[讨论]磁控溅射镀膜电子损伤 [复制链接]

各位大佬，磁控溅射镀膜过程中的电子损伤能用什么办法检测出来嘛，电子损伤有什么办法将其消除或者规避掉嘛？

是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ G/4~_\YMq  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。
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有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， \$W\[s4I  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 Q/]t$  

ouyuu:是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ se*!OiOt  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 e'T|5I0K  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， 9s&dN   
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 o}e]W,  
 (2021-12-16 11:58)  @n^2UJ  

1T0s UIY  
好滴，谢谢。这个电子损伤主要是溅射沉积过程中产生的电子，包括二次电子，应该不包括静电。

这样…… `M!'PMX  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 N) '|l0x0  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 q$kx/6=k  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？

ouyuu:这样…… <x1,4a~  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 tS[%C)  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 R<Ct{f!  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？ (2021-12-24 11:13)  3XhLn/@  

: 2A\X' @  
好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射

hxn123:好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射 (2021-12-28 23:10)  <1E5[9 q  

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是的。