切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • ZEMAX光学系统设计实战 Zemax光学设计从基础到实践 成像衍射光学元件设计及应用 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 1340阅读
    • 0回复

    [技术]TRCX：掺杂过程分析 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    5423
    光币
    21295
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-12-30
    在 LTPS 制造过程中，使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时，应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容，并分析有源层离子注入前后的电位分布，如下图所示。 V^s0fWa  
    C#0Qd%  
    nw:-J1kWR  
     7V7zGx+Z7  
    hsRvr`#m|  
     e GL1  
    (a)FIB !^c@shLN4  
    ~nLN`H d  
     ,5 j"ruZ  
    (b) 掺杂前后对比
    *XOJnyC_H  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表