[讨论]磁控溅射镀膜电子损伤 [复制链接]

各位大佬，磁控溅射镀膜过程中的电子损伤能用什么办法检测出来嘛，电子损伤有什么办法将其消除或者规避掉嘛？

是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ >x6\A7  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 JJ)  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， 6/wC StZ  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 n Yx[9HN  

ouyuu:是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ O`_, _  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 Y>c+j  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， mc
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属于保密范畴，网上是问不到结果的。 .*"KCQGOgM  
 (2021-12-16 11:58)  SCn)j:gH;  

_@)-#7  
好滴，谢谢。这个电子损伤主要是溅射沉积过程中产生的电子，包括二次电子，应该不包括静电。

这样…… %)d7iT~M  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 G"L`9E<0V  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 i;qij[W.z  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？

ouyuu:这样…… 2o1WXE %$  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 M*Q}^<E*  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 BbL]0i  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？ (2021-12-24 11:13)  CQ{{J{pU"  

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好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射

hxn123:好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射 (2021-12-28 23:10)  qa8?bNd'f  

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是的。