[讨论]磁控溅射镀膜电子损伤 [复制链接]

各位大佬，磁控溅射镀膜过程中的电子损伤能用什么办法检测出来嘛，电子损伤有什么办法将其消除或者规避掉嘛？

是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ _6hQ %hv8  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 fU}ub2_in  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， 7S:\"A7  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 P3=G1=47U  

ouyuu:是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ Zu[su>\  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 v\ )W?i*l  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， 4+8@`f>s  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 ^ZcGY+/~  
 (2021-12-16 11:58)  tyFzSrfc  

XpHrt XD  
好滴，谢谢。这个电子损伤主要是溅射沉积过程中产生的电子，包括二次电子，应该不包括静电。

这样…… &h/Xku&0  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 3=j"=-=  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 h2R::/2.  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？

ouyuu:这样…… ,ig/s2ZG6X  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 OjA,]Gv6  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 V0mn4sfs  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？ (2021-12-24 11:13)  YoFxW5by  

VIf.q)_k  
好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射

hxn123:好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射 (2021-12-28 23:10)   9gZ$
 

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是的。