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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark J?o 译:讯技科技股份有限公司 <- \|>r Q 校:讯技科技股份有限公司 v0DDim?cc 7P1Pk?pxy 书籍概况: Vuz.b.,i` ) H,Xkex Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 V,-we|" 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 !1l~UB_ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 }Ulxt:}
KQr+VQdq> 书籍目录 0:V/z3? 9,?~dx 1 引言 afrF%! 2 光学薄膜基础 D40 vCax^J 2.1 一般规则 Ll]5u~ 2.2 正入射规则 neFwxS? 2.3 斜入射规则 Cx TAd[az 2.4 精确计算
*L^W[o 2.5 相干性 rI>x'0Go* 3 Essential Macleod的快速预览 $yx\2 4 Essential Macleod的特点 @1*^ttC 4.1 容量和局限性 Rzd`MIHDp 4.2 程序在哪? %n| 4.3 数据文件 w~@"r#- 4.4 设计规则 |0[Buh[_:c 4.5 材料数据库和目录库 ${T/b(NM 4.5.1 材料数据库及导入材料 h4]^~stI 4.5.2 材料目录库 `\( ?^]WLa 4.5.3 导出材料数据 2F2Hl 4.6 常用单位 cQEUHhRg! 4.7 插值 !+SL=xy!{ 4.8 材料数据的平滑 RRja{*R 4.9 一般文档编辑规则 L"b&O<No 4.10 设计文档 0x<ASfka 4.10.1 公式 {T8;-H0H 4.10.2 更多关于膜层厚度 I# tlaz# 4.10.3 沉积密度 z|>TkCW6 4.10.4 性能计算 "W(D0oy 4.10.5 保存设计和性能 h`6 (Oo| 4.10.6 默认设计 ZVXPp-M 4.11 图表 `0Udg,KOs 4.11.1 合并曲线图 V#Wy`
ce 4.11.2 自适应绘制 v6 5C
j2ec 4.11.3 动态参数图 s, Gl{ 4.11.4 3D绘图 e* [wF})) 4.12导入和导出 BdD]HXB|_ 4.12.1 剪贴板 :Q`Of}# 4.12.2 不通过剪贴板导入 _}5vO$kdO 4.12.3 不通过剪贴板导出 xUn"XkhP 4.13 背景(Context) H@(O{ 9Yl; 4.14 扩展公式 - 生成设计 Bc8&-eZ, 4.15 生成Rugate 5|rBb[ 4.16 参考文献 5len}){ 5 在Essential Macleod中建立一个Job !Q>xVlPVu 5.1 Jobs toA}0MI(: 5.2 创建一个新的Job FxlH;'+Q 5.3 输入材料 8c) eaDu 5.4 设计数据文件夹 UV2W~g 5.5 默认设计 nVs@DH 6 细化和合成 /bykIUTKI 6.1 最优化导论 54p{J 6.2 细化 BvP\c_ 6.3 合成 @1oX 6.4 目标和评价函数 $z_yx
`5 6.4.1 目标输入 20}HTV{v 6.4.2 目标关联 5M=U*BI 6.4.3 特殊的评价函数 {<{VJGY7T 6.5 膜层锁定和关联 h3
HUdu 6.6 优化技术 o<5`uV!f 6.6.1 单纯形 ?;RY/[IX6 6.6.1.1单纯形参数 OkC.e')Vx 6.6.2 Optimac r:sa|+ 6.6.2.1 Optimac参数 2B4.o*Q\ 6.6.3 模拟退火算法 syr0|K[ 6.6.3.1退火参数 sV#%U%un 6.6.4 共轭梯度 k<1i.rh 6.6.4.1共轭梯度参数 i@9
qp?eb 6.6.5 拟牛顿法 YXp\C"~g 6.6.5.1 拟牛顿法参数: -1dD~S$ 6.6.6 针形合成 8)S)!2_h 6.7 我应该使用哪种技术? 7> f2P!: 6.7.1 细化 bhD-;Y!6; 6.7.2 合成 Gbhw7
(& 6.8 参考文献 (wL$h5SG 7 导纳图和其他工具 hj1;f<'
U 7.1 介绍 W_@ b. 1 7.2 导纳变换 u43Mo\"<&% 7.2.1 四分之一波长规则 ,6]ID1o:y 7.2.2 导纳轨迹图 #;8)UNc)} 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 ,Mw93Kp
Va 7.4 全介质抗反射膜的应用 VKPEoy8H 7.5 对称周期结构 9<3( QR 7.6 参考文献 $*eYiz3Ue 8.典型的镀膜实例 f2c<-}wR 8.1 单层抗反射膜 A_TaXl( 8.2 1/4-1/4抗反射膜 s O#cJAfuu 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 U LS>v 8.4 W-膜层 {-I+ 8.5 V-膜层 <6;M\:Y*T 8.6 高折射基底V-膜层 $Z;8@O3 8.7 高折射率基底b V-膜层 {*;8`+R& 8.8 1/4-1/4高折射率基底 Y[e.1\d' 8.9 四层抗反射膜 9gA@D%0 8.10 Reichert抗反射膜 Hx6ODj[- 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 }-:B`:K& 8.12 宽波段6层抗反射膜 O`CZwXD 8.13 宽波段8层抗反射膜 tC'#dU`=qY 8.14 宽波段25层抗反射膜 k(G6` dY 8.15 四层2-1 增透膜 P]m{\K 8.16 1/4波长堆栈 3~fi#{ 8.17 陷波滤光器 <SJ6<' 8.18 Rugate 1^^{;R7N 8.19 消偏振分光片1 GI{EP& |