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作者:美国Angus Macleod 、Christopher Clark }SHF 译:讯技科技股份有限公司 +%%FT#ce 校:讯技科技股份有限公司 3Q^@!hu z<~gv" 书籍概况: 2U6j?MyH2 dq?q(_9 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 [o)P 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Angus Macleod先生60多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 <o5+*X 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 i]Or'L0c Qci<cVgP 书籍目录 Z3=DM=V;v ,[IN9W 1 引言 5fS89?/? 2 光学薄膜基础 `Nnqdc2 2.1 一般规则 f<A Bs4w 2.2 正入射规则 '\dau> 2.3 斜入射规则 4.bL>Y>c 2.4 精确计算 Y418k 2.5 相干性 =)C}u6 3 Essential Macleod的快速预览 (6p5Fo 4 Essential Macleod的特点
>lqWni 4.1 容量和局限性 hQrO8T?2 4.2 程序在哪? GYot5iLg 4.3 数据文件 _Tyj4t0ElV 4.4 设计规则 WF<0QH 4.5 材料数据库和目录库 : g/H N9 4.5.1 材料数据库及导入材料 }2M2R}D 4.5.2 材料目录库 $~4ZuV% 4.5.3 导出材料数据 v"Bv\5f,Ys 4.6 常用单位 H@er" boi 4.7 插值 Y'kD_T`f, 4.8 材料数据的平滑 aX6.XHWbDf 4.9 一般文档编辑规则 _T^ip.o 4.10 设计文档 ^1U2&S 4.10.1 公式 u2'xM0nQ 4.10.2 更多关于膜层厚度 r7sPFM 4.10.3 沉积密度 Dm6WSp1|b 4.10.4 性能计算 N4"%!.Y 4.10.5 保存设计和性能 6l IFxc 4.10.6 默认设计 eFvw9B+ 4.11 图表 .EGZv(rz& 4.11.1 合并曲线图 &O(z|-&| x 4.11.2 自适应绘制 :h1itn 4.11.3 动态参数图 `bO+3Y'5 4.11.4 3D绘图 {U4BPKof 4.12导入和导出 6R5) &L 4.12.1 剪贴板 #X7fs5$& 4.12.2 不通过剪贴板导入 ZbCu -a{v 4.12.3 不通过剪贴板导出 nm66U4.@ 4.13 背景(Context) [|V<e+>T/ 4.14 扩展公式 - 生成设计 Zr'VA,v 4.15 生成Rugate ws4a(1 4.16 参考文献 ?f[#O&# 5 在Essential Macleod中建立一个Job VN|P(S6 5.1 Jobs 3]0ETcT 5.2 创建一个新的Job R@t?!`f!+ 5.3 输入材料 25h.u>6@{ 5.4 设计数据文件夹 $I!vQbi 5.5 默认设计 u*Eb4 6 细化和合成 k2N[B(&4J 6.1 最优化导论 71nXROB 6.2 细化 S/]2Qt#T 6.3 合成 30g-J(Zg 6.4 目标和评价函数 hf>JW[>Xo 6.4.1 目标输入 (4n 8[ 6.4.2 目标关联 a/X@5kr{ 6.4.3 特殊的评价函数 hT9fqH 6.5 膜层锁定和关联 Lm"a3Nb 6.6 优化技术 U,Nf&g 6.6.1 单纯形 "zR+} 6.6.1.1单纯形参数 ]H) x 6.6.2 Optimac )Ve?1?s '8 6.6.2.1 Optimac参数 q(i| 6.6.3 模拟退火算法 Dms6"x2 6.6.3.1退火参数 {,|*99V 6.6.4 共轭梯度 FkR9-X< 6.6.4.1共轭梯度参数 |i7|QLUT 6.6.5 拟牛顿法 XKLkJZN 6.6.5.1 拟牛顿法参数: JadXd K=gE 6.6.6 针形合成 rgdDkWLXC 6.7 我应该使用哪种技术? #-1 ; 6.7.1 细化 B@G'6 ? 6.7.2 合成 ?8fa/e 6.8 参考文献 ` *x;&.&v 7 导纳图和其他工具 0Pu$1Fp 7.1 介绍 ] 7_ f'M1F 7.2 导纳变换 z%(m:/N70 7.2.1 四分之一波长规则 )FGm5-K@ 7.2.2 导纳轨迹图 wlKfTJrn& 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 ])egke\! 7.4 全介质抗反射膜的应用 /`>BPQH`} 7.5 对称周期结构 d%NO_=I. 7.6 参考文献 SaMg)s~B 8.典型的镀膜实例 i5w 8.1 单层抗反射膜 c?"#x-<1s 8.2 1/4-1/4抗反射膜 L+7L0LbNU 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射膜 h)7{Cj 8.4 W-膜层 l4u_Z:<w 8.5 V-膜层 kUUeyq 8.6 高折射基底V-膜层 q3TAWNzI0 8.7 高折射率基底b V-膜层 &z8@ rk| 8.8 1/4-1/4高折射率基底 x6\EU=, 8.9 四层抗反射膜 Zsc710_ 8.10 Reichert抗反射膜 puA~}6C 8.11 可见光和1.06um抗反射膜 g"c\ouSY 8.12 宽波段6层抗反射膜 uV`r_P 8.13 宽波段8层抗反射膜 }&Ngh4/ 8.14 宽波段25层抗反射膜 j[k&O)A{C 8.15 四层2-1 增透膜 <xOXuve 8.16 1/4波长堆栈 [U.3rcT"N 8.17 陷波滤光器 o(Yfnnuy 8.18 Rugate d}j%.JJK 8.19 消偏振分光片1 v8W .84e- 8.20 消偏振分光片2 ;D&FZ|`(u 8.21 消偏振立体分光片 EE(1;]d- 8.22 消偏振截止滤光片 2'Cwx-_G` 8.23 偏振立体分光片1 <0g.<n, 8.24 偏振立体分光片2 pSvRyb.K 8.25 缓冲层 0sM{yGu=, 8.26 红外截止滤光片 =v]\{. 8.27 21层长波通过光片 109dB$+$ 8.28 49层长波通滤光片 F=!p7msRB 8.29 55层长波通滤光片 q@8Jc[\d 8.30 宽带通滤光片 c1B< |