出 l~i&r?,]^ 4.12.1 剪贴板 yp.\KLq8) 4.12.2 不通过剪贴板导入 +YK/^;Th 4.12.3 不通过剪贴板导出 Aq:1 4.13 背景(Context) 2#?qey 4.14 扩展公式 - 生成设计 UgjY 4.15 生成Rugate XlHt(d0h 4.16 参考文献 1#-=|:U 5 在Essential Macleod中建立一个Job z6f N)kw 5.1 Jobs hd)HJb-aR 5.2 创建一个新的Job )mF;^3 5.3 输入材料 5$.e5y<&( 5.4 设计数据文件夹 }*s%|!{H 5.5 默认设计 \OX;ZVb?5 6 细化和合成 ofIw7D*h 6.1 最优化导论 G>yTv`- 6.2 细化 7U_OUUg 6.3 合成 >p|tIST 6.4 目标和评价函数 "[t (u/e 6.4.1 目标输入 _6k ej#o8 6.4.2 目标关联 B6gn(w3 6.4.3 特殊的评价函数 p&|:,|jo5 6.5 膜层锁定和关联 &q0s8'qA 6.6 优化技术 2J5RZg9jL 6.6.1 单纯形 c^s%t:)K 6.6.1.1单纯形参数 dZ"w2ho 6.6.2 Optimac TaI72"8 6.6.2.1 Optimac参数 x vx+a0 A 6.6.3 模拟退火算法 (^4V]N& 6.6.3.1退火参数 3(n+5~{e 6.6.4 共轭梯度 6o4Bf| E] 6.6.4.1共轭梯度参数 Q"2J2211 6.6.5 拟牛顿法 wW?/`>@ 6.6.5.1 拟牛顿法参数: o@!Uds0 6.6.6 针形合成 MhXJ /bup 6.7 我应该使用哪种技术? ym~ 6.7.1 细化 0v/}W( 6.7.2 合成 9yt)9f 6.8 参考文献 qZz?i 7 导纳图和其他工具 aH!2zC\:T 7.1 介绍 oP CtLz}z 7.2 导纳变换 WQ>y;fi5/{ 7.2.1 四分之一波长规则 +M^+qt;]V 7.2.2 导纳轨迹图 *t3uj 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 8M&q 7.4 全介质抗反射膜的应用 yRF
%SWO 7.5 对称周期结构 -{ M(1vV(= 7.6 参考文献 K.T.?ug;: 8.典型的镀膜实例 zm7IkYF 8.1 单层抗反射膜 8+yCP_Y4 8.2 1/4-1/4抗反射膜 aUTXg60l* 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 lI"~*"c` 8.4 W-膜层 ;VI/iwg 8.5 V-膜层 ?wpS 8.6 高折射基底V-膜层 :,'yHVG\ 8.7 高折射率基底b V-膜层 S(\<@S& 8.8 1/4-1/4高折射率基底 Ga
M:/. 8.9 四层抗反射膜 ZP}NFh%,u 8.10 Reichert抗反射膜 ZS\~GQbG 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 3{*nG'@Mal 8.12 宽波段6层抗反射膜 < |