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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark P>Euq'ajX 译:讯技科技股份有限公司 C#;jYBtT7? 校:讯技科技股份有限公司 8e~|.wOL 69y;`15 书籍概况: A=zPLq{Sb M]v=- Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Qe"pW\ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 fQK"h
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 /Ss7"*JLe
6 Si-u 书籍目录 iZ3W"Vd`b UM*jKi2]" 1 引言 |wE3UWsy 2 光学薄膜基础 -m=
8&B 2.1 一般规则 HBE.F&C88 2.2 正入射规则 PYRd]%X 2.3 斜入射规则 p}b/XnV$~ 2.4 精确计算 q_W0/Ki8 2.5 相干性 SHb(O<6 3 Essential Macleod的快速预览 bOp54WI-g 4 Essential Macleod的特点 R
#]jSiS 4.1 容量和局限性 l%R50aL 4.2 程序在哪? h0Z{,s} 4.3 数据文件 y;?ie]3G 4.4 设计规则 { x0 t 4.5 材料数据库和目录库 ]{~NO{0@Y 4.5.1 材料数据库及导入材料 1=7jz]t 4.5.2 材料目录库 5Ky#GuC 4.5.3 导出材料数据 jeyLL< 4.6 常用单位 |IoB?^_h 4.7 插值 4n1; Bh$ 4.8 材料数据的平滑 + 1IQYa| 4.9 一般文档编辑规则 /y7M lU9 4.10 设计文档 =$8nUX` 4.10.1 公式 kPBV6+d~ 4.10.2 更多关于膜层厚度 L\{IljA 4.10.3 沉积密度 r,goRK. 4.10.4 性能计算 '1fNBH2 4.10.5 保存设计和性能 t%zpNd2lk 4.10.6 默认设计 l JP1XzN_ 4.11 图表 O|A_PyW 4.11.1 合并曲线图 ]9=h%5Ji> 4.11.2 自适应绘制 @pI5lh 4.11.3 动态参数图 $P7iRM] 4.11.4 3D绘图 I-]>d;4. 4.12导入和导出 Q(d9n8 4.12.1 剪贴板 !J*,)kRN 4.12.2 不通过剪贴板导入 kL7#W9 4.12.3 不通过剪贴板导出 ffXyc2o 4.13 背景(Context) G'zF)0oD 4.14 扩展公式 - 生成设计 #eU.p&Zc 4.15 生成Rugate C.^Ven 4.16 参考文献 XS0xLt= 5 在Essential Macleod中建立一个Job HBys 5.1 Jobs V]c;^ 5.2 创建一个新的Job @\oz4^ 5.3 输入材料 cWGDee( 5.4 设计数据文件夹 b5IA"w 5.5 默认设计 _ 7PMmW@ 6 细化和合成 cr?7O;, 6.1 最优化导论 &~UJf4b|A 6.2 细化 i`/+,< 6.3 合成 FG3UZVUg9 6.4 目标和评价函数 6qe*@o 6.4.1 目标输入 m|=Ecu 6.4.2 目标关联 KV|}# <dD 6.4.3 特殊的评价函数 -S,ln 6.5 膜层锁定和关联 ;
UiwH 6.6 优化技术 ;Z j]~| 6.6.1 单纯形 k *R<, 6.6.1.1单纯形参数 @`-[;?> 6.6.2 Optimac gx03xPeu 6.6.2.1 Optimac参数 Iu~\L0R427 6.6.3 模拟退火算法 V Km!Ri$ 6.6.3.1退火参数 /!}'t 6.6.4 共轭梯度 v{i7h|e 6.6.4.1共轭梯度参数 Mfk2mIy 6.6.5 拟牛顿法 e&MC|US=\ 6.6.5.1 拟牛顿法参数: >vrxP8_
6.6.6 针形合成 <]C$xp<2 6.7 我应该使用哪种技术? k{tMzx]F__ 6.7.1 细化 SxyONp.$\ 6.7.2 合成 (vR 9H(# 6.8 参考文献 Y=Z1Tdxa| 7 导纳图和其他工具 EA.D}X C 7.1 介绍 vN4Qdpdb 7.2 导纳变换 C^t(^9 7.2.1 四分之一波长规则 E6Rz@"^XV 7.2.2 导纳轨迹图 E^_wI> 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 IdIrI 7.4 全介质抗反射膜的应用 p
<eC<dtu 7.5 对称周期结构 41#w|L
\ 7.6 参考文献 Mh(]3\ 8.典型的镀膜实例 k~%<Ir1V] 8.1 单层抗反射膜 t3Z_Dp~\ 8.2 1/4-1/4抗反射膜 `"i Y* 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 wn
Y$fT9 8.4 W-膜层 j4FeSGa 8.5 V-膜层 -K(fh#<6KO 8.6 高折射基底V-膜层 d;Hn#2C 8.7 高折射率基底b V-膜层 &"_u}I&\ 8.8 1/4-1/4高折射率基底 kE.x+2 8.9 四层抗反射膜 $d+DDm1o 8.10 Reichert抗反射膜 rzrl>9
h 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 M)?dEgU}M 8.12 宽波段6层抗反射膜 `=#01YX[0 8.13 宽波段8层抗反射膜 6,1b=2G 8.14 宽波段25层抗反射膜 ]U[X1W+@ 8.15 四层2-1 增透膜 NT%W;)6m9 8.16 1/4波长堆栈
gB\T[RV 8.17 陷波滤光器 ggtDN{t 8.18 Rugate C0.'_ 8.19 消偏振分光片1 gw+9x<e 8.20 消偏振分光片2 {qKxz9.y 8.21 消偏振立体分光片 IM=bK U 8.22 消偏振截止滤光片 E{=2\Wkcp 8.23 偏振立体分光片1 s"=6{EVqk3 8.24 偏振立体分光片2 [~W`E1, 8.25 缓冲层 8 9{HJ9} 8.26 红外截止滤光片 zWw2V}U! 8.27 21层长波通过光片 & |