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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark M)qb6aD0 译:讯技科技股份有限公司 'w$jVX/ 校:讯技科技股份有限公司 qr@<'wp/ m;4qs#qCg? 书籍概况: E4QLXx6Wa& iNCT( N~. Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Tr@|QNu 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 dug^o c1
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 drwD3jx0xv Ndz'^c 书籍目录 =w5]o@ ''Y'ZsQ; 1 引言 "@^^niSFl 2 光学薄膜基础 >vPv4e7&3 2.1 一般规则 cM_!_8o 2.2 正入射规则 #3knKBH 2.3 斜入射规则 2MU$OI0| 2.4 精确计算 jct|}U 2.5 相干性 ?/}N 3 Essential Macleod的快速预览 }vXiq T 4 Essential Macleod的特点 H~NK:qRzK 4.1 容量和局限性 @ogj -ol& 4.2 程序在哪? .du2;`[$r 4.3 数据文件 e>T;'7HSS" 4.4 设计规则 jwL\|B oE 4.5 材料数据库和目录库 OLZs}N+ ;] 4.5.1 材料数据库及导入材料 ZLZh$eZZ 4.5.2 材料目录库 yZV Y3<] 4.5.3 导出材料数据 &[z<p 4.6 常用单位 nw-%!}Ot" 4.7 插值 JfsvK2I 4.8 材料数据的平滑 HcQ)XJPK 4.9 一般文档编辑规则 LC,6hpmh 4.10 设计文档 dK Qu 4.10.1 公式 mUNAA[0 L 4.10.2 更多关于膜层厚度 ()Q#@?c~ 4.10.3 沉积密度 Sq SiuO.D 4.10.4 性能计算 $@HW|Y 4.10.5 保存设计和性能 7n)ob![\d 4.10.6 默认设计 nX_w F`n" 4.11 图表 zRMz8IC. 4.11.1 合并曲线图 TD sjNFe3 4.11.2 自适应绘制 Ye| (5f 4.11.3 动态参数图 VkkC;/BBW 4.11.4 3D绘图 tR\cS) 4.12导入和导出 n-u
HKBq 4.12.1 剪贴板 f hjlt# 4.12.2 不通过剪贴板导入 N9#5 P! 4.12.3 不通过剪贴板导出 /Un\P 4.13 背景(Context)
8'ut[ 4.14 扩展公式 - 生成设计 Y?6}r;< 4.15 生成Rugate ti^=aB
4.16 参考文献 2f0mr?l)N 5 在Essential Macleod中建立一个Job 6j Rewj 5.1 Jobs if?X^j0 5.2 创建一个新的Job ZPG~@lU 5.3 输入材料 TkR#Kzv380 5.4 设计数据文件夹 R"yxpw 5.5 默认设计 Px3I+VP 6 细化和合成 X%$1%)C9 6.1 最优化导论 ?
q_% 6.2 细化 %ol\ sO| 6.3 合成 V aoqI 6.4 目标和评价函数 Zu*7t<W 6.4.1 目标输入 ^3ai}Ei3 6.4.2 目标关联 # w@FBFr@ 6.4.3 特殊的评价函数 }}Zg/( 6.5 膜层锁定和关联 '0=mV"#H{ 6.6 优化技术 fRb 6.6.1 单纯形 r>}z|I' 6.6.1.1单纯形参数 >`l^
C 6.6.2 Optimac 'ka}x~EF 6.6.2.1 Optimac参数 'jXJ!GFw 6.6.3 模拟退火算法 <iBn-EG l> 6.6.3.1退火参数 |l-O e 6.6.4 共轭梯度 D~FIv 6.6.4.1共轭梯度参数 /BN=Kl] 6.6.5 拟牛顿法 Y4+]5;B8 6.6.5.1 拟牛顿法参数: 2tg 07 6.6.6 针形合成 B@@tKn_CQ 6.7 我应该使用哪种技术? WL|<xNL 6.7.1 细化 kxR!hA8wv4 6.7.2 合成 bXeJk]#y 6.8 参考文献 1\%@oD_zG 7 导纳图和其他工具 4M!wm]n/%5 7.1 介绍 O)ose?Z
7.2 导纳变换 W7c
B 7.2.1 四分之一波长规则 OrF.wcg 7.2.2 导纳轨迹图 4s9.")G 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 J 7sH] 7.4 全介质抗反射膜的应用 1>/ iYf 7.5 对称周期结构 wwet90_g 7.6 参考文献 6XHM `S 8.典型的镀膜实例 {6O}E9 8.1 单层抗反射膜 F-F1^$]k 8.2 1/4-1/4抗反射膜 iJeodfC 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 dq%C~j{v 8.4 W-膜层 %O!TS_~9 8.5 V-膜层 -GMaK.4= 8.6 高折射基底V-膜层 m?gGFxo 8.7 高折射率基底b V-膜层 RUq[HxF)
6 8.8 1/4-1/4高折射率基底 As5-@l`@ 8.9 四层抗反射膜 HRJ\H-
V 8.10 Reichert抗反射膜 '(SivD 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 LqO=wK~ 8.12 宽波段6层抗反射膜 ZNl1e' 8.13 宽波段8层抗反射膜 \D};0#G0& 8.14 宽波段25层抗反射膜 #C'E'g0 8.15 四层2-1 增透膜 EM@EB<pRX 8.16 1/4波长堆栈 orYZ<,u 8.17 陷波滤光器 8_ascvs5 8.18 Rugate '?
-N 8.19 消偏振分光片1 |3~]XN- 8.20 消偏振分光片2 +]( #!}oH 8.21 消偏振立体分光片 E^gN]Z"O 8.22 消偏振截止滤光片 &*E! %57 8.23 偏振立体分光片1 +J~%z*A 8.24 偏振立体分光片2 >$yA
,N 8.25 缓冲层 db=S*LUbl 8.26 红外截止滤光片 Q/]o'_[vW 8.27 21层长波通过光片 'r(g5H1}gi 8.28 49层长波通滤光片 "LH!Trl@k 8.29 55层长波通滤光片 jse!EtB: 8.30 宽带通滤光片 a\~118 ! 8.31 诱导透射滤光片 l^KCsea# 8.32 诱导透射滤光片2 BJ\81 R 8.33 简易密集型光波复用(DWDM)滤光片 ,`OQAJ)> 8.34 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤光片 SSbx[<E3 8.35 增益平坦滤光片 DSWmQQ 8.36 啁啾反射镜1 yyk@f% 8.37 啁啾反射镜2 pr1bsrMuL 8.38 啁啾反射镜3 19-V;F@; 8.39 铝保护膜 ]5K(}95&' 8.40 铝反射增强膜 dz>Jl},`k 8.41 参考文献 xG(iSuz 9 多层膜 X h}D_c 9.1 多层膜基本原理—堆栈 RnU7|p{ 9.2 内透过率 -"{g kjuv 9.3 简单例子 )FmIL(vu 9.4 简单例子2 'x<oILOG 9.5 圆锥和带宽计算 -j2y#aP 9.6 在Design中加入堆栈进行计算 6|{&7=1t 10 光学镀膜色彩 *W^a<Zm8> 10.1 介绍 l!KPgRw 10.2 色彩 )v11j.D 10.3 主色调和纯度 B[6k
[Vs 10.4 色度和浓度 ;< |