[讨论]磁控溅射镀膜电子损伤 [复制链接]

各位大佬，磁控溅射镀膜过程中的电子损伤能用什么办法检测出来嘛，电子损伤有什么办法将其消除或者规避掉嘛？

是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ FL8g5I  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 ZR$'u%+g'  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， K =wBpLB  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 rHf&:~   

ouyuu:是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ h?-#9<A  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 ,+g&o^T  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， L{E^?iX  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 kNT}dv]<  
 (2021-12-16 11:58)  hoT/KWD,  

f30Pi1/h=c  
好滴，谢谢。这个电子损伤主要是溅射沉积过程中产生的电子，包括二次电子，应该不包括静电。

这样…… &20P,8@  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 U!XS;a)
 
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 <xJ/y|{  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？

ouyuu:这样…… kl1Y] ?z}  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 j<pw\k{i  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 9kKnAf4Z  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？ (2021-12-24 11:13)   ni  

*QM~O'WhD  
好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射

hxn123:好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射 (2021-12-28 23:10)  N4^5rrkL  

4cCF\&yU  
是的。