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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark
2<8l&2}7] 译:讯技科技股份有限公司 V+lS\E. 校:讯技科技股份有限公司 (?(gz#- 5$:9nPAH 书籍概况: n
ei0LAD -"H$&p~ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 f0^s<:* 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 =IX-n$d`> 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 vmNI$KZM {0,6-dd5 书籍目录 <a_(qh@B <"p-0=IgJ 1 引言 H2[0@|<< 2 光学薄膜基础 =#Jx~d [C 2.1 一般规则 M/[_~ 2.2 正入射规则 w1zMY:9 2.3 斜入射规则 P $y'`` 2.4 精确计算 dJrUcZBr 2.5 相干性 rZB='(? 3 Essential Macleod的快速预览 r~QE}00@^ 4 Essential Macleod的特点 1D[>oK\ 4.1 容量和局限性 6/g
82kqpk 4.2 程序在哪? `w4'DB-R) 4.3 数据文件 ,S(Z\[x0 4.4 设计规则 =Sr<d|\O 4.5 材料数据库和目录库 (#85<|z 4.5.1 材料数据库及导入材料 9o?\*{'KT 4.5.2 材料目录库 4IY|< 4.5.3 导出材料数据 ppLLX1S 4.6 常用单位 B9
?58v& 4.7 插值 %{V7|Azt 4.8 材料数据的平滑 4DL2
A;T 4.9 一般文档编辑规则 2PeMt^ 4.10 设计文档 GJS( 4.10.1 公式 1Lje.%(E. 4.10.2 更多关于膜层厚度 }|8^+V& 4.10.3 沉积密度 Y%TY%"< 4.10.4 性能计算 :6(@P1vA 6 4.10.5 保存设计和性能 Cq<Lj 4.10.6 默认设计 2(\PsN w! 4.11 图表 {gu3KV 4.11.1 合并曲线图 16@<G 4.11.2 自适应绘制 *+6iXMwe 4.11.3 动态参数图 O+<+yQl 4.11.4 3D绘图 {=&({ cS 4.12导入和导出 r.Z g<T 4.12.1 剪贴板 5"1wz 4.12.2 不通过剪贴板导入 ndN*X' 4.12.3 不通过剪贴板导出 Jwj=a1I 53 4.13 背景(Context) mv,a>Cvs[ 4.14 扩展公式 - 生成设计 up8d3 4.15 生成Rugate pH3\X
cn 4.16 参考文献 tV pXA'"!x 5 在Essential Macleod中建立一个Job U6H3T0# 5.1 Jobs M5:*aCN6P 5.2 创建一个新的Job e~'z;%O~ 5.3 输入材料 Tz9 (</y 5.4 设计数据文件夹 -nUK%a"(D 5.5 默认设计 SEi\H$! 6 细化和合成 )ryP K"V 6.1 最优化导论 D ZZRu8~ 6.2 细化 SS_6VE*sI 6.3 合成 ~g#/q~UE 6.4 目标和评价函数 ([rSYKpi 6.4.1 目标输入 ;P8%yf 6.4.2 目标关联 `0_
Y| 4KB 6.4.3 特殊的评价函数 _tjexS' 6.5 膜层锁定和关联 {(Mmv[y 6.6 优化技术 br k*; 6.6.1 单纯形 ,(sE|B#s 6.6.1.1单纯形参数 ",Mrdxn7 6.6.2 Optimac G^VOA4 6.6.2.1 Optimac参数 <u#
7K\: 6.6.3 模拟退火算法 #s>'IPc0 6.6.3.1退火参数 #k>A, 6.6.4 共轭梯度 7\nXJ381 6.6.4.1共轭梯度参数 6r@>n_6LY 6.6.5 拟牛顿法 NN+;I^NqW& 6.6.5.1 拟牛顿法参数: %`lJA W[ 6.6.6 针形合成 L+@X]OW8 6.7 我应该使用哪种技术? BKE ?o^03 6.7.1 细化 NZ!I > 6.7.2 合成 w0H#M)c 6.8 参考文献 ;GOu'34j 7 导纳图和其他工具 @y * TVy 7.1 介绍 L5|g\Y` 7.2 导纳变换 :Zob"*T 7.2.1 四分之一波长规则 /e|qyWs 7.2.2 导纳轨迹图 B` +,
8 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 G7-k ,P^ 7.4 全介质抗反射膜的应用 RDy&i 7.5 对称周期结构 V=1zk-XC 7.6 参考文献 xA-?pLt"G 8.典型的镀膜实例 2_M+o]Z^ 8.1 单层抗反射膜 g$hEVT 8.2 1/4-1/4抗反射膜 +7_U(|gO 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 <|82)hO 8.4 W-膜层 _T8S4s8q 8.5 V-膜层 D8Mq '$- 8.6 高折射基底V-膜层 ,PJC FQMR 8.7 高折射率基底b V-膜层 YvP62c \ 8.8 1/4-1/4高折射率基底 ^f"|<r 8.9 四层抗反射膜 gsa@ci 8.10 Reichert抗反射膜 dmLx $8 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 k:@N6K/$P^ 8.12 宽波段6层抗反射膜 6zNWDUf 8.13 宽波段8层抗反射膜 O?A% 8.14 宽波段25层抗反射膜 E
GZiWBr 8.15 四层2-1 增透膜 gLZJQubz
6 8.16 1/4波长堆栈 vo&h6'i>7 8.17 陷波滤光器 >w.%KVBJ 8.18 Rugate 3=Rk(%:; 8.19 消偏振分光片1 \M0's& |