[讨论]磁控溅射镀膜电子损伤 [复制链接]

各位大佬，磁控溅射镀膜过程中的电子损伤能用什么办法检测出来嘛，电子损伤有什么办法将其消除或者规避掉嘛？

是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ %$zak@3%'  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 Rl cL(HM  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， HN367j2e  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 vS~tr sI  

ouyuu:是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ Q'=7#_  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 1(T2:N(M-A  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， j|[$P4w}U  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 R73@!5N%  
 (2021-12-16 11:58)  $'>iNMtK{p  

Q'^'G>MBJ  
好滴，谢谢。这个电子损伤主要是溅射沉积过程中产生的电子，包括二次电子，应该不包括静电。

这样…… Xsanc@w)^C  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 b-VQn5W  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 JDa_;bqL  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？

ouyuu:这样…… M`=\ijUwN  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 `T%nGVl>\  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。  iSX:H;  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？ (2021-12-24 11:13)  &Nr+-$  

v?nGAn  
好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射

hxn123:好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射 (2021-12-28 23:10)  JV2[jo}0N  

MpJ3*$Dr  
是的。