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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark o3kt0NuF, 译:讯技科技股份有限公司 CDwFVR'_Af 校:讯技科技股份有限公司 ]%vGC^ v@}1WGY 书籍概况: 8`R +y i-K"9z|) Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 r7]?g~zb 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ifgr<QlG 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 LOyCx/n WF3DGqs_] 书籍目录 |wyJh"4!
UH1S_:6 1 引言 2l\D~ y 2 光学薄膜基础 \E ? iw.} 2.1 一般规则 @8 oDy$j 2.2 正入射规则 EL2 hD$ 2.3 斜入射规则 [F BCz> 2.4 精确计算 ?
bUpK 2.5 相干性 #NVF\ 3 Essential Macleod的快速预览 76u/WC>B 4 Essential Macleod的特点 3_R 4.1 容量和局限性 c"QkE* 4.2 程序在哪? ;?O883@r8 4.3 数据文件 %O4}i@Fe 4.4 设计规则 +*r**(-Dm 4.5 材料数据库和目录库 )$Dcrrj 4.5.1 材料数据库及导入材料 #*7/05) 4.5.2 材料目录库 a@V/sh 4.5.3 导出材料数据 g~$GE},, 4.6 常用单位 +cE tm 4.7 插值 6|"!sW`%N 4.8 材料数据的平滑 9$\;voo 4.9 一般文档编辑规则 Ndug9j\2 4.10 设计文档 cA (e"N 4.10.1 公式 9wYtOQ{g 4.10.2 更多关于膜层厚度 wn A%Nh7 4.10.3 沉积密度 q|]0on~] 4.10.4 性能计算 |)72E[lL 4.10.5 保存设计和性能 7S~9E2N 4.10.6 默认设计 DS,FVh".| 4.11 图表 EZwdx 4.11.1 合并曲线图 D-b2E6o6 4.11.2 自适应绘制 5shu76 4.11.3 动态参数图 A 4W 4.11.4 3D绘图 ~QEXB*X-g' 4.12导入和导出 PhI6dB` 4.12.1 剪贴板 ZR01<V 4.12.2 不通过剪贴板导入 |au qj2 4.12.3 不通过剪贴板导出 ,Dii?P 4.13 背景(Context) *|,ykb> 4.14 扩展公式 - 生成设计 " jQe\ 4.15 生成Rugate :z0>H5 4.16 参考文献 gA6h5F)_ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 0@FM^ejA# 5.1 Jobs jcv1z v. 5.2 创建一个新的Job dD.d?rnZq7 5.3 输入材料 "aCb;2Rs 5.4 设计数据文件夹 KZ<RDXV T 5.5 默认设计 j~L1~@ 6 细化和合成 #Wc #fP 6.1 最优化导论 Vw;ldEdx 6.2 细化 c]>&6-;rf 6.3 合成 ;iC'{S 6.4 目标和评价函数 ID)gq_k[8, 6.4.1 目标输入 &fd4IO/O 6.4.2 目标关联 6nWx>R< 6.4.3 特殊的评价函数 @aV~.!! 6.5 膜层锁定和关联 @gqs4cg{f 6.6 优化技术 1={Tcq\] 6.6.1 单纯形 <Ec)m69P 6.6.1.1单纯形参数 g=YiR/O1QN 6.6.2 Optimac ,I&0#+}n 6.6.2.1 Optimac参数 r(in]7 6.6.3 模拟退火算法 _9-D3_P[3 6.6.3.1退火参数 UK<DcM~n 6.6.4 共轭梯度 IL6f~! 6.6.4.1共轭梯度参数 ^3)2]>pW 6.6.5 拟牛顿法 `7qp\vYL 6.6.5.1 拟牛顿法参数: /jn3'q_, 6.6.6 针形合成 lKhh=Pc2 6.7 我应该使用哪种技术? QH' [( 6.7.1 细化 6[h$r/GXh" 6.7.2 合成 ,fG_'3wb 6.8 参考文献 }
Ved 7 导纳图和其他工具 =E~5&W7 7.1 介绍 ?5YmE(v7 7.2 导纳变换 -^jLU
FC 7.2.1 四分之一波长规则 Mm7n?kb6 7.2.2 导纳轨迹图 cD`O+WA2K 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 6j"I5,-~! 7.4 全介质抗反射膜的应用 v4>"p!_C 7.5 对称周期结构 4d._Hd=' 7.6 参考文献 6L> "m0 8.典型的镀膜实例 ^'I5]cRa 8.1 单层抗反射膜 ^RyTK|SQ 8.2 1/4-1/4抗反射膜 E e\-q 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 +j: Ld( 8.4 W-膜层 KJ^GUqVl 8.5 V-膜层 Ufe 8.6 高折射基底V-膜层 rUpAiZfz > 8.7 高折射率基底b V-膜层 hUhp2ibEs 8.8 1/4-1/4高折射率基底 kbT-Oz 2 8.9 四层抗反射膜 JX0_UU 8.10 Reichert抗反射膜 U9fF;[g 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 5F sj_wFk 8.12 宽波段6层抗反射膜 2d;xAX ] 8.13 宽波段8层抗反射膜 PM<LR?PLc 8.14 宽波段25层抗反射膜 D:vUy* 8.15 四层2-1 增透膜 ~5!TV,>ls 8.16 1/4波长堆栈 g#%FY1xp 8.17 陷波滤光器 L8tLW09 8.18 Rugate
<d&)|W 8.19 消偏振分光片1 8Pdnw/W 8.20 消偏振分光片2 g7z9i[ 8.21 消偏振立体分光片 ^t
ldm7{_ 8.22 消偏振截止滤光片 ftH%, /, 8.23 偏振立体分光片1 "sx& |