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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark Lq
;~6 译:讯技科技股份有限公司 :3XvHL0rx 校:讯技科技股份有限公司 *aC[Tv[-P (n8?+GCa 书籍概况: \y%"tJ~N{ \At~94 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ,9}JPv4Z 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 @*~yVV!5 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 tu"-]^ '
`c \Dq 书籍目录 ]
Ok &%- $]xH"Z%" 1 引言 qo7<g*kf~ 2 光学薄膜基础 ("ix!\1K@ 2.1 一般规则 $GU s\ 2.2 正入射规则 YgjW%q 2.3 斜入射规则 X@}7 #Vt 2.4 精确计算 G7|d$!% 2.5 相干性 ,/GFD[SQ 3 Essential Macleod的快速预览 \m}a%/ 4 Essential Macleod的特点 );AtFP0Y 4.1 容量和局限性 =OtW!vx#R. 4.2 程序在哪? Jk`Jv; 4.3 数据文件 llR5qq=t 4.4 设计规则 /Dd x[P5p= 4.5 材料数据库和目录库 9eq)WI/ 4.5.1 材料数据库及导入材料 j^8HTa0Cy| 4.5.2 材料目录库 N0}[&rE 8 4.5.3 导出材料数据 h lc!}{$%8 4.6 常用单位 X_nbNql 4.7 插值 R!7--]Wcg 4.8 材料数据的平滑 !KJ X$? 4.9 一般文档编辑规则 G~.VW48{n 4.10 设计文档 T+~&jC:{ 4.10.1 公式 l l*g *zt3 4.10.2 更多关于膜层厚度 [h-NX 4.10.3 沉积密度 0PFC%x 4.10.4 性能计算 \'u+iB
g 4.10.5 保存设计和性能
^_3$f 4.10.6 默认设计 8YE4ln 4.11 图表 Fje
/;p 4.11.1 合并曲线图 .@+M6K* 4.11.2 自适应绘制 W^Fkjqpv 4.11.3 动态参数图 J Q*~le* 4.11.4 3D绘图 Ksh[I,+N\ 4.12导入和导出 "k 4.12.1 剪贴板 0Bp0ScE|FA 4.12.2 不通过剪贴板导入 *c/| / 4.12.3 不通过剪贴板导出 uEr.LCAS 4.13 背景(Context)
|0uqW1 4.14 扩展公式 - 生成设计 4IB`7QJq 4.15 生成Rugate `|"o\Bg< 4.16 参考文献
*L>usLh 5 在Essential Macleod中建立一个Job }*%=C!m4R! 5.1 Jobs 2Hx*kh2 5.2 创建一个新的Job QD^= ;! 5.3 输入材料 5>CeFy 5.4 设计数据文件夹 RT'5i$q[ 5.5 默认设计 K*'AjT9wX+ 6 细化和合成 {Fyw<0 [@ 6.1 最优化导论 {~}: oV 6.2 细化 5syzh
S 6.3 合成 imwn)]L R 6.4 目标和评价函数 X"g,QqDD 6.4.1 目标输入 R6>*n!*D@ 6.4.2 目标关联 xDekC~Zq 6.4.3 特殊的评价函数 H3d|eO4+W 6.5 膜层锁定和关联 hHcevSr 6.6 优化技术 _}']h^@Z 6.6.1 单纯形 d/3&3>/ 6.6.1.1单纯形参数 j+/EG^*/ 6.6.2 Optimac yJqDB$0 6.6.2.1 Optimac参数 6rG7/ 6.6.3 模拟退火算法 !f/^1k}SR 6.6.3.1退火参数 P&5vVA6K7 6.6.4 共轭梯度 5HL>2
e[ 6.6.4.1共轭梯度参数 iK'A m.o+ 6.6.5 拟牛顿法 p((. (fx 6.6.5.1 拟牛顿法参数: Ssa/;O2 6.6.6 针形合成 $1)NYsSH/H 6.7 我应该使用哪种技术? uF|[MWcy0# 6.7.1 细化 e1bV& 6.7.2 合成 Of-gG~ 6.8 参考文献 p{r{}iYI 7 导纳图和其他工具 HQ4WunH2Y 7.1 介绍 c[OQo~m$ 7.2 导纳变换 +&_n[; 7.2.1 四分之一波长规则 ;tD?a7 7.2.2 导纳轨迹图 3+U2oI:I 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 c-@EHv
7.4 全介质抗反射膜的应用 1_}k)(n 7.5 对称周期结构 Z$YG'p{S 7.6 参考文献 |?'
gT"# 8.典型的镀膜实例 ND 8;1+3 8.1 单层抗反射膜 GBd
mT-7 8.2 1/4-1/4抗反射膜 =PLy^% 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 waV4~BdL 8.4 W-膜层 T z+Y_ 8.5 V-膜层 }_Sgor83n 8.6 高折射基底V-膜层 L`^v"W() 8.7 高折射率基底b V-膜层 )s 1
Ei9J 8.8 1/4-1/4高折射率基底 q> #P| 8.9 四层抗反射膜 3i}$ ~rz]U 8.10 Reichert抗反射膜 )MM(HS 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 ZhoB/TgdL 8.12 宽波段6层抗反射膜 1&kf |