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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark {9)f~EbM! 译:讯技科技股份有限公司 \h-[u% 校:讯技科技股份有限公司 [;(|^0 &^EkM 书籍概况: <1y%ch; d+(~{xK: Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 7G/"!ePW6` 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ]OVjq? 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 O@[q./VV, */1z=
书籍目录 4l|Am3vzX V{n pK( 1 引言 +RbCa
c 2 光学薄膜基础 G/y< bPQ 2.1 一般规则 &(K*TB|Om 2.2 正入射规则 0zd1:*KR, 2.3 斜入射规则 7(jt:V6V 2.4 精确计算 Z'EZ PuZ!' 2.5 相干性 xZkLN5I{ 3 Essential Macleod的快速预览 g$<@! 4 Essential Macleod的特点 ''Hq-Ng 4.1 容量和局限性 yCz?V[49 4.2 程序在哪? `);`E_'U
k 4.3 数据文件
I{E10; 4.4 设计规则 {DpZg",H- 4.5 材料数据库和目录库 cv^^NgQ 4.5.1 材料数据库及导入材料 ]`MRH[{ 4.5.2 材料目录库 M4QMD;Ez 4.5.3 导出材料数据 V3jx{BXs2 4.6 常用单位 eC1cE 4.7 插值 k,r\^1h 4.8 材料数据的平滑 pd|c7D!6U, 4.9 一般文档编辑规则 AVi|JY)> 4.10 设计文档 4'{j'kuv 4.10.1 公式 `Z{7Ut^) 4.10.2 更多关于膜层厚度 `0sa94H1[ 4.10.3 沉积密度 MPT[f 4.10.4 性能计算 ^,?]]=mE 4.10.5 保存设计和性能 `T-(g1:9 4.10.6 默认设计 $N+azal+y 4.11 图表 kJ~^
}o 4.11.1 合并曲线图 w_9:gprf 4.11.2 自适应绘制 ?^yZVmAo] 4.11.3 动态参数图 HMBxj($eR 4.11.4 3D绘图 U'@_fg 4.12导入和导出 2lGq6Au: 4.12.1 剪贴板 %DiZ&}^Ck 4.12.2 不通过剪贴板导入 Jx'p\* 4.12.3 不通过剪贴板导出 -8-Aqh8| 4.13 背景(Context) vHao
y 4.14 扩展公式 - 生成设计 N^)L@6 4.15 生成Rugate Nf3L 4.16 参考文献 NxNz(R
$~ 5 在Essential Macleod中建立一个Job M'*
Y 5.1 Jobs JL]6o8x 5.2 创建一个新的Job w;X-i.%` 5.3 输入材料 cP(/+
/9 5.4 设计数据文件夹 u{I)C0 5.5 默认设计 x5{ zGv.j 6 细化和合成 s7=]!7QGS! 6.1 最优化导论 27;*6/>, 6.2 细化 *F&C`] 6.3 合成 5HmX-+XpK 6.4 目标和评价函数 Lx2.E1?@ 6.4.1 目标输入 Nn%{Ka 6.4.2 目标关联 &C?]n.A 6.4.3 特殊的评价函数 kRG-~'f%` 6.5 膜层锁定和关联 p7|~x@q+ 6.6 优化技术 h(>4%hF 6.6.1 单纯形 Y0U:i.) 6.6.1.1单纯形参数 W<kJ%42^j 6.6.2 Optimac KO:o GUR 6.6.2.1 Optimac参数 3q<\
\8Y* 6.6.3 模拟退火算法 #Jg)HU9
6.6.3.1退火参数 _t3n< 6.6.4 共轭梯度 -p9|l%W 6.6.4.1共轭梯度参数 5&6S["lt 6.6.5 拟牛顿法 5y@JMQSO 6.6.5.1 拟牛顿法参数: \U,.!'+ 6.6.6 针形合成 J}lBKP:-* 6.7 我应该使用哪种技术? <1V!-D4xu 6.7.1 细化 :tNH Cx 6.7.2 合成 4K:p 6.8 参考文献 entO"~*EX 7 导纳图和其他工具 NfKi,^O 7.1 介绍 _v<EFal 7.2 导纳变换 oT.g@kf=H 7.2.1 四分之一波长规则 &rk/ya[ 7.2.2 导纳轨迹图 H$WuT;cTE 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 k.?b2]@$ 7.4 全介质抗反射膜的应用 )9J&M |