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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark XC8z|A-@ 译:讯技科技股份有限公司 B}xo|:f!zj 校:讯技科技股份有限公司 >c'_xa?^G -QNMB4 书籍概况: z$im4'\c 4Hd@U&E Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 <)*g7 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 1Mhc1MU 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 4~D>oNx4 MBTt'6M 书籍目录 jU9zCMyNF 2b&;Y /z 1 引言 {XUfxNDf 2 光学薄膜基础 3U.B[7fOM 2.1 一般规则 &oEq& 2.2 正入射规则 K]]rOF 2.3 斜入射规则 <OO/Tn'a 2.4 精确计算 5FR#_}k]_F 2.5 相干性 "=RoI 3 Essential Macleod的快速预览 UDi3dH= 4 Essential Macleod的特点 Gw\HL 4.1 容量和局限性 ]j#$. $q 4.2 程序在哪? %TggNU, 4.3 数据文件 dfkTDG+ 4.4 设计规则 ~q%9zO' 4.5 材料数据库和目录库 7VZ JGRnn 4.5.1 材料数据库及导入材料 F vk:c- 4.5.2 材料目录库 7JwWM2N?V 4.5.3 导出材料数据 vi.AzO 4.6 常用单位 pvdZ>D-IU 4.7 插值 i3WmD@ 4.8 材料数据的平滑 6V?&hq&t 4.9 一般文档编辑规则 )mO;l/,0 4.10 设计文档 c\rbLr}l) 4.10.1 公式
x$b[m20 4.10.2 更多关于膜层厚度 EG8R*Cm,} 4.10.3 沉积密度 Pds*M?&F 4.10.4 性能计算 FG36,6N%2j 4.10.5 保存设计和性能 cz~FWk 4.10.6 默认设计 $YQ&\[pDA 4.11 图表 [(UqPd$ 4.11.1 合并曲线图 uR@Wv^ 4.11.2 自适应绘制 78BuD[<X- 4.11.3 动态参数图 s!!t 4.11.4 3D绘图 p. ~jo 4.12导入和导出 E4@fP]R+ 4.12.1 剪贴板 ;p"XCLHl 4.12.2 不通过剪贴板导入 BW\5RIWwE5 4.12.3 不通过剪贴板导出 M!XFb 4.13 背景(Context) '>3RZ&O 4.14 扩展公式 - 生成设计 d_qVk4h\ 4.15 生成Rugate {OoNhN9 4.16 参考文献 Sqt"G6< 5 在Essential Macleod中建立一个Job f?^xh 5.1 Jobs [bVP2j 5.2 创建一个新的Job &Gwh<%=U 5.3 输入材料 Donf9]&U 5.4 设计数据文件夹 0J-ux"kfI 5.5 默认设计 X}FF4jE]D( 6 细化和合成 *
rANf&y 6.1 最优化导论 S^n4aBm\+ 6.2 细化 VQx-gm8}! 6.3 合成 htSk2N/ 6.4 目标和评价函数 HON[{Oq 6.4.1 目标输入 _[tBLGXD 6.4.2 目标关联 @Od u.F1e 6.4.3 特殊的评价函数 s'=]a-l~ 6.5 膜层锁定和关联 XdVC>6 6.6 优化技术 rz7b%WY 6.6.1 单纯形 r+Cha%&D 6.6.1.1单纯形参数 bu5)~|?{t 6.6.2 Optimac AG0x) 6.6.2.1 Optimac参数 PS]XLz 6.6.3 模拟退火算法 <W^~Y31:0 6.6.3.1退火参数 uCr 6.6.4 共轭梯度 \Rt 6.6.4.1共轭梯度参数 UzwIV{ 6.6.5 拟牛顿法 TrAUu`?# 6.6.5.1 拟牛顿法参数: y>18)8 6.6.6 针形合成 n_2LkW<? 6.7 我应该使用哪种技术? <v^.FxId 6.7.1 细化 >Cc$ P 6.7.2 合成 9:~^KQ{? 6.8 参考文献 _erH]E| [ 7 导纳图和其他工具 {IwYoR aXa 7.1 介绍 'z5 ;o:T 7.2 导纳变换 H9[.#+ln 7.2.1 四分之一波长规则 +y#979A, 7.2.2 导纳轨迹图 O$^YUHD 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 [_Z3v,vt, 7.4 全介质抗反射膜的应用 Wd<}|?R 7.5 对称周期结构 (<-0UR]%q; 7.6 参考文献 `-2`UGB- 8.典型的镀膜实例 _< |